【課題】反応系でスチレンモノマーとアクリロニトリルがグラフトしたポリブタジエンを製造するための乳化重合法を提供する。生成物は、未反応残留モノマーの最終含量が低く、低い黄色度及び向上した衝撃強さを有する。
【解決手段】ジエンゴムは、連鎖移動剤を連続的に加えて低架橋密度のゴム幹ポリマーを生成させる方法で製造される。本発明の一実施形態では、低い架橋密度を有する予め選択したジエンエマルジョンを反応系に仕込み、１種以上のスチレンモノマー及びアクリロニトリルモノマーの第一分量をジエンエマルジョンに添加し、開始剤とアクリロニトリルモノマーとスチレンモノマーの第二分量を所定の時間にわたって反応系に添加し、ジエン幹ポリマー、スチレン及びアクリロニトリルの触媒を含む反応混合物を重合させて、ＡＢＳグラフトポリマーを形成させる。別の実施形態では、モノマーの転化率が９８％を超えた後に第三のモノマーを加える。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、（Ａ）１個の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体であって、その内の少なくとも１つはシリルエステル官能基を含む単量体、（Ｂ）２個以上の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体、及び（Ｃ）１つ以上の連鎖移動剤の繰り返し単位を含む分岐シリルエステル共重合体に関する。さらに、本発明は、防汚塗料組成物の含有成分としての前記分岐シリルエステル共重合体の使用、ならびに前記分岐シリルエステル共重合体と１つ以上の他の成分を含む防汚塗料組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】任意選択で少なくとも１つの極性基を含み、良好に規定された分子構造と狭い多分散性指数とを有する新規なホモポリマー又はブロックもしくはグラフトコポリマーを合成するための原子（又は基）転移ラジカル重合法を提供する。
【解決手段】本発明のラジカル重合法は、（ｉ）ラジカル転移可能な原子又は基を有する開始剤、（ｉｉ）遷移金属化合物、及び（ｉｉｉ）配位子を含む開始剤形の存在下で、ラジカル重合を行うことを特徴とする。また、原子又は基転移ラジカル重合法によって引き続きブロック又はグラフトコポリマーを形成させるための、少なくとも２つのハロゲン基を有するマクロイニシエーター成分として用いることができる高分子も合成できる。 （もっと読む）

【課題】水性エマルジョンポリマー会合性増粘剤の提供。
【解決手段】共重合単位として：ポリマー重量基準で８重量％〜２５重量％の酸含有モノマー、ポリマー重量基準で２重量％〜３０重量％の式Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｒ）−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２−ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−Ｒ^ｏの（メタ）アクリル酸エステル（式中、ＲはＨまたはＣＨ_３であり、ｎは２〜１００であり、Ｒ^ｏは４〜３６個の炭素原子を含有する基である）、およびポリマー重量基準で３５重量％〜９０重量％の（Ｃ_１−Ｃ_４）アルキル（メタ）アクリレートを含む、水性組成物の増粘における使用に好適な水性エマルジョンポリマーであって；前記ポリマーがリビングフリーラジカル重合法により形成されるか、あるいは−Ｃ（＝Ｓ）Ｓ−基を含有する化合物の存在下で形成される水性エマルジョンポリマーが提供される。水性エマルジョンポリマーを含む水性組成物および前記ポリマーを含むポリマーコーティングも関連する方法と同様に提供される。 （もっと読む）

【課題】血清タンパクの吸着が抑制される遺伝子導入剤を提供する。
【解決手段】芳香環を核とし、それから放射状に伸延したカチオン性の複数の分岐鎖を有する分岐型重合体を有する遺伝子導入剤であって、複数の該カチオン性分岐型重合体同士が非イオン性架橋鎖を介して架橋した架橋ポリマーよりなることを特徴とする遺伝子導入剤。非イオン性架橋鎖は、非イオン性分岐鎖を有した分岐型重合体であってもよい。この遺伝子導入剤は、その構造上の利点により、ＤＮＡなどの核酸を高密度に凝縮することができる。すなわち、この遺伝子導入剤は、カチオン性分岐型重合体が複数個架橋したものであるため、１個のカチオン性分岐型重合体よりなる遺伝子導入剤に比べてＤＮＡなどの核酸をより広いネットワークで包蔵することができ、優れた遺伝子導入活性を示すようになる。 （もっと読む）

