【課題】酸素ガス雰囲気下で粗生成物を処理することにより、粗生成物中に含まれる副生成物を低減でき、ＭＯＣＶＤ法で原料として使用したときに、高い成長速度が得られ、優れた気化安定性及び長期成膜安定性を有し、成膜室への汚染を抑えることができ、形成する膜の段差被覆性に優れた、純度の高い有機金属化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機金属化合物の製造方法は、金属含有物と配位子前駆体とを有機溶媒の存在下で反応させて有機金属化合物、副生成物及び残渣分を含む粗生成物を得る工程と、得られた粗生成物から残渣分及び有機溶媒を除去して濃縮する工程と、濃縮物を酸素ガス雰囲気下、１３０〜１５０℃で処理する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機金属化合物に不純物として含まれる副生成物を低減できる。
【解決手段】副生成物を不純物として含む有機金属化合物を有機溶媒に溶解して第１溶解液を調製し、第１溶解液の溶媒と同一種類の溶媒を第１移動相として第１分離カラムに通過させ、第１移動相の通過に随伴して第１溶解液を第１分離カラムに供給して第１溶解液中の化合物成分を分子量の大きさごとに分離し、分離した各成分を分取する。分取した成分のうち、その分子量が有機金属化合物に相当する成分を濃縮乾燥する。得られた固形分を第１溶解液の溶媒と同一又は異なる種類の溶媒に溶解して第２溶解液を調製し、第２溶解液の溶媒と同一種類の溶媒を第２移動相として第２分離カラムに通過させ、第２移動相の通過に随伴して第２溶解液を酸素ガスとともに第２分離カラムに供給して第２溶解液中に含まれる化合物成分を分子量の大きさごとに分離し、分離した各成分を分取する。 （もっと読む）

【課題】新規な銅錯体及びより低い基盤温度で銅含有薄膜を製造する方法の提供。
【解決手段】式（１）


（Ｒ^１〜Ｒ^２は、(1)Ｒ^１＝エチル基、Ｒ^２＝メチル基、(2)Ｒ^１＝エチル基、Ｒ^２＝水素原子、(3)Ｒ^１＝t-ブチル基、Ｒ^２＝水素原子。）で示される銅錯体。当該銅錯体を銅供給源として用いた、化学気相蒸着法による銅含有薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた抗菌活性を有すると共に安全性に優れた経口吸収性の高いカルバペネム薬剤およびその中間体の工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】
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【課題】 本発明の課題は、即ち、低い融点を有し、且つ水分、空気及び熱に対しての安定性に優れ、ＣＶＤ法による金属薄膜形成に適したアルコキシアルキルメチル基を有するβ-ジケトナト及びアルコキシを配位子とする金属錯体（例えば、周期律表第IVA族の金属原子を中心金属とする金属錯体）を提供するものである。又、本発明の課題は、当該金属錯体を用いた金属含有薄膜（例えば、周期律表第IVA族の金属の含有薄膜）の製法を提供するものでもある。
【解決手段】 本発明の課題は、アルコキシアルキルメチル基を有するβ-ジケトナト及びアルコキシを配位子とする金属錯体によって解決される。本発明の課題は、又、該金属錯体を金属供給源として用いた、化学気相蒸着法による金属含有薄膜の製法によっても解決される。 （もっと読む）

【課題】安価な汎用紫外線光源から得られる低エネルギー量の紫外線照射によって選択的に基体表面を疎水性から親水性に変換することができる有機薄膜を形成するシラン誘導体を得ること。
【解決手段】


（式中ｎは１〜２０の整数を表し、Ｒ^１〜Ｒ^１０は水素原子、アルキル基などを表し、Ｘ^１〜Ｘ^３はハロゲン、アルコキシ基を表し、Ｙはエステル結合などを表す。） （もっと読む）

