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Fターム[4H006EA22]の内容

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【課題】半導体素子のバンプ形成などに用いられる厚膜レジストパターンなどの製造に有用であり、当該レジストパターンが裾引きの発生が極めて抑制されたものである化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】樹脂(A)、酸発生剤(B)及び
式(X)


(式(X)中、
Rは、水素原子、アルキル基、アリール基などを表す。
2つのR'は、水素原子、アルキル基、アリール基などを表すが、2つのR'が互いに結合し、これらが結合する炭素原子とともに環を形成する。)
で表される化合物(X)を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。 (もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】PCBの無害化処理を効率よく連続的に行うことができるPCBの無害化処理方法を提供する。
【解決手段】固定環状体20と回転円盤10を有する処理チャンバ1内に不活性ガス4を供給しながら、PCB液と灯油が重量比で10:90〜80:20である混合液、およびPCB中の塩素と同当量で平均粒径1μm〜3μmの金属ナトリウムを浮遊分散させている処理液を該チャンバに底部より供給し、該回転円盤を10,000rpm〜18,000rpmで回転させると共に150℃以上250℃以下に昇温する。 (もっと読む)


【課題】少ないエネルギーで十分に未反応の金属ナトリウムが除去された脱ハロゲン油を得ることができるハロゲン化合物含有油の無害化処理方法及び無害化処理装置を提供する。
【解決手段】油中のハロゲン化合物を金属ナトリウムで脱ハロゲン化し得られる脱ハロゲン油を、クエンチング装置19に導き、ここで表面に水酸基を有し油に不溶な固体からなる固体クエンチング剤33aと接触させ、脱ハロゲン油に残存する未反応の金属ナトリウムと固体クエンチング剤33aの水酸基とを反応させ、金属ナトリウムをクエンチングする。 (もっと読む)


【課題】脱ハロゲン油中の固体状の不純物を少ないエネルギーで効率的に除去し精製油を得ることができるハロゲン化合物含有油の無害化処理方法及び無害化処理装置を提供する。
【解決手段】本発明のハロゲン化合物含有油の無害化処理装置1は、被処理油中のPCBを金属ナトリウムで脱塩素化し処理済油を得る反応槽15と、処理済油中のPCB濃度を確認する分解確認槽17と、処理済油に凝集剤として汚泥と水とを添加し、処理済油に含まれる固体状の不純物を汚泥を種晶として凝集させる凝集生成槽19と、凝集した固体状の不純物を沈降分離させ固体状の不純物を含まない脱ハロゲン油を回収する沈殿槽21と、沈殿槽21から排出される凝集した固体状の不純物をさらに濃縮する濃縮槽23と、濃縮槽23から排出される汚泥の一部を凝集生成槽19に返送する種晶返送ライン28と、を含む。 (もっと読む)


【課題】遷移金属触媒を使用しなくても、シンプルな反応系で、脱離基を有する有機化合物とグリニャール試薬とのカップリング化合物を製造できる方法を提供する。
【解決手段】脱離基を有する有機化合物(有機ハロゲン化物など)とグリニャール試薬とを、グリニャール試薬のマグネシウム原子に配位可能な配位性化合物(例えば、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類)の存在下で反応させる。この反応は、さらに、アルコキシドなどの塩基の存在下で行ってもよい。 (もっと読む)


【課題】脱ハロゲン油をより効率的に中性にすることが可能なハロゲン化合物含有油の無害化処理方法及び無害化処理装置を提供する。
【解決手段】PCB混入絶縁油無害化処理装置1は、被処理油を貯留する貯留タンク11、被処理油に含まれる水を除去する減圧蒸留槽13、PCBを金属ナトリウムと反応させ脱塩素化する反応槽15、PCBの脱塩素化を確認するための分解確認槽17、処理済油に含まれる固体状の不純物を分離するろ過装置19、固体状の不純物が分離された処理済油に直接、炭酸ガスを溶解させ処理済油を中和する中和装置21を備える。 (もっと読む)