本発明は、マレイミド−α−アルキルスチレン系耐熱三元塊状重合体及びこれを製造する方法に関する。より詳しくはＮ−置換マレイミド単量体５〜６０重量％、α−アルキルスチレン単量体１０〜７０重量％、及び不飽和ニトリル単量体５〜５０重量％を含んでなる三元塊状重合体及びこれを製造するための連続塊状重合方法に関する。本発明の三元塊状重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が７００００〜３０００００、ガラス転移温度が１４０〜２００℃であり、高温での熱安定性及び耐熱性に優れ、溶融粘度が著しく低いため加工性に優れるだけでなく、他の樹脂と配合する際の、生産性、加工性、成形性及び混練性に優れる。また、本発明の連続塊状重合方法は、脱揮発装置を備え、低コスト、高効率で三元塊状重合体の生産が可能である。 （もっと読む）

【課題】長鎖のパーフルオロアルキル基を含むことなく優れた液体の表面張力の低下能を発揮するブロック共重合体を、重金属を使用することなく製造できる製造方法、および該製造方法により得られるブロック共重合体を含有する界面活性剤の提供。
【解決手段】チオカルボニルチオ化合物が系中に存在する状態で、（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを重合させ、得られる重合体に、さらに、パーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを、溶媒不存在下または含フッ素溶媒存在下で重合させるか、またはチオカルボニルチオ化合物が系中に存在する状態で、パーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを、溶媒不存在下または含フッ素溶媒存在下で重合させ、得られる重合体に、さらに、（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを重合させる。 （もっと読む）

【課題】溶剤や（メタ）アクリルモノマーに対する溶解性が向上する含フッ素樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】
（ａ）含フッ素オレフィン、（ｂ）マロン酸、マロン酸モノエステルまたはマロン酸ジエステルおよび（ｃ）水溶性ラジカル重合開始剤を水中に添加し乳化重合を行う含フッ素樹脂の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、２，２，４，６，６−ペンタメチルヘプタンチオール−４、２，４，４，６，６−ペンタメチルヘプタンチオール−２、２，３，４，６，６−ペンタメチルヘプタンチオール−２、および２，３，４，６，６−ペンタメチルヘプタンチオール−３を含む新規な混合物、前記混合物を製造するための方法、ならびに合成ゴムの製造における分子量調節剤としてのその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、特定のカルシウムおよび塩化物含量を特徴とし、特に良好な貯蔵安定性を有する、特定のニトリルゴムの重合および再加工の改良された方法に関する。 （もっと読む）

【課題】ナノメートルサイズの微小な顔料粒子の製造方法、並びに、顔料粒子が凝集せず、安定かつ良好な分散性、流動性、経時安定性を有する顔料微粒子分散物を提供する。
【解決手段】顔料が保護基により修飾された構造の顔料前駆体について、下記一般式（１）で表される高分子化合物を含有する第１分散剤の存在下で前記保護基を脱離させて、前記顔料前駆体を前記顔料に転換させる工程を含む、顔料微粒子の製造方法。


〔式中、Ｒ¹は（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ²は単結合又は２価の有機連結基を表す。Ａ¹は、特定の１価の有機基を表す。ｎ個のＡ¹及びＲ²はそれぞれ独立に同一であっても異なっていてもよい。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ¹は高分子化合物残基を表す。ｍ個のＰ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。〕 （もっと読む）

【課題】 各種性能、特に分散性能に著しく優れ、セメント混和剤等の各種用途に有用な成分を与え得るチオール変性単量体混合物、該単量体混合物を用いて得られるポリアルキレングリコール鎖含有チオール重合体、これらを含む分散剤及びセメント混和剤、並びに、セメント組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（３）及び／又は（４）；
【化１】


（式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、有機残基を表す。ＡＧは、少なくとも１種の炭素数２〜１８のアルキレングリコール基を含む有機残基を表す。Ｒ³は、水素原子又は有機残基を表す。）で表される構造を有するチオール変性単量体と、該チオール変性単量体の多量化物とを含むチオール変性単量体混合物である。 （もっと読む）

