【課題】耐昇華性が優れ、かつ窒素原子や硫黄原子を含有しない光ラジカル重合開始剤として有用な化合物を提供することである。
【解決手段】光の照射を受けて励起し、分子内で開裂反応を起こすことによりラジカルを発生することができる光ラジカル重合開始剤として有用な１０−ヒドロキシ−１０−ナフチルメチルアントラセン−９（１０Ｈ）−オン化合物を提供する。このものは耐昇華性に優れ、硫黄原子あるいは窒素原子というような焼却時に有害酸化物を排出することのない原子により構成されている。 （もっと読む）

【課題】少ない添加量かつ少ない光照射エネルギーで硬化し、重合性組成物硬化後の着色や光重合開始剤の滲み出しや揮発を抑えることが可能で、経時保存安定性にも優れる新規な光重合開始剤および当該光重合開始剤を使用した重合性組成物を提供することである。
【解決手段】下記一般式（１）他で表される光重合開始剤。一般式（１）


（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁸およびＲ⁹〜Ｒ¹⁵は、それぞれ独立に、水素原子などを表す） （もっと読む）

【課題】高感度で黄変が少ない新規な水溶性の光開始剤を提供することにあり、さらに、色汚染が少なく、色再現性に優れた光重合性組成物及び光硬化方法を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物であることを特徴とする光開始剤。
【化１】


（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｙは２価の連結基を表し、Ｚはカルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩を表し、Ｒ、Ｒ₅、Ｒ₆はそれぞれアルキル基またはアルコキシル基を表し、Ｒ₇はアリール基、ヒドロキシル基、アルキル基またはアルコシル基を表す。ｎは２〜４の自然数を表す。） （もっと読む）

【課題】単一の光源または光源の組合せを用いてこれまでに周知の技術を用いて達成することができる物理的性質を損なわずに有意により短時間で、より高度の重合、すなわちより高い転化率を達成する感圧接着剤（ＰＳＡ）の製造方法及びそれによって製造されたテープを提供する。
【解決手段】フリーラジカル光開始剤を含有する組成物を重合させる二段法が、３００ｎｍより大きい波長で起こる最大スペクトル出力を有する第１の放射線源に前記組成物を露光する工程と、その後、２００〜２８０ｎｍの波長で起こる最大スペクトル出力を有する第２の放射線源に前記組成物を露光する工程と、の順次の工程を含む。 （もっと読む）

【課題】
放射線の照射により容易に硬化して厚い塗膜を形成することができ、かつ得られた塗膜は隠蔽性に優れた実用性の高い放射線硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】
エチレン性不飽和基を有する化合物と、光重合開始剤と、ホウ珪酸亜鉛ガラスとを含有する放射線硬化性組成物であって、
前記ホウ珪酸亜鉛ガラス中のＺｎＯの含有量が２５〜７０質量％であることを特徴とする放射線硬化性組成物。
塗膜厚さが５００μｍのとき、４００〜８００ｎｍにおける硬化物の透過率が３％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】分散性及び分散安定性に優れた加工顔料、該加工顔料を用いた、顔料の分散性及び分散安定性に優れた顔料分散組成物、該顔料分散組成物を用いた着色感光性組成物、更に、該着色感光性組成物を用いた、色特性の良好なカラーフィルタを提供すること。
【解決手段】顔料を下記一般式（１）で表される高分子化合物で被覆してなることを特徴とする加工顔料〔一般式（１）中、Ｒ^１は（ｍ＋ｎ）価の有機連結基を表し、Ｒ^２は単結合或いは２価の有機連結基を表す。Ａ^１は有機色素構造、複素環構造、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基、水酸基、及びイオン性官能基から選択される部位を少なくとも１種含む１価の有機基を表す。ｍは１〜８、ｎは２〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ^１は高分子骨格を表す。〕。
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【課題】良好なフォトクロミック特性を与えるクロメン化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８置換基を表す）で示されるクロメン化合物。 （もっと読む）

【課題】生産効率に優れ、粉体の本来の性能を損なわない粉体の造粒方法を提供する。
【解決手段】（１）粉体と、ラジカル重合性化合物と、前記粉体１００質量部に対して１０質量部以上の水と、を混合して粉体組成物を得る混合工程と、（２）前記粉体組成物に活性エネルギー線を照射する照射工程と、を含む、粉体の造粒方法。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）


（Ｒ¹及びＲ²は１価炭化水素基であるか、又はＲ¹とＲ²が結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂環をなしてもよく、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ³及びＲ⁴は１価炭化水素基であって、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ⁵は水素原子又はメチル基である。Ｒ⁶は１価炭化水素基であって、各々同一又は異なっていてもよい。Ｒ⁷はハロゲン原子又はアルコキシル基である。ｋは０〜１０の整数である。Ｒ⁵が水素原子の時にｍは１、Ｒ⁵がメチル基の時にｍは０である。ｎは０〜２の整数である。）
で表される有機ケイ素化合物。
【効果】本発明の新規な有機ケイ素化合物は、遊離のヒドロキシル基を含有せず、安定性が高く、無機材料と共有結合可能な加水分解性シリル基を含有し、硬化後も黄変、不快臭がない、光重合開始基を有する有機ケイ素化合物として非常に有用である。 （もっと読む）

本発明は、エチレン系不飽和基および、光開始剤として、式ＩまたはＩＩまたはＩＩＩで表される少なくとも１種のヒドロキサム酸エステルを有する反応性のオリゴマーおよび／またはモノマーを含む、光重合性系に関する。

