具体的にはプロピレンではない、炭素含有ガスのプラズマ重合によって高度架橋ポリプロピレン材料を製造する方法が開示され、高度架橋ポリプロピレン材料は、低い比誘電率、高い熱安定性、及び強化された機械的特性を示す。前記方法及び材料は、マイクロチップ製造における層間誘電体堆積の用途に適しているが、これに限定されない。 （もっと読む）

【課題】 金属配位高分子に含まれる配位金属量を従来よりも増加させ酸素還元活性を向上させた有機金属高分子構造体を提供する。
【解決手段】本発明の有機金属高分子構造体は、π共役系を主鎖に含む高分子と、前記高分子に導入され、有機骨格を有するアニオン基を含み、前記高分子鎖の間隔を拡張するカウンターイオンと、前記高分子に配位した金属と、を有し、カウンターイオンの導入により前記高分子鎖の間隔を拡張している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、二酸化炭素を有用な有機製品に変換するプラズマ法を提供する。
【解決手段】本方法において、二酸化炭素及びカウンターパート分子は反応チャンバ内で混合されて、プラズマ励起を用いて化学反応を引き起こす。入力パワーの強度及びカウンターパートの分子構造に応じて、最終的な製品は、ポリマー、オリゴマーまたは低分子量の小分子になり得る。二酸化炭素の変換効率及び結果物の製品の化学構造は、カウンターパート分子の選択に強く依存する。このプラズマ技術を通して、二酸化炭素は、プラスチックや燃料等の有用な物質に変換される。本方法は、地球温暖化だけではなく、新規物質及びエネルギーを生成するためにも用いられる。 （もっと読む）

本発明は、放射線照射された時にカチオンルート及び／又はラジカルルートで重合及び／又は架橋し得る組成物に関する。より詳細には、本発明は、少なくとも１種のベース化合物と少なくとも１種の光開始剤とイソシアネート官能基を少なくとも１個含む少なくとも１種の化合物とを含む重合性且つ／又は架橋性組成物、並びにそのコーティングとしての使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、珪素、炭素、酸素及び水素原子を有する少なくとも１つの膜母材前駆体と、少なくとも１つの、Ｒが、直鎖或いは分岐、飽和或いは不飽和炭化水素基若しくは環状飽和或いは不飽和炭化水素基の何れかである式（I）の孔形成化合物か、または、少なくとも１つの次の孔形成化合物の何れかを反応させることを含む、基板への低誘電率ｋの多孔膜を形成する方法であって、少なくとも１つの次の孔形成化合物は、1-メチル-4-（1-メチルエチル）-7-オキサビシクロ［2,2,1］ヘプタン、1,3,3-トリメチル-2-オキサビシクロ［2,2,1］オクタンあるいは1,8-シネオール若しくは1-メチル-4-（1-メチルエテニル）-7-オキサビシクロ［4,1,0］ヘプタンである方法、新規な前駆体混合物及び式（I）の化合物の基板上への低誘電ｋ膜の化学気相堆積での孔形成化合物としての使用に関する。
【化１】

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【課題】誘電率、耐クラック性等の膜特性の観点において優れた絶縁膜、およびそれを用いた電子デバイスを得るための膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】カゴ型構造を有するモノマーからカゴ型構造を有する重合体を製造する際、重合体と反応し得る、熱分解性基を有する化合物を溶媒として用いることを特徴とする重合体の製造方法。 （もっと読む）