【課題】PCB混入絶縁油など油中のハロゲン化合物を金属ナトリウムで無害化し、得られる脱ハロゲン油に含まれる未反応の金属ナトリウムを少ないエネルギーで効率的に除去することができるハロゲン化合物含有油の無害化処理方法及び無害化処理装置を提供する。
【解決手段】反応槽15でPCB混入絶縁油と金属ナトリウムとを反応させ、PCBを脱塩素化し処理済油を得た後、ろ過器19を用い、処理済油に含まれる反応生成物、未反応の金属ナトリウムなどの固体状の不純物を分離し、分離しきれずさらに残存する未反応の金属ナトリウムを固体クエンチング剤35を用いてクエンチングする。 (もっと読む)


【課題】広く一般に使用でき且つ触媒を用いた、炭素求電子剤と炭素求核剤を交差カップリングする方法であって、前記炭素求核剤をカルボン酸金属からカルボキシル基を除去することによりin situで生成する方法を改良する。
【解決手段】上記の課題は、遷移金属または遷移金属化合物を触媒の存在下に、カルボン酸塩を炭素求電子剤と反応させることにより、脱カルボキシル化しつつC−C結合を形成させる方法によって解決される。さらに、本発明は、パラジウム化合物と、銅化合物と、フェナントロリン、ジピリジン及びテルピリジンからなる群から選択されたキレート化可能な環状アミンまたはその置換体とから成る、カルボン酸塩と炭素求電子剤とのC−C結合であって脱カルボキシル化をともなうC−C結合のための触媒系に関する。 (もっと読む)


【課題】PCB抽出に必要な試薬量の大幅な低減による低コスト化、PCB抽出処理の簡便化、迅速化、高効率化等を実現することができるPCB抽出装置、並びにこれを用いた、PCB検出装置及びPCB検出方法の提供。
【解決手段】本発明のPCB抽出装置は、絶縁油中に含まれるポリ塩化ビフェニル(PCB)を抽出するPCB抽出装置であって、前記絶縁油を分解する第1のキャピラリーカラムと、前記第1のキャピラリーカラムにより分解された前記絶縁油からPCBを抽出する第2のキャピラリーカラムとを有してなり、前記第2のキャピラリーカラムが、内部に前記絶縁油を流通させる流路と、前記絶縁油に含まれるPCBを抽出するPCB抽出層とを有する。 (もっと読む)


【課題】少ない薬剤で効率的にPCBを分解すると共に、PCB含有油に含まれるスラッジなどの固形分及び/又は水分も同時に分離可能なPCB含有油の無害化処理方法を提供する。
【解決手段】PCB含有油と、プロトン性溶媒と、酸化カルシウムと、補助溶媒とを混合し、PCB含有油に含まれる水を除去する前処理工程と、前処理工程後の液を油相、溶媒相及び固形分に分離する第1分離工程と、第1分離工程で回収された油相に金属カルシウム、プロトン性溶媒及び補助溶媒を添加し、PCBを含む未分解の有機塩素化合物を分解する分解工程と、分解工程後の液を油相、溶媒相及び固形分に分離する第2分離工程と、第1分離工程及び第2分離工程で分離された固形分と少なくとも一部はナノサイズの金属カルシウムとを接触させ、固形分に含まれるPCBを含む未分解の有機塩素化合物を分解する残渣分解工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】発色剤の溶解性に優れ、臭気が少なく、毒性を有さず、かつ感圧複写材料の発色剤の溶剤として優れた特性を有する感圧複写紙用発色剤を提供する。
【解決手段】1−フェニル−1−エチルフェニルエタン(PEPE)、1−フェニル−1−キシリルエタン(PXE)および1,1−ジフェニルエタン(1,1−DPE)の混合物を含有してなる発色剤溶剤であって、1,1−DPEの含有量が0.1質量%以上25質量%以下であることを特徴とする感圧複写紙用発色剤用溶剤。 (もっと読む)


