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Fターム[4H006AA01]の内容

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Fターム[4H006AA01]に分類される特許

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【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式(I)で表される酸発生剤及び式(II)で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。


[Q及びQは、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。Xは、2価のC1-17飽和炭化水素基を表す。Yは、炭素数3〜36の飽和環状炭化水素基を表す。Rは、水素原子又はメチル基を表す。Xは、単結合又は−[CH−を表す。kは、1〜8の整数を表す。Yは、炭素数4〜36の飽和環状炭化水素基を表す。] (もっと読む)


【課題】 発光効率の優れた新規有機化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式[I]で示されることを特徴とするインデノベンゾアントラセン化合物を提供する。
【化1】
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【課題】有機圧電材料として圧電性が高く、且つ耐熱性に優れた新規材料、及びそれを用いた超音波探触子を提供することにある。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする有機圧電材料。
【化1】


(式中、X及びXは炭素原子または窒素原子を表す。Y及びYは水素原子または置換基を表し、n1及びn2は0〜4の整数を表す。R、R、R及びRは水素原子または置換基を表す。Q及びQは酸素原子または硫黄原子を表し、Wは単結合または酸素原子を表す。mは0以上の整数を表す。pは5以上の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】 新規ピレン化合物を提供する。
【解決手段】 一般式(1)で表される新規ピレン化合物。FLはフルオレニル基を表す。A1はベンゼン環、ナフタレン環、またはフルオレン環を表す。A2はアリール基を表す。これらは置換基を有していても良い。
【化1】
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エステル組成物、溶媒、洗浄剤、硬化剤、反応性希釈用溶媒、制御酸機能放出剤、ポリオール単量体、掘削泥水およびこれらの製造方法および使用方法を開示する。開示する組成物は、a)ヒドロキシカプロン酸メチルを約10から60重量%、b)アジピン酸ジメチルを約20から80重量%、c)グルタル酸ジメチルを約1から15重量%、d)こはく酸ジメチルを約0.1から5重量%、e)少なくとも1種のシクロヘキサンジオールを約0.1から7重量%およびf)オリゴマー状エステルを約20重量%未満、含有して成る。 (もっと読む)


【課題】アミロイドおよびシヌクレインの形成、堆積、蓄積および/または残留を阻止するための治療薬としての新規化合物もしくは薬剤を発見する。
【解決手段】ビス−およびトリス−ジヒドロキシアリール化合物、およびそのメチレンジオキシ・アナログ、および薬学的に許容されるエステル、その合成、それらを含む医薬組成物、およびアミロイド疾患の、特にAβアミロイド症(例えばアルツハイマー病で観察される)、IAPPアミロイド症(例えばタイプ2型糖尿病で観察される)、およびシヌクレイノパチー(例えばパーキンソン病で観察される)の処置におけるその使用、および該処置のための医薬の製造における使用を提供する。 (もっと読む)


【課題】高い殺虫効果を有するアミド誘導体と該アミド誘導体を含有する殺虫剤を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)


{Aは、炭素原子、酸素原子、窒素原子等を示し、KはAと共にベンゼン環などを形成するのに必要な原紙群を示し、Zは−C(=G)Q(式中、Gは酸素原子などを示し、Qは置換フェニル基、置換複素環基、C1−C6アルキル基、C1−C6ハロアルキル基等を示す)等を示し、Xはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロアルキル基、ハロアルキルチオ基、ハロアルキルスルホニル基等を示し(但しXの少なくとも1つはニトロ基である)、nは1〜4の整数を示し、Gは酸素原子などを示し、Qは置換フェニル基等を示し、R、Rは水素原子、C1−C4アルキル基等を示す。}で表されるアミド誘導体およびこれを有効成分として含有する殺虫剤である。 (もっと読む)


本発明は、ポリチオエステルのビルディングブロックとして好適な、式(II)




(式中、Xは、O、N、またはSであり、R1は、(−CH−)、−CH−O−CH−、または(−CH−)から選択され、R2は、好ましくは、ポリ(乳酸)(PLLA)、ポリグリコール酸(PGA)、PLAおよびPGAのコオリゴマーもしくはコポリマー(PLGA)、ポリ(無水物)、ポリ(トリメチレンカーボネート)、ポリ(オルトエステル)、ポリ(ジオキサノン)、ポリ(ε−カプロラクトン)(PCL)、またはポリエステルアミドから選択される生分解性オリゴマーまたはポリマーから選択され、n>1である)に従うチオ酸に関する。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1−1)で表される化合物を含むレジスト組成物。[式中、R51〜R53はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、R51〜R53のうち少なくとも1つは水素原子の一部が下記一般式(b10−1)で表される基で置換された置換アリール基であり、R51〜R53のうち、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。]
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固体Mn+(HDO)n塩(式中、HDOはN’−ヒドロキシ−N−シクロヘキシルジアゼニウムオキシドであり、およびMn+は金属カチオンである)を製造するための方法であって、アミン類の存在下で一価カチオンを備えるHDO塩のアルカリ溶液から酸を用いた沈降および穏和な条件下で乾燥させる工程による方法。 (もっと読む)