本発明は（コ）ポリマー組成物の多段製造方法である。この方法は、ｉ）第一段に於いて、１種又はそれ以上のモノマーを、任意的に、ゴム、コモノマー、重合開始剤、連鎖移動剤、分解触媒及び／又は溶媒と共に、重合方法の間に安定なフリーラジカルを提供する１種若しくはそれ以上の安定なフリーラジカル前駆体及び／又は１種若しくはそれ以上の安定なフリーラジカルの存在下で、モノマー（類）の（コ）ポリマーへの部分的転化が得られるまで、重合が、誘起フリーラジカル重合機構によって進行するように、重合させる工程並びにｉｉ）第二段に於いて、部分的に転化した反応混合物を、フリーラジカル重合機構によって進行する反応条件下で重合させて、モノマー（類）の（コ）ポリマーへの更なる転化度を得る工程を含む。
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【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、ラインウイズスラフネス及び疎密依存性が小さく、また、ＥＵＶ光による露光においても感度、溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】側鎖に芳香環を有する特定の繰り返し単位を含有し、末端に特定の構造を有する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低分子量で、粒子径分布の揃った分子量極大値を２つ以上有するポリマー微粒子を安定に製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ビニル単量体は溶解するが、前記ビニル単量体から生成するポリマーは実質的に溶解しない溶媒中で、ビニル単量体の重合転化率が３０〜７０％の段階で、前記溶媒中に連鎖移動剤を添加しつつ、前記ビニル単量体を重合させることにより、２つ以上の分子量極大値を有する平均粒子径１〜１０μｍのポリマー微粒子を得ることを特徴とするポリマー微粒子の製造法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高い光学特性を有し、側鎖に光硬化性に優れた反応性（メタ）アクリレート基を持ち、加工性に優れ、溶剤可溶性を兼ね備えた新規な多官能ビニル芳香族共重合体とその製造方法を提供する。
【解決手段】モノビニル芳香族化合物及び２官能（メタ）アクリル酸エステルを共重合して得られ、側鎖に２官能（メタ）アクリル酸エステル由来の反応性の（メタ）アクリレート基を含有する構造単位(b1)のモル分率が０．０５以上であり、更に、モノビニル芳香族化合物由来の構造単位(a)を２〜９０モル％、２官能（メタ）アクリル酸エステルの由来の構造単位(b)を９８〜１０モル％を含有し、かつ、Ｍｎが５００〜１００００００であり、Ｍｗ／Ｍｎが１００以下であり、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジクロロエタン又はクロロホルムに可溶である可溶性多官能ビニル芳香族共重合体。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮特性、ラビング耐性、透明基板との密着性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができ、ＬＣＤ表示における焼付きが抑制されたスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成されたスペーサー、およびその形成方法を提供することにある。また、液晶滴下量による未充填領域の不良を低減し、カラーフィルター上で圧力による損傷を防止し、工程上発生する厚さ偏差を克服することができるスペーサー形成用感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ブロック共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物、（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有し、（Ａ）ブロック共重合体が、２つ以上のブロックセグメントを有し、そのうち少なくとも１つのブロックセグメントに、アルカリ可溶性部位を含有していることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低分子量で、粒子径分布の揃ったポリマー微粒子を安定に製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ビニル単量体及び分散安定剤は溶解するが、前記ビニル単量体から生成するポリマーは実質的に溶解しない溶媒中で、ビニル単量体の重合転化率が１０％以上、３０％未満の段階で、前記溶媒中に連鎖移動剤を添加しつつ、前記ビニル単量体を重合させることにより、平均粒子径１〜１０μｍのポリマー微粒子を得ることを特徴とするポリマー微粒子の製造方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基の一部又は全部がケタール基によって置換された、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体を含有するポジ型化学増幅系レジスト材料であって、前記ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体は、ＲＡＦＴ剤としてのジチオエステル系化合物の存在下、スチレン系モノマーをリビングラジカル重合する工程を有する製造方法により得られる、ポジ型化学増幅系レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】操業汚れの原因となるベタツキ性が良好で、かつ、優れた接着力を有する紙塗工用共重合体ラテックスの提供。
【解決手段】脂肪族共役ジエン、エチレン系不飽和カルボン酸単量体および共重合可能な他の単量体を重合してなる共重合体ラテックスにおいて、単量体を２段階以上に分けて添加する際し、各段階において添加する単量体のホモポリマーのＴｇからＦｏｘの式によって導かれる理論Ｔｇが、1段目の共重合体組成では−３０〜３０℃の範囲にあり、２段目以降の共重合体組成は前段の理論Ｔｇと比較して±１０℃以上の差になるように添加して重合を行い、かつ得られたラテックスの示差捜査熱量計によるガラス転移温度(Ｔｇ)が一つであって、かつチャートにおける吸熱反応のＴ１とＴ２の差が２０℃未満である紙塗工用共重合体ラテックスの製造方法。 （もっと読む）