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Fターム[4H049VP08]の内容

Fターム[4H049VP08]に分類される特許

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【課題】長い稼働寿命、優れた電子的特性を有し、かき傷が無いまたは少ない画像形成部材を提供する。
【解決手段】光導電体は、必要に応じた支持基材と、光発生層と、少なくとも1つの電荷輸送成分と少なくとも1つのシラノールとを含む少なくとも1つの電荷輸送層と、を含む。 (もっと読む)


【解決手段】式(1)もしくは式(2)(Xはハロゲン原子)で示されるハロゲン化シロキサン化合物を、式(3)で示されるシアン酸塩と反応させ、ハロゲン部分をイソシアン基と置換させるイソシアネート基含有シロキサン化合物の製造方法。






【効果】安価な出発原料であるハロゲン化シロキサン化合物とシアン酸塩を用いて、安価にイソシアネート基含有シロキサン化合物を製造でき、工業的利益が発揮される。 (もっと読む)


電子装置において使用することができる、シリルエチニル基が結合したアセン−チオフェンコポリマーを提供する。コポリマーは、一般的な有機溶媒に可溶性である場合が多く、コーティング組成物の一部であることができる。 (もっと読む)


本発明は、タイプ(H2SiO)n[式中、nは、3又はそれ以上の整数である]の水素に富むシクロシロキサンを、a.)タイプH2SiX2[ここでX=ハロゲンである]のハロゲンシランをb.)リチウム塩、銅(II)塩又は元素の周期表の第2主族又は第2副族からの金属の塩又はこれらの塩の混合物と反応させることにより選択的に合成することに関する。環サイズは、有利にはn=3、4、5、6(特にn=4〜6)に調節可能であるので、より大きな環は形成されない。本方法の特に有利な態様において、シクロヘキサシロキサン(H2SiO)6の選択的な製造のために、反応後に溶剤が少なくとも部分的に分離され、引き続き新たに溶剤が添加される。
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【課題】劣化しない防汚コーティングの製造に好適なポリオルガノシリル化カルボキシレートの単量体又は重合体の提供。
【解決手段】一般式(I):


[式中、R、R、R、R、Rは、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、アリール、アラルキルまたはハロゲン基等を表し、Rは、水素、アルキル基または−COOR(ここで、Rはアルキル基を表す)を表し、Rは、水素、アルキル基または−CH−CO−(SiRO)−SiRを表し、そしてnは、ジヒドロカルビルシロキサン単位の数3から20を表す]で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体。 (もっと読む)


本発明は、特に殺菌剤及び/又は抗付着剤としての使用のためのカチオン性シロキサン誘導体に関する。カチオン性シロキサン誘導体は、下記一般式Iを有し、
【化1】


式中R1、R2、R3、R4、R‘、R5及びnは明細書中に定義した通りである。 (もっと読む)


【課題】フォトレジスト組成物のパターンラフネスを低減させ、耐エッチング性を改良しうる手段を提供する。
【解決手段】


で示される化合物とステロイド骨格を有する化合物との反応で得られるシロキサン化合物、該化合物を含むフォトレジスト組成物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】基材によく密着し、耐擦傷性に優れた撥水撥油性の層を形成する表面処理剤を提供する。
【解決手段】オルガノポリシロキサンにおいて、


(Rはパーフロロエーテル残基を有する1価の基であり、Rはパーフロロエーテル残基を有する2価の基であり、Qは2価の有機基である)置換されている構造を有することを特徴とするオルガノポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の表面保護膜または層間絶縁膜材料用途として、現像工程でアルカリ現像液が使用でき、低いキュア温度により、残留応力が低く、優れた耐熱性、機械特性等を発現するポジ型感光性レリーフパターン形成材料を提供する。
【解決手段】同一分子内に籠型シルセスキオキサン構造含有基とフェノール性水酸基の両方の基を含有するアルカリ可溶性物質(A)、及び溶解抑止剤(B)を含有することを特徴とするアルカリ現像性のポジ型感光性レリーフパターン形成材料。 (もっと読む)


【課題】 感光性樹脂組成物の感光剤成分として有用である新規なシルセスキオキサン骨格を有するキノンジアジドスルホン酸エステル誘導体を提供し、またその前駆体のフェノール誘導体を該組成物における添加物として提供する。
【解決手段】 4〜12個のケイ素と、それぞれのケイ素に結合している酸素及び一価のRとによって構成される基本構造を含み、端部に前記酸素を有していてもよく、端部の前記酸素にはRが結合していてもよいし、また端部の二つの前記酸素に、二つのRが結合している一つのケイ素が結合していてもよいシルセスキオキサン誘導体のRの少なくとも一つに、特定のキノンジアジドスルホン酸系の基か又は水酸基を含有する特定の基を導入して、ポジ型感光性組成物における感光性化合物又は添加用化合物とする。 (もっと読む)


【課題】広い範囲の付加重合性単量体に対してリビングラジカル重合開始能を有する新規なケイ素化合物、およびこれを用いて得られる重合体を提供する。
【解決手段】式(1)で示されるケイ素化合物。式(1)において、Rは水素、アルキル、アリール、またはアリールアルキルであり、Rはアルキル、フェニルまたはシクロへキシルであり、Aは付加重合性単量体に対する重合開始能を有する基である。
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構造式(XII)および(XV)で表される化合物、および該化合物を含む重合可能なホログラフィック記録媒体。構造式(XII)、(XIIA)、および(XV)の変数は、本願において定義される。
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本発明は、1分子当たり、式(I)O3−a/2Si−Y(SiR3−a/2[式中、Rは同一かまたは異なっていてもよく、かつ、有機の一価のSiC結合基を示し、この場合、この基は、1〜30個の炭素原子を含み、かつ、1個または複数個のO原子を含有していてもよく、aは0または1であり、かつbは1〜11の範囲の整数である]の少なくとも1種の構造単位を含有するオルガノポリシロキサン化合物に関する。 (もっと読む)


【課題】 柔軟な有機及び堅い無機部分を含む多成分網状構造を与える化合物、その製造法の提供。
【解決手段】 式 X(SiQの化合物から式 X(SiO1.5−)の基を有する化合物を製造する。式中、Xは例えば、


なる環構造の基であり、Qはアルコキシ、アシロキシ又はハロゲンであり、nは2以上の整数である。 (もっと読む)


【課題】 かご状シルセスキオキサン、特にn=8のT−8シルセスキオキサンを高い選択率で簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】 三官能性シランを、極性溶媒及び四級アンモニウム塩の存在下で加水分解、重縮合反応させる工程において、加水分解における水の添加量を、三官能性シランに対して化学量論的に必要な量以下とする。 (もっと読む)


【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物、その加水分解物またはそれらの縮合
物を含む組成物。
【化1】


式中、R1は水素原子または置換基である。R2は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アリールカルボニル基、4級アンモニウム原子を有する基または金属原子である。mは6〜30の整数を表す。 (もっと読む)


【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される化合物、その加水分解物および/または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化1】


一般式(1)中、R1〜R8は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、R1〜R8で表される基のうち少なくとも1つは、置換基として下記一般式(2)で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化2】


一般式(S2)中、Xは加水分解性基を表し、R9はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。mは1〜3の整数を表わす。 (もっと読む)


ポリマー化、グラフト化、アロイ化を包含するマイクロエレクトロニクス、生物用及び医療用への応用での使用に適する、高収率で、低樹脂含量で、溶媒不用で痕跡金属のない、モノマーを製造するための、フォスファゼン超強塩基を使用する、ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンの合成プロセス。
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本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式(1)で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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【課題】電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンの提供。
【解決手段】式(1)で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサン。
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