【課題】ディスコティック液晶に強誘電性を付加することにより、有機圧電材料として圧電性が高く、且つ耐熱性に優れた新規材料を提供することにある。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする有機圧電材料。
【化1】


(式中、Arはベンゼン、ベンゾキノン、アントラキノン、トリフェニレン、トルクセン、トリシクロキナゾリン、ジベンゾピレンのいずれかを示す。Q及びQは酸素原子または硫黄原子を表す。R、R、R及びRは水素原子または置換基を表す。W及びWは置換基を表す。L及びLは単結合または2価の連結基を表す。n及びmは1以上の整数を表す。但し、n及びmの和は2〜8の整数である。) (もっと読む)


【課題】高い効率と長寿命の有機電気発光素子を提供することができる非対称構造の有機電気発光素子用アリールアミン誘導体を提供すること。
【解決手段】中心構造のアリール化合物であるArに置換基として2級アミンと3級アミンを導入し、分子の構造内に対称軸及び対称面を有しないようにした下記化学式1で表されることを特徴とする非対称構造の有機電気発光素子用アリールアミン誘導体。



[前記化学式1において、Arは炭素数10〜20の2価のアリール基であり、Arは2価の炭素数6〜30のアリール基であり、Ar〜Arは置換位置がそれぞれ独立な炭素数6〜30のアリール基であり、Arの2級アミンと3級アミンの置換位置が対称である場合、Ar〜Arのうち少なくとも一つが異なる構造を有し、Arの2級アミンと3級アミンの置換位置が非対称である場合、Ar〜Arは同じであるか異なる構造を有する。] (もっと読む)


式(I):
【化1】


[式中、R1、R2及びR3は、水素、場合により置換されていることができるアルキル基及び場合により置換されていることができるアリール基より成る群から独立して選ばれるか、あるいはR1及びR3は5〜8員環の形成に必要な原子を示し;p、w、y及びzはすべて整数であり、yは1〜6の値を示し;pはwとzの和を示し;pは1〜6の値を示し;w=1〜(p−z)であり、且つz=0〜(p−w)であり;Lは、1〜14個の炭素原子を含んでなる場合により置換されていることができる(p+y)−価の連結基を示し;Aはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、マレート基、フマレート基、イタコネート基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基及びビニルエステル基より成る群から選ばれるラジカル重合可能な基を示し;そしてXは、化学線に暴露されるとフリーラジカル重合反応を開始させることができる少なくとも1個の基を含む光開始部分を示す]
により示される重合可能光開始剤。重合可能光開始剤を含む放射線硬化性組成物及び重合可能光開始剤の製造方法も開示されている。
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【課題】フォトレジスト基材の材料を提供する。
【解決手段】純度が90%以上の下記式(1)又は式(2)のいずれか一方のみで表される化合物。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 前記酸発生剤成分(B)は、一般式(I)[式中、Rは水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜30の有機基であり、Qは単結合又は2価の連結基である。]で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
[化1]
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本発明は、皮膚の汚染部位から体内へのアクチニドの移動を防止または制限するための、カリックスアレーンの使用に関する。 (もっと読む)


【課題】優れた発光特性を持ち、安定性が高いインデノベンゾアントラセン化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式[I]で示されることを特徴とするインデノベンゾアントラセン化合物を提供する。


(式中、Arは置換あるいは無置換の縮合多環基を表す。) (もっと読む)


【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なUV硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供すること。
【解決手段】1,2,4−トリ(メタ)アクリロイルオキシナフタレン化合物(ナフタレン基の置換基はX、Y[3位]であり、X、Yは同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基のいずれかを示す。)及び当該化合物と光ラジカル重合開始剤を含有する重合性組成物。 (もっと読む)


【課題】新規なベンゾインデノクリセン化合物、これを含有する高効率、高輝度な有機発光素子の提供。
【解決手段】下記一般式[1]に示されるベンゾインデノクリセン化合物、並びに該化合物を発光層に含有する有機発光素子。


(式[1]において、X1乃至X16は、それぞれH、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換あるいは無置換のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アリールオキシ基等を表す。) (もっと読む)


化合物:
−O−(CF−CF=CF(II)
(式中、Rは、1つ以上の酸素原子で中断されるフッ素化直鎖又は分枝鎖アルキル残基を表し、nは0又は1である)を、水及び有機溶媒を含む反応媒体中でZ−アニオン(Z−アニオンは、CN、SCN及びOCN又はこれらの組み合わせから選択される)と処理する工程による飽和部分フッ素化アルコキシカルボン酸又はその塩の調製方法。
一般式:
−O−(CF−CFH−CF−Z(I)
(式中、Rは上記のように定義したものであり、nは0又は1であり、Zはニトリル(−CN)基、アジド(−N)基、チオシアネート(−SCN)基又はシアネート(−OCN)基である)の部分フッ素化エーテルの製造方法であって、前記方法が、一般式(II)(式中、Z−アニオンがCN、OCN、SCN又はNである)のフッ素化オレフィンを処理する工程を含む、方法。ZがSCN、OCN及びNから選択される、上述の一般式(I)の化合物。
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