【課題】特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位（Ａ）と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する、少なくとも２種の繰り返し単位（Ｂ１）および（Ｂ２）を含有する樹脂（Ｐ）を含む感活性光線性または感放射線性樹脂組成物において、繰り返し単位（Ｂ１）で発生するアルカリ可溶性基と、繰り返し単位（Ｂ２）で発生するアルカリ可溶性基とが異なることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表わされる含フッ素不飽和カルボン酸オニウム塩。
【化】


（式中、Ｒ^１は、重合性二重結合含有基、Ｒ^２は、フッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｗ^１は、二価の有機基、Ｑ^＋は、スルホニウムカチオン、またはヨードニウムカチオンを示す。） （もっと読む）

【課題】孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（Ｐ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。
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【課題】得られるパターンの解像性及び形状に優れたレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明のレジスト組成物は、芳香族化合物と酸発生剤とを含み、前記芳香族化合物が、酸に不安定な基を有し、かつ分子量が３００以上２０００以下であり、前記酸発生剤が、式（Ｉ）で表される構成単位を有する樹脂であることを特徴とする。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子またはハロゲン原子を有してもよいＣ_1-6アルキル基を表す。Ｌは、単結合、置換基を有していてもよい２価のＣ_1-17飽和炭化水素基を表す。Ｗは、置換基を有していてもよい２価のＣ_3-36脂環式炭化水素基、又は置換基を有していてもよい２価のＣ_6-36芳香族炭化水素基を表す。Ｘ¹は、置換基を有していてもよい２価のＣ_1-17飽和炭化水素基を表す。Ｒ^dは水素原子又はＣ_1-6アルキル基を表す。Ｑ^a及びＱ^bは、互いに独立に、フッ素原子又はＣ_1-6ペルフルオロアルキル基を表す。Ｚ^a+は、有機カチオンを表す。＊は結合手を表す。］ （もっと読む）

【課題】オキシアルキレン基の平均重合度が３以下のリン酸エステル化（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレートと、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物とを乳化重合して、実質的に均一なエマルジョンを形成しながらリン酸基含有ビニル系重合体含有組成物を製造する方法を提供する。
【解決手段】オキシアルキレン基の平均重合度が３以下のリン酸エステル化（ポリ）アルキレングリコール（メタ）アクリレートと、その他のエチレン性不飽和結合含有化合物とを、（ポリ）エーテル基、四級アンモニウム塩基及び長鎖炭化水素基のいずれかを有する塩基性含窒素化合物の共存下、水媒体中で乳化重合する方法。 （もっと読む）

【課題】 低温特性、透明性が良好な材料組成物と前記組成物からなる光学レンズ等の光学素子を提供する。
【解決手段】 重合性官能基を有するジフェニル化合物（Ａ）と無機化合物粒子（Ｂ）、および重合性官能基で置換したＮ置換カルバゾール化合物（Ｃ）を含む材料組成物。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位と酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた繰り返し単位とを含んだ感活性光線性又は感放射線性樹脂を高純度で製造可能とする技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂の製造方法は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた第１単量体と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基を備えた第２単量体とを含んだ反応系を、塩基性化合物の存在下で重合させることを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】分子量が３００００以上で、かつ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０１〜１．３０のスチレン系重合体を工業的に製造する方法を提供すること。
【解決手段】非極性又は低極性溶媒５０〜９５重量％と極性溶媒５０〜５重量％とからなる混合溶媒中、有機カリウム化合物の存在下、−１００〜−３０℃の温度でスチレン系単量体をアニオン重合することにより、数平均分子量が３００００以上であり、かつ分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０１〜１．３０であるスチレン系重合体を製造する。有機カリウム化合物としては、式〔Ｉ〕：Ｒ−Ｏ⁻Ｋ^＋〔Ｉ〕（式中、Ｒは、アルキル基、シクロアルキル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロアリールカルボニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基又はヘテロアラルキル基を表す。）で表される化合物が好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる基を少なくとも１つ含有する含フッ素化合物、および（Ｆ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。（ｘ）アルカリ可溶性基、（ｙ）アルカリ現像液の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する基、（ｚ）酸の作用により分解する基。 （もっと読む）

