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Fターム[4J036DB15]の内容

エポキシ樹脂 (63,436) | 活性水素化合物(O含有化合物) (3,636) | カルボン酸 (2,172) | 多塩基酸、酸無水物系硬化剤一般 (728)

Fターム[4J036DB15]に分類される特許

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【課題】その硬化物において低誘電率、低誘電正接でありながら、優れた耐熱性を兼備させた熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、これらの性能を発現する半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルムを提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂用硬化剤とを必須成分とすることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂用硬化剤として、脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール類が結節された分子構造を有するフェノール樹脂(a−1)、芳香族ジカルボン酸又はそのハライド(a−2)、及び、芳香族モノヒドロキシ化合物(a-3)を反応させて得られる構造を有する活性エステル樹脂(A1)と、不飽和脂環式化合物とフェノール化合物とが重付加反応した構造を有する多官能フェノール化合物(A2)とを併用する。 (もっと読む)


【課題】耐熱、耐UV性、貯蔵安定性が良好な硬化物を与える樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)の構造を有するシリコーン変性エポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物。


[式中、R1、R2は特定の有機基、Yは環状エーテル基を含有する有機基。] (もっと読む)


【課題】ガスバリア性および密着性に優れた半導体デバイス用部材を提供することを目的とする。
【解決手段】下記(A)〜(D)を含む熱硬化性樹脂組成物であり、
該熱硬化性樹脂組成物に含まれる(A)ポリシロキサンと(B)エポキシ化合物のエポキシ当量の合計が200〜700g/当量であり、
かつ、該熱硬化性樹脂組成物を熱処理することで形成される硬化物の、動的粘弾性測定による150℃における貯蔵弾性率が、1.00×10〜1.60×10Paである
ことを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。
(A)ポリシロキサンのエポキシ当量が250〜1000g/当量であり、かつ、下記式(1)で表されるポリシロキサン
(RSiO1/2a(RSiO2/2(RSiO3/2
(SiO4/2(OR) ・・・(1)
(B) エポキシ化合物
(C) 硬化剤
(D) 硬化触媒 (もっと読む)


【課題】耐熱性及びハンドリング性に優れるエポキシ化合物、及び低線膨張の硬化物が得られるエポキシ化合物を提供すること。さらには、感度及び密着性に優れ、適切なパターン形状や微細パターンが得られるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】一般式(1)で表されるエポキシ化合物、及び、該エポキシ化合物に不飽和一塩基酸を付加させた構造を有するエポキシ付加化合物と、多塩基酸無水物とのエステル化反応により得られる反応生成物である構造を有する光重合性不飽和化合物を含有するアルカリ現像性樹脂組成物。式中、X、Y、Z1及びZ2は、C1〜10アルキル基、C6〜20アリール基等を表し、L1は1,2−エタンジイル基又は1,2−プロパンジイル基であり、nは1〜20、kは0〜4、pは1〜8、r、s、x及びyは互いに独立して0〜4の数をそれぞれ表し、xとyの合計は2〜4である。
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【課題】白色顔料を高充填しても、ソルダーレジスト層に基板の反りや捻れによるクラックが発生しにくいソルダーレジスト組成物及び金属ベース回路基板を提供する。
【解決手段】金属ベース基板の絶縁層及び導体回路上に、エポキシ当量が200〜2000の水素添加ビスフェノールA型〜F型又はそれらの共重合体であるエポキシ樹脂、エポキシ当量が200〜10000のビスフェノールA型〜F型又はそれらの共重合体であるエポキシ樹脂、主鎖がシロキサン骨格及びビスフェノールA骨格を含み、主鎖中のシリコーンの割合が30〜75質量%であり、かつエポキシ基が末端に導入されたエポキシ樹脂、主鎖がヘキサメチレングリコール骨格、グリセリン骨格及びビスフェノールA骨格を含み、かつ末端にエポキシ基が導入されたエポキシ樹脂、ポリテトラメチレングリコール型エポキシ樹脂のうち、1又は2以上を含有する組成物でソルダーレジスト層を形成する。 (もっと読む)


【課題】硬化させた場合に、硬化物が良好な透明性、優れた耐光性、優れた耐熱変色性、優れた密着性を有すると共に、輸送や貯蔵の際に高温の環境に曝された場合にも優れた保存安定性を有するエポキシ変性シリコーン組成物及び該エポキシ変性シリコーン組成物を含有する硬化性エポキシ変性シリコーン組成物を提供すること。
【解決手段】下記平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーン100質量部に対し、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤及びアミン系酸化防止剤なる群から選ばれる少なくとも1種の酸化防止剤を0.0005質量部以上5質量部以下含有することを特徴とする、エポキシ変性シリコーン組成物。