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【課題】高い感度を有し、重合性に優れた光重合性組成物を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と、下記一般式（１）で表されるラジカル発生剤と、共増感剤とを含む、光重合性組成物。
一般式（１） Ｄ−Ｌ−Ａ
（式中、Ｄは、３００ｎｍより長波長領域に吸収係数１０００以上の吸収を有する光吸収部を表し、Ａは、光励起された光吸収部Ｄと相互作用してラジカルを発生する活性部を表し、Ｌは光吸収部Ｄと活性部Ａとを連結する連結基を表す。） （もっと読む）

【課題】得られた合成樹脂水性分散体において意図する用途に最適に使用することができるように、省エネを実現しながら、反応性を制御して、架橋及び分岐等を調整することができる、さらに、ポリマー中の不純物を最小限に止め、変色を低減し、環境にやさしい合成樹脂水性分散体を製造することが目的とする。
【解決手段】連続重合反応器に、モノマー、水及び光重合開始剤を連続的に供給し、光照射して重合する合成樹脂水性分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 新規な９−（２−（メタ）アクリルオキシアルコキシ）アントラセン化合物、その製造方法、およびその用途を提供すること。
【解決手段】 第一発明は、次の構造式（１）で表される９−（２−（メタ）アクリルオキシアルコキシ）アントラセン化合物を要旨とし、第二発明は、その製造方法を要旨とし、第三発明は、第一発明に係る化合物を有効成分とすることを特徴とする光重合増感剤を要旨とし、第四発明は、第三発明に係る光重合増感剤を含む光重合性組成物を要旨とする。 （もっと読む）

【課題】発光波長が３５０〜４５０ｎｍのレーザー光での露光に適し、高感度であり、かつ保存性に優れる感光性平版印刷版材料を提供する。
【解決手段】支持体上に、光重合開始剤、重合可能な化合物、及び高分子結合剤を含有する感光層を有する感光性平版印刷版材料において、該感光層が、光重合開始剤として下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする感光性平版印刷版材料。
【化１】


〔式中、Ｒ¹〜Ｒ⁸は各々、水素原子又は置換基を表し、隣接する基は互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ⁹は置換基を有してもよい２価の連結基を表し、Ｒ¹⁰は、それぞれ置換基を有してもよい、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はアルケニル基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】 耐ブリスター性、被覆性、耐摩耗性、及び風合いに優れる紙製畳表加工用水性樹脂分散体、及びそれを被覆加工してなる紙製畳表を提供する。
【解決手段】 紙製畳表加工用水性樹脂分散体が、エチレン性不飽和単量体（Ｘ）及び架橋剤（Ｙ）を用いて乳化重合することにより得られる樹脂（ａ）の水性樹脂分散体からなり、且つ、前記水性樹脂分散体を形成する樹脂（ａ）のガラス転移温度が１０〜５０℃の範囲、流動開始温度が１５０〜３００℃の範囲、及び平均粒子径が１２０〜２２０ｎｍの範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光重合増感性能に優れた新規な化合物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で示される４−アルコキシ−１−（２−（メタ）アクリルオキシアルコキシ）ナフタレン化合物。（式中、Ｒ_１はアルキル基などを示し、Ｒ_２は水素原子、アルキル基などを示し、Ｒ_３は水素原子又はメチル基を示し、Ｘ，Ｙは水素原子、アルキル基、ハロゲン原子などを示す。）
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【課題】
単分散であり、かつ、マトリックス樹脂と親和性を有する微粒子を提供することを目的とする。また、光硬化性樹脂バインダーや光硬化性モノマーの存在下で、被膜の固着性や鉛筆硬度を向上させることのできる微粒子を提供することを目的とする。
【解決手段】
ヒドロキシル基、エポキシ基、カルボキシル基、およびアルコキシシリル基から選ばれる少なくとも1つの反応性官能基と、エチレン性不飽和基とを有する樹脂微粒子であって、
樹脂微粒子の有するエチレン性不飽和基が、8.0×10^-5〜1.0×10^-3ｍｏｌ／ｇであり、かつ、前記反応性官能基およびエチレン性不飽和基全体の95〜100モル％が、樹脂微粒子表面に存在する粒径0.1〜10μｍ、変動係数10％以下である反応性単分散樹脂微粒子。 （もっと読む）

【課題】硬化速度が極めて速く、かつエネルギー線により、鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、かつ基板との密着性に非常に優れた、ネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される光ラジカル重合開始剤、ラジカル重合性化合物、およびアルカリ可溶性樹脂を含んでなる重合性組成物。
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【課題】
レーザー光、特に紫外から青紫色レーザー光に対して高感度であると共に、経時保存安定性、及び基板に対する密着性に優れた感光性組成物であって、特に、ソルダーレジストあるいはドライフィルム用として、又、特に紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供する
【解決手段】
（Ａ）エチレン性不飽和基含有化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物であって、（Ｂ）光重合開始剤が特定構造を有し、且つ平均粒子径０．００１μｍ以上１５０μｍ以下である光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 新規なビス（シリルオキシ）ナフタセンジオン、その製造方法、およびその用途を提供すること。
【解決手段】 第一発明は、置換５，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−６，１２−ジオンおよびその光互変異性体を要旨とし、第二発明は、置換６，１１−ジヒドロキシナフタセン−５，１２−ジオンを、シリルエーテル化することを特徴とする、置換５，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−６，１２−ジオンの製造法を要旨とし、第三発明は、置換６，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−５，１２−ジオンの製造法を要旨とし、第四発明は、置換５，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−６，１２−ジオン、または、置換６，１１−ビス（シリルオキシ）ナフタセン−５，１２−ジオンを含有する光重合開始剤を要旨とし、第五発明では、第四発明に係る光重合開始剤と、ラジカル重合性単量体とを含む光硬化性組成物を要旨とする。
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