本発明は、その異性体のいずれか１つの形、又はそれらの混合物の形の式（I）のシクロヘキサノン誘導体に関する。本発明は、前記誘導体の製造ならびに使用にも関する。本発明の化合物は、様々な光学活性化合物を製造するために有用な出発材料である。
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【課題】炭素−炭素不飽和結合と求電子官能基を有する化合物又は求電子試剤との反応に用いることができる、チタン触媒及びその製造法並びに有機チタン反応試剤及びその製造法を提供すること。
【解決手段】式（１）
ＴｉＸ¹Ｘ²Ｘ³Ｘ⁴ （１）〔Ｘ¹，Ｘ²，Ｘ³，Ｘ⁴はハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基又は−ＮＲｘＲｙ基（Ｒｘ，Ｒｙは炭素数１〜２０のアルキル基等を表す）を示す。〕で表されるチタン化合物と、このチタン化合物の１〜１０倍モル量の式（２） Ｒ¹ＭｇＸ⁵ （２）〔Ｒ¹はβ位に水素原子を有する炭素数２〜１０のアルキル基を、Ｘ⁵はハロゲン原子を示す。〕で表されるグリニャール試剤とから調製される、炭素−炭素不飽和結合と求電子官能基を有する化合物又は求電子試剤との反応用チタン触媒。 （もっと読む）

【課題】 新規なビス（シリルオキシ）ナフタセンジオン、その製造方法、およびその用途を提供すること。
【解決手段】 第一発明は、置換５，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−６，１２−ジオンおよびその光互変異性体を要旨とし、第二発明は、置換６，１１−ジヒドロキシナフタセン−５，１２−ジオンを、シリルエーテル化することを特徴とする、置換５，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−６，１２−ジオンの製造法を要旨とし、第三発明は、置換６，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−５，１２−ジオンの製造法を要旨とし、第四発明は、置換５，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−６，１２−ジオン、または、置換６，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−５，１２−ジオンを含有する光重合開始剤を要旨とし、第五発明では、第四発明に係る光重合開始剤と、ラジカル重合性単量体とを含む光硬化性組成物を要旨とする。
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【課題】 ＣＶＤ法により金属薄膜を製造する方法に有利に用いることのできる新規なβ−ジケトナト金属錯体を提供する。
【解決手段】 下記式で表わされる金属錯体：
【化１】


［上記式において、
Ｘは、特定構造のシリルエーテル基を表し、
Ｙは、上記のシリルエーテル基或はアルキル基を表し、
Ｚは、水素原子或はアルキル基を表し、
Ｍは、Ｌｕ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｉｔ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、またはＡｇを表し、
ｎは、金属原子Ｍの価数を表す。
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本発明は式Iの特定の置換ラクタム化合物、とりわけカプロラクタム化合物に関し、これは、がんの処置に有用である。
【化１】

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【課題】チロシンホスファターゼの阻害剤として有用な新規化合物、並びに、それを有効成分として含有する、チロシンホスファターゼ阻害剤、医薬組成物、細胞増殖阻害剤、細胞周期進行阻害剤、抗菌剤、イミペネム活性増強剤、及び細菌増殖阻害剤、並びに、上述の化合物を用いたイミペネム活性増強方法、及び細菌の増殖阻害方法、並びに、上述の化合物の活性増強剤及び活性増強方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩は、チロシンホスファターゼに対する阻害活性、細胞増殖阻害作用、細胞周期進行に対する阻害作用、抗菌作用、イミペネムの活性を増強する作用、細菌増殖を阻害する作用を有する。また、イミペネムはナフトキノン誘導体化合物又はその薬理学的に許容される塩の活性を増強する作用を有する。 （もっと読む）

