【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】トリアリールスルホニウムカチオンとα，α−ジフルオロアダマンチルオキシカルボニルメタンスルホン酸アニオンなどからなる塩（Ｉ）。


フォトレジスト組成物は、特に、化学増幅型フォトレジスト組成物に有用であり、半導体の微細加工、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程等、広範な用途に好適に利用することができる。特に、ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザリソグラフィならびにＡｒＦ液浸露光リソグラフィ、ＥＢ露光リソグラフィ、ＥＵＶ露光リソグラフィに好適な化学増幅型フォトレジスト組成として用いることができる。また、液浸露光のほか、ドライ露光などにも用いることができる。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、少なくとも１つのヒドロキシ基を有する２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＮＲ^４−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ^３は、環式基を表し、該環式基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ヒドロキシメチル基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のフッ化アルキル基で置換されていてもよい。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］
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【課題】光酸発生剤、この製造方法、及びこれを含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】光酸発生剤は下記化学式で表される化合物である。Ｘ、Ｙ、Ｑ₁、Ｑ₂、ｎ、及びＡ＋の定義は詳細な説明に記載した通りである。光酸発生剤は、露光時に発生する酸の拡散速度が遅く、拡散距離が短く、適切な酸度を有するため、ＬＷＲ特性を改善でき、工程に使用する純水などの溶媒への溶出を制御することができる。
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【課題】特定の構造を備える触媒前駆体と特定の配位子とからなる触媒系の存在下に、求核原子であるＳ、Ｃ、Ｎ、特にＳを有する基質を脱水アリル化させるアリル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）及び式（２）から選ばれる触媒前駆体と、配位子とを混合し、又は触媒前駆体とアリルアルコールと配位子とを混合し、その後、アリルアルコール類と、基質とを配合し、反応させるアリル化合物類の製造方法であって、配位子は、キナルジン酸又はピコリン酸であり、基質は、チオール類、チオカルボン酸類等である。［Ｒｕ（Ｃ_５Ｈ_５）（ＣＨ_３ＣＮ）_３］ＰＦ_６（１）［Ｒｕ〔Ｃ_５（ＣＨ_３）_５〕（ＣＨ_３ＣＮ）_３］ＰＦ_６（２） （もっと読む）

【課題】高いΔｎを示す重合性液晶の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される重合性化合物である。式中、Ｐ¹及びＰ²は、重合性基；ｍ１及びｍ２は、１〜１０の整数；Ａは、５〜１８員環の芳香族炭化水素環又は５〜１８員環の芳香族複素環を含む２価基；Ｌ³及びＬ⁴はそれぞれ、炭素原子数１〜１０のアルキル基、又は炭素原子数１〜１０のアルコキシ基；ｋ１及びｋ２はそれぞれ、０〜４の整数；Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³及びＸ⁴はそれぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、又は−ＳｉＲ⁰Ｒ⁰⁰−；ｎ１及びｎ２はそれぞれ、０又は１を表し、但し少なくとも一方は１であり、Ｌ^1a、Ｌ^1b、Ｌ^2a及びＬ^2bはそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、−ＣＮ、−ＮＣ、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、又は−ＯＣＮを表し、但し、ｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が１で且つＬ^2a及びＬ^2bの双方が水素原子の時、並びにｎ１が１で且つＬ^1a及びＬ^1bの双方が水素原子であり、及びｎ２が０の時に限り、Ｘ²及びＸ³の双方が−Ｏ−で表される化合物、並びにＸ²及びＸ³の一方が−Ｏ−であり且つ他方が−ＮＨ−又は−ＮＲ−で表される化合物を除く。
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【課題】 露光ラチチュード（ＥＬ）及び現像欠陥性能に優れたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るパターン形成方法は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式（ＬＤ）により表される部分構造を備えた酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、前記膜を露光することと、前記露光された膜を、濃度が２．３８質量％未満であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像することとを含んでいる。
【化１】
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【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

本発明は、高い親和性及び選択性で生存タンパク質ＭＣＬ−１と選択的に結合する化合物、このような化合物を含有している医薬組成物、並びにＭＣＬ−１活性を調節するための、及び過剰増殖性疾患、血管新生障害、細胞周期調節障害、オートファジー調節障害、炎症性疾患及び／又は感染性疾患を治療するための、及び／又は細胞生着及び／又は創傷修復を増進するための、単独薬剤としての又はその他の活性成分と組合わせての、これらの化合物又は組成物の使用に関する。 （もっと読む）

