【課題】塗布法で膜を形成することができ、発光効率が高く、寿命が長く、特に高温駆動での寿命が長い有機デバイス（特に有機エレクトロルミネッセンス素子）、及びそれを実現する重合性単量体とそれを用いた高分子化合物、有機デバイス用材料（特に有機エレクトロルミネッセンス素子用発光材料）を提供すること。
【解決手段】下記式で表される化合物に重合性官能基が置換した重合性単量体。
Ａｒ^a−Ａｒ¹−（Ａｒ²）_m−（Ａｒ³）_n−（Ａｒ⁴）_o−Ａｒ^b
（Ａｒ^a及びＡｒ^bは、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、９，９−ジアルキルフルオレン環、９，９−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ［ｂ］フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる一価の基であり、置換基を有していてもよい。Ａｒ¹、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴は、それぞれ独立に、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、９，９−ジアルキルフルオレン環、９，９−ジフェニルフルオレン環、クリセン環、フルオランテン環、ベンゾ［ｂ］フルオランテン環、フェナントレン環、ベンゾフェナントレン環、ジベンゾフェナントレン環、ベンゾクリセン環、ピセン環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環からなる連結基であり、アリール基及びヘテロアリール基以外の置換基を有していてもよい。ｍ、ｎ及びｏは、それぞれ独立に、０又は１である。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー用途に好適で新規なポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）およびスルファモイルオキシアダマンチルメタクリレート構成単位（ｆ２）を有する高分子化合物（Ｆ１）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤として、所定の一般式で表されるオニウム塩と、（Ｂ）酸解離性基を有し、酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性又は難溶性の樹脂成分とを含有し、（Ｂ）樹脂成分が、特定の繰り返し単位（ｉ）を含むものであるポジ型感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの金属元素と、少なくとも１つの芳香族環を含む少なくとも１つの芳香族モノマーとの配位錯体に関し、この環は少なくとも１つのエチレン性基、少なくとも１つの水酸化物基−ＯＨ基、少なくとも１つのオキシム基およびそれらの塩を含み、この金属元素は金属アルコキシドの形態である。 （もっと読む）

【課題】アシル基によって保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を有する単位構造を含むポリマーの脱保護反応において、より短時間に、他の部分構造を保存したまま脱アシル化を行うことができ、かつポリマーとして取出した際、反応に係わるポリマー以外の物質による汚染を高度に抑制可能な保護ポリマーの脱保護方法を提供する。
【解決手段】アシル基により保護されたフェノール性水酸基を有する単位構造を少なくとも含む保護ポリマーと、ＣｌｏｇＰの値が１．００以下である第１級または第２級アミン化合物から選ばれる脱保護試薬（但し、第２級アミン化合物はアミノ基の窒素原子に結合する二つの炭素原子がいずれも第３級ではない）とを、有機溶剤に溶解して脱保護するステップを少なくとも含む、保護ポリマーの脱保護方法が提供できる。上記第１級または第２級アミン化合物は、好ましくは ＨＮＲ^１_２−ｎＲ^２_ｎ （１） で示される。 （もっと読む）

本開示は、固体粒子と構造化されたビニルポリマー分散剤とを含む水性分散系であって、前記構造化ビニルポリマー分散剤が少なくとも１つの親水性セグメントと少なくとも１つの疎水性セグメントを含み、親水性セグメントが少なくとも１つの架橋性部分を含み、架橋性部分が水性インクビヒクルに実質的に不溶性である架橋剤と架橋されている、水性分散系を提供する。これらの分散系は、インクジェットインク中で使用された場合に、新興のインクジェット利用分野に必要とされる必須の光学密度および色度を伴う画像を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる少なくとも１つの基と、フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する樹脂：（ｘ）アルカリ可溶基；（ｙ）アルカリ現像液中で分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基；（ｚ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】プロピレンなどのオレフィンを重合する場合に、工業化可能な高温条件下において、重合体の融点が低下せず、優れた重合活性で製造する方法を提供する。
【解決手段】Ａ）下記一般式［１］で表される架橋メタロセン化合物を含むオレフィン重合用触媒の存在下に重合する。
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【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。
【解決手段】（ア）化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記レジスト組成物が、（Ａ）実質的にアルカリ不溶性である樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）架橋剤、（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法、該方法に用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜。 （もっと読む）

【課題】 紙及び板紙の製紙工程において、地合い性を損なうことなく、歩留の向上や生産性の向上ができる製紙用薬剤並びにそれを用いた抄紙方法を提供することを課題とする。
【解決手段】抄紙前の製紙原料において、最後のスクリーンを通過した主製紙原料流の一部をバイパス流とし、該バイパス流を更に２つあるいは３つに分流し、これら分流と製紙薬剤を一つあるいは二つの混合手段により混合し、前記主製紙原料流に還流することにより、製紙薬剤を添加、混合する抄紙方法において、前記製紙薬剤はビニル系単量体あるいはビニル系単量体混合物を乳化重合することにより得た０．２％水溶液粘度が３００ｍＰa・ｓ以下のビニル重合系水溶性カチオン性或いは両性重合体の油中水型エマルジョンが、該抄紙方法に適合する製紙薬剤であり、上記課題を解決することができる。
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【課題】ポリマー材料の変性方法を提供する。
【解決手段】高剪断環境および揮発分除去能力を有する混合装置中で熱誘発反応を実施することによるポリマーの変性方法が開示される。得られる材料もまた開示される。 （もっと読む）