【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(IA)で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。[式(IA)中、Rは、水素原子、炭素数1〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の脂環式炭化水素基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素基又は炭素数7〜21のアラルキル基を表す。Rは、炭素数7〜12の脂肪族炭化水素基、炭素数7〜20の脂環式炭化水素基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素基又は炭素数7〜21のアラルキル基を表す。R及びRは互いに結合してNとともに炭素数4〜20の環を形成してもよい。]
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【課題】液晶材料等の機能性材料として有用な非対称型フルオロブタジエン化合物のトランス−トランス体を効率的および高選択的に得ることができる容易かつ簡便な製造方法の提供。新規な非対称型フルオロブタジエン化合物、該化合物を含む組成物および該組成物を含む液晶電気光学素子の提供。
【解決手段】R−(A1−Y)−(A−Y)−A−CF=CF−CF=CF−A−(Y−A)−(Y−A)−R(1)で表される非対称型フルオロブタジエン化合物の製造方法。式中、R、R:置換または非置換の炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、またはシアノ基;A1、A2、A、A、AおよびA:相互に独立して、置換または非置換のトランス−1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基または1,4−フェニレン基;Y、Y、YおよびY:相互に独立して、単結合、−O−、−S−、または置換または非置換の炭素数1〜4の2価の脂肪族炭化水素基;l、m、nおよびo:相互に独立して0または1;ただし、「R−(A1−Y)−(A−Y)−A−」と「−A−(Y−A)−(Y−A)−R」は同一の構造ではない。 (もっと読む)


【課題】 照射したマイクロ波を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能なマイクロ波硬化型組成物を提供する。
【解決手段】 下記(1)〜(4)を含有するマイクロ波硬化型組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つがマイクロ波の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であることを特徴とするマイクロ波硬化型組成物;
(1)ラジカル開始剤(A)、
(2)酸発生剤(B)及び/又は塩基発生剤(C)、
(3)重合性物質(D)。 (もっと読む)


【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記(1)〜(3)を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して酸発生剤(B)に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質(D)の重合反応が進行する感光性組成物。
(1)ラジカル開始剤(A)、又はラジカル開始剤(A)及び塩基発生剤(C)
(2)酸発生剤(B)
(3)重合性物質(D) (もっと読む)


【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記(1)〜(3)を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)及び塩基発生剤(C)の内の少なくとも1つが活性光線の照射により活性種(H)を発生し、該活性種(H)がラジカル開始剤(A)、酸発生剤(B)又は塩基発生剤(C)と反応して新たな活性種(I)を生成して該新たな活性種(I)による重合性物質(D)の重合反応が進行し、該活性種(H)又は(I)が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して塩基発生剤(C)に活性光線を照射することにより発生した塩基により重合性物質(D)の重合反応が進行する感光性組成物。
(1)ラジカル開始剤(A)、又はラジカル開始剤(A)及び酸発生剤(B)
(2)塩基発生剤(C)
(3)重合性物質(D) (もっと読む)


【課題】キラル相間移動触媒として有用な光学活性4級アンモニウム塩化合物及び該化合物の製造中間体の提供。
【解決手段】式(1)で表される化合物。(式中、Rは、アルキル又はアルコキシを示し、R、Rは水素を示し、R21は、水素、アルキル又はアルコキシを示し、Rは、アリール又はアラルキルを示し、R、Rはアルケニルを示し、RとRは結合して芳香環を形成して、*および**は、軸不斉を有する光学活性であることを示し、Xは、アニオンを示す。)
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【課題】フォトレジストポリマーに重合可能な新規光酸発生剤化合物、およびこの重合性光酸発生剤を含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式(I)を有する化合物:


式中、Qはハロゲン化されているかもしくはハロゲン化されていないC2−30オレフィン含有基であり、Aはフッ素置換C1−30アルキレン基、フッ素置換C3−30シクロアルキレン基、フッ素置換C6−30アリーレン基、もしくはフッ素置換C7−30アルキレン−アリーレン基であり、Zはスルホナート、スルホンアミドもしくはスルホンイミドを含むアニオン性基であり、並びにGは特定のカチオンである。 (もっと読む)


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