３α−７α（β）−ジ−ヒドロキシ−６α（β）−エチル−５β−コラン酸（Ｉ）であってＲが直鎖又は分岐のＣ_１〜Ｃ_５のアルキルであるもの、並びに中間体である３α−ヒドロキシ−６β−アルキル−７−ケト−５β−コラン酸（ＶＩＩＩ）及び３α−ヒドロキシ−６α−アルキル−７−ケト−５β−コラン酸（ＩＸ）の調製方法。
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組成物およびこの組成物を製造するための方法を開示する。この組成物は、チタンキレートポリマーおよび安定剤を含む。この方法は、（１）チタン酸テトラアルキルをキレート剤と接触させ、チタンキレートとアルコールとを含む生成物混合物を生成する工程と、（２）チタンキレートポリマーの分散液を生成するのに有効な条件下でこの生成物混合物を水と接触させる工程と、（３）任意選択的に、この分散液のアルコール含有量を低減する工程と、（４）この分散液を安定化量の安定剤と接触させ、チタンキレートポリマーの安定な分散液を生成する工程と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、簡便な方法にて、シリルエーテル基を有するβ-ジケトン化合物を得る、工業的に好適なシリルエーテル基を有するβ-ジケトン化合物の製法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の課題は、アルカリ金属アルコキシドの存在下、ケトン化合物とカルボン酸エステルとを反応させることを特徴とする、シリルエーテル基を有するβ-ジケトン化合物の製法によって解決される。 （もっと読む）

１つの局面において、本発明は、Ｒ_１ないしＲ_６、Ｒ_ａないしＲ_ｃ、Ｑ、Ｙ_１、Ｙ_２およびｎが明細書中で定義された一般式（Ｉ）の化合物の治療上有効な量を含む薬学的組成物を提供し、それにより、該組成物は約０．１ｍｇ／ｋｇないし約ｍｇ／ｋｇ体重の間の投与量にて被験体に投与するために処方される。もう１つの局面において、本発明は、前記にて直接的に記載された本発明の組成物の治療上有効量および薬学的に受容可能な担体、アジュバントまたはビヒクルをそれを必要とする被験体に投与することを含む、被験体において乳癌転移を治療する方法を提供する。
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【課題】 溶液気化の化学気相成長法に用いるための高純度の（ノルマルブトキシ）トリス（ジピバロイルメタナト）ジルコニウムの原料溶液を容易に製造する方法および該溶液を用いたＰＺＴ膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 精製したジルコニウムイソプロポキシドを原料として（イソプロポキシ）トリス（ジピバロイルメタナト）ジルコニウムを合成し、次いで、（イソプロポキシ）トリス（ジピバロイルメタナト）ジルコニウムを酢酸ノルマルブチルに溶解後、室温で５時間以上経ることにより、（ノルマルブトキシ）トリス（ジピバロイルメタナト）ジルコニウムに完全に変化した原料溶液が得られる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、パーフルオロアルキル基、ポリフルオロアルキル基、又はフルオロアルキル基を有し、かつこれらの置換基のα炭素が４級炭素となるマイケル付加体の簡便で効率の良い製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｒ_f（Ｒ¹²Ｒ¹³Ｒ¹⁴ＳｉＯ）Ｃ＝Ｃ（ＯＳｉＲ¹⁵Ｒ¹⁶Ｒ¹⁷）（ＯＲ¹¹）で表されるケテンシリルアセタール（式中、Ｒ_fはパーフルオロアルキル基、ポリフルオロアルキル基、又はフルオロアルキル基を表し、Ｒ¹¹は水素又は１価の有機基を表し、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７はアルキル基等を表す）と、α，β−不飽和アルデヒド又はα，β−不飽和ケトンとをルイス酸の存在下で反応させることにより、マイケル付加体を得る。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、金属錯体ガスと水蒸気を用いて、化学気相蒸着法により、成膜対象物上に金属酸化膜を製造する方法において、上記問題点を解決し、優れた成膜性を有する金属酸化膜の製造方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明の課題は、金属錯体ガスと水蒸気とを用いて、化学気相蒸着法により、成膜対象物上に金属酸化膜を製造する方法において、金属錯体として、シリルエーテル基を有するβ-ジケトナトを配位子とする金属錯体を使用することを特徴とする、金属酸化膜の製造方法によって解決される。 （もっと読む）

本発明は、抗ウイルス剤エンテカビルの製造方法を提供する。本発明はまた、エンテカビルの単離および精製のための樹脂吸着製法をも提供する。本発明は、エンテカビルの製造に有用な様々な中間体をも提供する。 （もっと読む）