[平均組成式(1)中、Rは、各々独立に、(A)1価の脂肪族有機基、(B)1価の芳香族有機基又は(C)1価の有機基を表す。R2は、各々独立に、エポキシ基を含有する有機基を表す] (もっと読む)


【課題】良好な透明性、優れた耐光性、優れた耐熱変色性、優れた密着性を有する発光素子用封止材として好適に用いられる硬化性樹脂組成物、並びに、該樹脂組成物を用いて形成された発光部品を提供する。また、射出成形に適し、硬化後において硬質であり寸歩安定性にも優れた、レンズ材料として好適な硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】[A]ヒドロシリル化触媒の存在下、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物(a)を含むビニル化合物(b)をヒドロシリル化反応により付加して得られるエポキシ変性シリコーン、100質量部、[B]エポキシ樹脂用硬化剤含有量が0.1質量部以上1,500質量部以下、[C]酸化防止剤成分の含有量が0.001質量部以上10質量部以下、[D]硬化触媒の含有量が0.001質量部以上10質量部以下であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 作業性、ハンドリングの容易性、狭ピッチ化対応のため、液状であり、短時間での硬化が可能で、短時間で半導体チップ−基板間のボイドを抑制することができる先供給型封止材樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 (A)液状エポキシ樹脂、(B)特定構造のエポキシ樹脂、(C)液状酸無水物硬化剤、および(D)マイクロカプセル型硬化促進剤を含むことを特徴とする、先供給型液状半導体封止樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】新規な難燃性エポキシ樹脂の提供。
【解決手段】下記一般式(1)[式中、Xは水素原子又は一般式2を表し、nは0または1を表し、そしてR1及びR2は炭素数1から6の炭化水素基を表し、同一であっても異なっていてもよく、またはリン原子と共に環状になっていてもよく、前記一般式2においては、Aは炭素数6から20のアリーレン基及び/またはトリイル基を表わす]で示されるリン化合物と、シアヌル酸とエポキシ樹脂(a)とを反応して得られるリン及び窒素を分子内に含有するエポキシ樹脂(A)。
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【課題】エポキシ樹脂組成物の硬化物としたときに難燃性、低吸湿性、密着性、曲げ弾性率などの諸物性において優れたものを与えることのできるエポキシ樹脂、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】置換基として炭素数1〜4のアルコキシ基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキル基置換または非置換ベンゼンとフェノールからなるアルデヒド縮合フェノール系化合物が特定比で含まれる混合物とエピハロヒドリンとを反応させて得られるエポキシ樹脂。 (もっと読む)


【課題】アルミニウムキレート−シラノール硬化触媒系を含有する熱硬化型エポキシ樹脂組成物に、エポキシ成分として末端エポキシ樹脂を含有した場合でも、重合反応を停止することなく、低温速硬化することができるようにする。
【解決手段】アルミニウムキレート−シラノール硬化触媒系とエポキシ樹脂とを含有する熱硬化型エポキシ樹脂組成物に、アニオントラップ剤を併用する。アニオントラップ剤としては、芳香族フェノール誘導体が好ましい。具体的には、ビスフェノールS、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4′−ジヒドロキシフェニルエーテル等を挙げることができる。アルミニウムキレート−シラノール硬化触媒系は、アルミニウムキレート剤とシランカップリング剤とから構成される。アルミニウムキレート剤としては、多官能イソシアネート化合物を界面重合させて得た多孔性樹脂に保持されてなる潜在性アルミニウムキレート硬化剤が好ましい。 (もっと読む)