【課題】感度や解像度、ラインエッジラフネスの向上を達成しうるアルカリ現像性や基板密着性に優れた機能性樹脂組成物の開発に関し、リソグラフィー用レジスト原料として、透明性、エッチング耐性に優れるだけでなく、更に高感度、高解像度を有し、集積密度向上に対して技術的に好ましい機能性樹脂組成物の提供。
【解決手段】式（１）の化合物、４位をヒドロキシ基、アルコキシ基で置換されたスチレン系化合物、および酸素含有複素環エステル基を有する（メタ）アクリレート化合物を繰り返し単位に含む機能性樹脂組成物。


（１） （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(Ａ)水酸基を置換した芳香族環を側鎖に有する繰り返し単位（１）を含むベースポリマーと、酸存在下に繰り返し単位（１）への求電子反応により架橋を形成する架橋剤との組み合わせ(Ｂ)酸発生剤(Ｃ)塩基性成分として窒素含有化合物を有し、上記ベースポリマーの少なくとも一部は、式(３)


(Ｒ³はアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、メルカプトアルキル又はアルキルチオアルキル。)で示される基を有する化学増幅ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレート単量体（ａ）、ビニルピロリドン単量体（ｂ）、アニオン供与基を有する単量体（ｃ）、および非フッ素（メタ）アクリレート単量体（ｄ）を共重合して得られる含フッ素共重合体を含んでなる紙用耐水耐油剤が開示されており、優れた耐水性および耐油性を付与する。本発明はまた、該耐水耐油剤を含む紙用処理組成物、該処理組成物による紙処理方法、および該耐水耐油剤で処理された加工紙をも開示する。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する樹脂と、式（Ｄ’）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はＣ₁〜Ｃ₆ペルフルオロアルキル基を表す。ＵはＣ_１〜Ｃ_２０２価の炭化水素基を表し、該炭化水素基の−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−等で置き換わっていてもよい。Ｘ^１は−Ｏ−ＣＯ−等を表す。Ａ^＋は有機対イオンを表す。Ｒ’^１〜Ｒ’^４は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₂₀アルキル基、置換基を有していてもよいＣ₃〜Ｃ₃₀飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよいＣ₂〜Ｃ₂₀アルケニル基を表す。Ａ’^１は置換基を有していてもよいＣ₁〜Ｃ₃₆炭化水素基を表し、該炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。］
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【課題】本発明は、高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、レジスト材料として用いることのできるスルホニウム塩、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるスルホニウム塩。


（式中、Ｘ、Ｙは重合性官能基を有する基を示す。Ｚはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３３の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３６の二価の炭化水素基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜３０の一価の炭化水素基を示すか、あるいはＲ^２及びＲ^３が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】非極性分散媒中での沈降が少なく、かつ分散安定性に優れ、また非極性分散媒に電荷制御剤等の分散剤を用いることなく、電圧印加により単独で電気泳動する着色樹脂粒子を提供する。
【解決手段】架橋（メタ）アクリル酸エステル系樹脂からなる基材樹脂に、顔料を顔料分散剤の存在下で分散させて得られる粒子であり、前記粒子が０．９０〜１．０４ｇ／ｃｍ³の真密度を有することを特徴とする架橋（メタ）アクリル酸エステル系着色樹脂粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する第１構造部位を備えた第１繰り返し単位と、酸の作用により分解してスルホン酸を発生する第２構造部位を備えた第２繰り返し単位とを含んだ樹脂を含有している。 （もっと読む）

【課題】水性アルカリ性現像剤中で現像が可能な光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物及び、このような組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】光結像性ポジ型底面反射防止膜組成物であって、発色団基、ヒドロキシル及び／またはカルボキシル基、及び酸不安定基を含むポリマー、及び末端ビニルエーテル基を有する架橋剤を含み、更に光酸発生剤を含むかまたは含まない、上記組成物及び、このような組成物の使用方法。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、
酸発生剤と、式（Ｉ’）で表される化合物とを含有するレジスト組成物。［式（Ｉ’）中、Ｒ’^１、Ｒ’^２、Ｒ’^３及びＲ’^４は、それぞれ独立に、Ｃ₁〜Ｃ₈アルキル基を表す。Ａ’^１は、置換基を有していてもよい２価のＣ_３〜Ｃ_３６飽和環状炭化水素基又は置換基を有していてもよい２価のＣ_６〜Ｃ_２０芳香族炭化水素基を表し、該飽和環状炭化水素基及び該芳香族炭化水素基はヘテロ原子を含んでいてもよい。］
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