【課題】少量の高活性触媒組成物を使用して高収率で共役ジエン系重合体を水素化する方法を提供する。
【解決手段】（ａ）乃至（ｃ）の化合物を含む触媒組成物を用い、共役ジエン系重合体を水素化する。（ａ）チタン化合物（ｂ）化学式ＩＩの構造を有する化合物


（Ｒ^５は、アルキレン、アルケニレン、アミノ、エーテル、ケトンおよびエステル基の何れか一つであり、Ｒ^３とＲ^６は、アルキル又はアルケニル基、Ｒ^４とＲ７は、アルキル、アルケニル、アミノ、エーテル、ケトン及びエステル基の何れか一つである）（ｃ）アルキルアルミニウム。 （もっと読む）

【課題】ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により塩基を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱透明性、表面硬度などの一般的要求特性を満たすと同時に、高温、高湿の厳しい条件下においても、ＩＴＯ透明導電膜やモリブデン等の金属配線に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］シロキサンポリマー、［Ｂ］水酸基を少なくとも１つ有するフェノール基を側鎖に有する繰り返し単位を含むポリマー、及び［Ｃ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】光照射によって脱離成分を伴わずに凝集体からなる微粒子を形成することができ、かつ凝集体からなる微粒子の形成によって高分子の空間的構造を固定化することができる微粒子及び微粒子の製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるブロック共重合体からなる微粒子であって、前記微粒子の平均粒子径が１００ｎｍ以下である。
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【課題】高感度、高解像度、長期間に渡る良好な保存安定性及びプロセス適応性を有する化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（１）で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である高分子化合物、


（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）カルボン酸、（Ｅ）溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト材料であって、カルボン酸の酸解離定数（ｐＫａ）が２以下であり、且つ、カルボン酸の含有量が塩基性化合物の含有量を超えないことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト材料。 （もっと読む）

平版印刷版原版は、40meq/g KOH以上の酸価を有するポリマーバインダー、1つ又は複数のN-アルコキシメチル(アルキル)アクリルアミド又はアルコキシメチル(アルキル)アクリレートから誘導される繰り返し単位を少なくとも3重量%、ペンダント1H-テトラゾール基を有する繰り返し単位を少なくとも2重量%、及び、ペンダントシアノ基を有する繰り返し単位を少なくとも10重量%を含む画像形成性層を有することができる。かかるポリマーバインダーの使用により、特にポジ型原版に対して良好なベーク可能性及び耐化学溶剤性が提供される。 （もっと読む）

【課題】放射線感度、現像マージンが高く、耐熱性、耐溶剤性、低誘電性、光線透過率、耐光性、耐ドライエッチング性が優れた層間絶縁膜を形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］ヒンダードアミン構造及び／又はヒンダードフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂、並びに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。［Ａ］成分は、好ましくは、（ａ１）不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物から選ばれる１種以上を含む単量体、並びに（ａ２）ヒンダードアミン及び／またはヒンダードフェノール構造を含むアクリル酸エステル単位、（ａ１）及び（ａ２）の化合物に加えて、（ａ３）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体から得られる共重合体であってよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学デバイスにおける反射防止膜などとして使用するのに適した、硬化時の膜収縮が少なく、塗布面状が良好で、耐湿性および密着性に優れ、高温条件下においても屈折率変化の小さい、低屈折率膜の形成が可能な光学材料用組成物を提供することを目的とする。さらに、本発明は、該光学材料組成物を用いて製造される反射防止膜、および該反射防止膜を有する光学デバイスを提供することも目的とする。
【解決手段】下記平均組成式（１）（Ｒ¹ＳｉＯ_1.5）_x（Ｒ²ＳｉＯ_1.5）_y（式（１）中、Ｒ¹は、重合性基を表す。Ｒ²は、非重合性基を表す。ｘは２．０〜１４．０の数を表し、ｙは２．０〜１４．０の数を表す。ただし、ｘ＋ｙ＝８〜１６を満たす。なお、複数のＲ¹およびＲ²は、同一であっても異なっていてもよい。）で表され、１種または２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類、より得られる重合体を含有する光学材料用組成物。 （もっと読む）

【課題】 透過性及び選択除去性の両方に優れた揮発性有機化合物の分離膜を提供することを課題とする。また、該揮発性有機化合物の分離膜を用いた揮発性有機化合物の分離除去方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 容積比１倍以上のトリクロロメタン又は容積比１．６４倍以上のベンゼンを溶解するイオン性液体が基材に担持されてなることを特徴とする揮発性有機化合物の分離膜などを提供する。 （もっと読む）