【課題】長時間の通電においても光度低下が非常に小さい光半導体装置を提供する。
【解決手段】光半導体素子4の周囲が、脂環式エポキシ化合物(A)と、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、ポリカーボネートポリオール(C)と、アクリルブロック共重合体(D)と、硬化剤(E)と、硬化促進剤(F)とを含む第1の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物6により封止され、且つ前記硬化物6の周囲が、分子内に複数のエポキシ基を有するエポキシ化合物(G)と、脂環式ポリエステル樹脂(H)と、硬化剤(I)と、硬化促進剤(J)とを含む第2の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物7により封止されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐衝撃性に優れた硬化物を得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、1種またはそれ以上のエポキシ樹脂(A)と、エポキシ当量220g/eq以上400g/eq以下のエポキシ樹脂に、両末端にカルボキシル末端とアミノ基との何れか一方又は両方を有するアクリロニトリル−ブタジエンゴムを反応させて得られるゴム変性エポキシ樹脂(B)と、1種またはそれ以上の硬化剤(C)と、を含むことを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】低線膨張で耐熱性に優れ、かつ、耐水性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】カルボキシル基、カルボン酸無水物基、及びヒドロキシフェニル基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する脂環式オレフィン重合体(A)、環に縮合したエポキシ基を2つ以上含有するエポキシ化合物(B)、及び熱酸発生剤(C)を含有してなる硬化性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】粗化予備硬化物の粗化処理された表面の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化物と金属層との接着強度を高めることができる予備硬化物を提供する。
【解決手段】本発明に係る予備硬化物1は、エポキシ樹脂材料の硬化を進行させることにより得られる。予備硬化物1は、粗化処理される第1の主面1aと第2の主面1bとを有する。上記エポキシ樹脂材料は、エポキシ樹脂と硬化剤とシリカ2とを含む。シリカ2は、粒子径が0.01μm以上、0.5μm未満である第1の小粒径シリカ2Aと、粒子径が0.5μm以上、20μm以下である第2の大粒径シリカ2Bとを含む。予備硬化物1中で、第1の小粒径シリカ2Aと第2の大粒径シリカ2Bとはそれぞれ偏在している。予備硬化物1は、第1の小粒径シリカ2Aと第2の大粒径シリカ2Bとの存在量が異なる第1の領域R1と第2の領域R2を有する。 (もっと読む)


【課題】ウエハーレベルパッケージにおいて生産性の低下を招く擬似ウエハーの反りを抑制した液状封止樹脂組成物、およびこれを用いて作製した半導体パッケージを提供すること。
【解決手段】シリコンウェハーと液状樹脂組成物の硬化物の2層状態において式(1)により得られる内部応力値(σ)が10MPa以下である液状樹脂組成物。
【数1】


(但し、σは内部応力、Eresin(T)は温度T℃における液状樹脂組成物の硬化物の弾性率、αresin(T)は温度T℃における液状樹脂組成物の硬化物の線膨張係数、αsi(T)は温度T℃におけるシリコンの線膨張係数。) (もっと読む)


【課題】高透磁率と低tanδ、並びに高体積抵抗率などの特性を全て満たす磁性体組成物を提供すること。
【解決手段】磁性体無機粒子をコアとするコア−シェル構造粒子およびマトリックス樹脂を含有するペースト組成物であって、前記コア−シェル構造粒子のシェルが、金属配位性官能基と重合性基を含む有機物を重合させて得られる樹脂を含むことを特徴とするペースト組成物。 (もっと読む)


【課題】高い光透過率と高い安定性と、機械的及び耐熱、耐UV性において優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物、光半導体封止組成物及び光半導体素子接着剤を提供する。
【解決手段】(a)下記式(1)で表されるシルセスキオキサンと(b)1分子中に少なくとも2個のH−Si結合を有するオルガノポリシロキサンと(c)イソシアヌル酸誘導体とのヒドロシリル化反応によって製造されてなるイソシアヌル基含有シロキサン変性シルセスキオキサンを含む硬化性樹脂組成物、それを含む光半導体封止組成物及び光半導体素子接着剤である。
(もっと読む)


【課題】 耐光性、平坦性に特に優れ、耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬品性、耐水性、ガラスなどの下地基板への密着性、透明性、耐傷性、塗布性においても優れた硬化膜及びこの硬化膜を与える樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 ポリエステルアミド酸、エポキシ樹脂、及びエポキシ硬化剤を含む樹脂組成物であって、ポリエステルアミド酸がテトラカルボン酸二無水物、ジアミン、及び多価ヒドロキシ化合物を必須の原料成分として反応させることにより得られ、エポキシ樹脂がグリシジル(メタ)アクリレートと2官能 (メタ)アクリレートを必須の原料成分として反応させることにより得られることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】塗布法により幅の広いトレンチに埋め込みを行った場合にも、ディンプルが生じず、はがれやにごりなどなく、均質で、平坦な表面を有する硬化膜を形成することができる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】以下の(A)成分〜(C)成分を含有することを特徴とする硬化性組成物。(A)成分:脱離基を有するエポキシ基含有ポリシロキサンであり、該ポリシロキサン中に含まれる全Si原子の数を100mol%とするとき、前記脱離基の含有割合が35mol%以下であるエポキシ基含有ポリシロキサン。(B)成分:シリコーン系界面活性剤。(C)成分:溶剤。 (もっと読む)


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