記載なし。 （もっと読む）

【課題】蛍光や燐光の化合物を含む高分子材料で、発光素子に用いたとき低電圧で駆動でき、発光効率、発光色の色調等実用性に優れる発光素子を与えられる高分子材料の提供。
【解決手段】式（１）で示される化合物の残基を含む高分子（Ａ）又は該（Ａ）の構造と、可視域に蛍光又は燐光を示す分子（Ｂ）又は該（Ｂ）の構造とを含む高分子系材料。（式中、Ａ環、Ｂ環及びＣ環はそれぞれ独立に置換基を有していてもよい芳香族環又は非芳香族環を表し、Ａ環、Ｂ環及びＣ環の一つ又は二つは非芳香族環である。）
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【課題】 マクロスケールに及ぶ３次元Ｃ_６０ポリマーを製造する。
【解決手段】
ヨウ素とＣ_６０粉末との混合物を出発原料２０として加圧成形室３０に供給し、加圧成形室３０において加圧部４０により出発原料２０を加圧成形し、加圧成形した状態の出発原料２０に、３００°Ｃ以下の加熱状態で５００〜６００ｎｍ程度の波長領域のレーザ光Ｌを照射することにより、ヨウ素とＣ_６０粉末との混合物から光重合反応により３次元フラーレン重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】導電性に優れ、フィルム化が可能な導電性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）共役系高分子並びに（Ｂ）ドーパントとからなる導電性組成物であって、（Ｂ）ドーパントがチオール化合物及び／又はジスルフィド化合物と、共役系高分子と反応性を有する基を含む化合物との反応により形成される数平均分子量が１０００〜１００００の有機重合体である導電性組成物並びにその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 基板上に共役ポリマーを含む被覆を作るための方法を提供する。
【解決手段】 この方法は基板を準備し、共役ポリマー被覆形成物質を大気圧プラズマ放電中にまたはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、被覆形成物質の導入と同時に、追加の物質を前記プラズマ放電中またはそれからもたらされる反応性ガス流中に導入し、基板を前記プラズマ放電またはそれからもたらされる反応性ガス流に露出し、それにより前記被覆を得ることを含む。 （もっと読む）

【課題】 エッチングや蒸着などの高価な設備を不要とし、廃液等の出ない環境に好ましいプロセスであり、極めて密着性に優れ、絶縁不良がなく、かつ高密度で経時変化の少ない金属パターンを基板、特にプラスチック基板の上に形成することができる金属パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板表面に印刷により金属パターンを形成する方法において、該基板表面に下記処理（Ｐ）を施した後に金属パターンを形成すること特徴とする金属パターンの形成方法。〔処理（Ｐ）：基板を処理室内に配置し、モノマーを処理室内に導入してプラズマを発生させることにより基板表面に重合体皮膜を形成する処理〕 （もっと読む）

【課題】壁厚さの調節と多層形成が容易な線状ナノ材料の製造方法、これによる線状ナノ材料、その線状ナノ材料を利用した薄膜トランジスタ基板を提供する。
【解決手段】本発明による線状ナノ材料の製造方法は、直径２００ｎｍ以下の孔隙が形成されている鋳型を設ける工程と；気相の有機物質を導入して、前記孔隙内に線状ナノ材料を形成する工程と；を含むことを特徴とする。また、本発明の線状ナノ材料は、直径が２００ｎｍ以下であり、内部が空いているチューブ形状のシェルと、前記シェルの内部に形成されているコアとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 膜形成用組成物、特に、電子デバイスなどに用いられる低誘電率でかつ比誘電率の経時変化の少ない絶縁膜を形成することができる膜形成用組成物、およびそれを有する電子デバイスを提供する。
【解決手段】 カゴ型構造を有する化合物を含む膜形成用組成物であって、組成物中の各金属の含量がそれぞれ３００ｐｐｂ以下であることを特徴とする膜形成用組成物、それを用いた絶縁膜および電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】
無色透明性が要求される光学材料分野に好適に使用される光学材料用含硫黄モノマーの製造方法として、色相に優れ、かつ経時劣化の小さな光学材料用含硫黄モノマーを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】
下記の（１）または（２）の基準を満たす原料を５０ｍｏｌ％以上使用することを特徴とする、１０ｍｍ長のｂ＊値が２．０以下である光学材料用含硫黄モノマーの製造方法。
（１）使用する原料が液体の場合、１０ｍｍ長のｂ＊値が、０．８以下
（２）使用する原料が固体の場合、その８重量％水溶液を調整して測定した１０ｍｍ長のｂ＊値が、０．７以下 （もっと読む）

【課題】有機モノマーを反応ガス中に材料ガスとして含ませてプラズマによる重合を行う事により、特性が優れた薄膜のハードマスクを形成する。
【解決手段】容量結合式のプラズマCVD装置により半導体基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する方法において、ビニル基、アセチレン基で置換されていない沸点約２０℃〜約３５０℃の炭化水素系液体モノマー(C_αH_βX_γ、α，β：５以上の自然数，γ：0を含む整数、X：O、N、またはF) を気化させる工程、該気化したガスを基板が置かれたCVD反応室に導入する工程、及び該ガスをプラズマ重合させることにより該基板上に炭化水素系ポリマー膜を形成する工程、を包含する。 （もっと読む）