式１の化合物
【化１】


（式中、
ＱはＯまたはＳであり；
Ｚ¹およびＺ²は、各々独立してＣＲ⁹またはＮであり；ならびに
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸およびＲ⁹は、本開示において定義されているとおりである）
そのＮ−オキシドおよび塩が開示されている。
また、式１の化合物を含有する組成物、および、有効量の本発明の化合物または組成物を適用するステップを含む真菌性病原体により引き起こされる植物病害を防除する方法もまた開示されている。
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【課題】この樹脂をレジスト組成物に用いることにより、優れたＣＤ均一性を有するパターンを得ることを目的とする。
【解決手段】樹脂、式（１）及び式（２）で表される酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式（１）及び（２）中、Ｑ^１〜Ｑ^４はそれぞれ独立にＦ又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基；Ｘ^１及びＸ^２は、単結合又は２価のＣ_1-17飽和炭化水素基；Ｙ^１はアルキル基で置換されていてもよいＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基；Ｙ^２は、少なくとも１つのＨがヒドロキシ基又はＣ_１−6ヒドロキシアルキル基で置換されているＣ₃₋₃₆飽和環状炭化水素基、Ｃ₃₋₃₆ラクトン／Ｃ₃₋₃₆環状ケトン／Ｃ₃₋₃₆スルトン骨格を有する環状基；Ｐ^１〜Ｐ^３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいＣ₃₋₃₆芳香族炭化水素基／Ｃ_１−６脂肪族炭化水素基を表し、Ｐ^１〜Ｐ^３のうちの２つが互いに結合して環を形成してもよい。］ （もっと読む）

【課題】高い殺虫効果を有するアミド誘導体と該アミド誘導体を含有する有害生物防除剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


｛Ａは、炭素原子、酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、Ｋは、Ａと、Ａが結合する２個の炭素原子と共に、５員または６員の芳香族環を形成するのに必要な原子群を示し、Ｚは−Ｃ（＝Ｇ_１）Ｑ_１、−Ｃ（＝Ｇ_１）Ｇ_２Ｒ_３（式中、Ｇ_１、Ｇ_２は酸素原子などを示し、Ｑ_１、Ｒ_３は置換フェニル基、置換複素環基、アルキル基、ハロアルキル基などを示す。）などを示し、Ｘはハロゲン原子、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロアルキルスルホニル基などを示し、ｎは０〜３の整数を示し、Ｇ_３は酸素原子などを示し、Ｑ_２は置換フェニル基、置換ピリジル基などを示し、Ｒ_１、Ｒ_２は水素原子、アルキル基等を示す。｝で表されるアミド誘導体およびこれを有効成分として含有する有害生物防除剤である。 （もっと読む）

【構成】
一般式（ＩＡ−１−１）
【化１】


で示される化合物、その塩、その溶媒和物、またはそれらのカルボキシ基がエステル化された化合物。
【効果】Ｓ１Ｐ受容体（特にＥＤＧ−６、好ましくはＥＤＧ−１およびＥＤＧ−６）結合能を有する化合物、例えば一般式（ＩＡ−１−１）で示される本発明化合物、その塩、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグはＳ１Ｐ受容体（特にＥＤＧ−６、好ましくはＥＤＧ−１およびＥＤＧ−６）結合能を有し、移植に対する拒絶反応、移植片対宿主病、自己免疫性疾患、アレルギー性疾患等の予防および／または治療に有用である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、カルボキシル基を有するアミノ化合物、チオカルボニルジイミダゾール及び塩基との反応により、対応するカルボキシル基を有するイソチオシアナト化合物を１工程で高純度で製造する新規な工業的製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を有するアミノ化合物を、溶媒中、塩基存在下、チオカルボニルジイミダゾールと反応させることで、カルボキシル基を有するイソチオシアナト化合物を得る。 （もっと読む）

本発明は、構造式（Ｉ）によって表される化合物、またはその薬学的に許容できる塩に関する。構造式（Ｉ）の変数は本明細書において規定される。構造式（Ｉ）の化合物を含む医薬組成物およびその治療的使用も記載される。
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【課題】抗微生物活性薬などの医薬品として有用なムチリン類を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）の化合物［式中、Ｒ_２はアリーレンまたはヘテロサイクレンであるか；あるいはＲおよびＲ_２がそれらが結合している窒素原子とともに非芳香族ヘテロサイクレンを形成しており；他の残基は水素あるいは各種置換基を意味する］。
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【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される基を含む塩。［式（Ｉ）中、Ｔは、置換基を有していてもよい炭素数３〜３６の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基のうち少なくとも２つは、酸素原子又は硫黄原子で置換されている。］
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【課題】優れた形状を示すパターンを形成し得る化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩及び、特に、液浸露光に好適に用いられ、欠陥の発生が少ない化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（ａ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、Ｆ原子又はＣ１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は、−［ＣＨ_２］_ｋ−を表し、ｋは、１〜１８の整数；Ｘ^２は、単結合、直鎖状又は分岐状のＣ１〜１２の脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基等；Ｙ^１は、Ｃ３〜３６の脂環式炭化水素基；−Ｘ^２−Ｙ^１基は、少なくとも１つのＦ原子を含む；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

本発明は、有用な医薬活性化合物である、Ｓ−［２−［１−（２−エチルブチル）シクロヘキシルカルボニルアミノ］−フェニル］−２−メチルチオプロピオナートの製造のための方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、メキシレチン（およびメキシレチンの活性代謝物）とアミノ酸若しくはペプチドとのプロドラッグ並びにかかるプロドラッグを含む医薬組成物に関する。上記プロドラッグを用いて、痛みの緩和、不整脈の治療、メキシレチンに伴う有害な胃腸副作用の低減、メキシレチンの生物学的利用能の向上および薬物動態の再現性の改善の方法も提供する。グリシン残基により直接若しくは間接的に結合したリシンまたはアルギニンを包含するオリゴペプチドもここに記載する。 （もっと読む）