【解決手段】下記一般式（１）で示されることを特徴とする重合性モノマー。


（式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基である。Ｒ²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。Ｒ³は、酸不安定基である。ｍは、１〜４の整数である。）
【効果】本発明の重合性モノマーを（共）重合して得られる高分子化合物をベース樹脂とするポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とラインエッジラフネスが良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、本発明によれば、特に超ＬＳＩ製造用又はフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料等として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】再溶解性、微細パターンの実現能力に優れ、基板との密着力および分散安定性が改善されたアルカリ可溶性バインダー樹脂の提供。
【解決手段】不飽和二重結合を含んだモノマー、カルボン酸を含んだ不飽和二重結合性モノマー、およびアリル基を含む不飽和二重結合性モノマーを繰り返し単位として含み、分子量分布(Ｍｗ/Ｍｎ)が２.０〜３.５であることを特徴とするアルカリ可溶性バインダー樹脂およびこれを含むネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性、成形流動性が改善された溶融成形用メタクリル系樹脂、及び加工安定性、耐糸曳き性に優れた溶融成形用メタクリル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】メタクリル酸エステル単量体単位：８０〜９８．５質量％と、前記メタクリル酸エステル単量体に共重合可能な、少なくとも１種の他のビニル単量体単位：１．５〜２０質量％とを含むメタクリル系樹脂であって、重量平均分子量（Ｍｗ）が１４００００〜２５００００であり、前記ＧＰＣの溶出曲線から得られるピーク重量平均分子量（Ｍｐ）の１／５以下の重量平均分子量成分が、前記メタクリル系樹脂中に２０％以上４０％以下含まれており、重量平均分子量（Ｍｗ）、数平均分子量（Ｍｎ）の関係が、下記（ｉ）式を満たす溶融成形用メタクリル系樹脂。
３．０Ｍｗ／Ｍｎ５．５ ・・・（ｉ） （もっと読む）

【課題】高い感度を有し、熱安定性が高く、かつ、有機溶媒膨潤率が低い硬化膜を形成しうるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）式（１）で表される構成単位とアセタール若しくはケタールで保護されたカルボキシ基又はフェノール性水酸基を有する構成単位とを含む樹脂、（成分Ｂ）酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はアルキル基を表し、Ｌ¹は二価の連結基を表し、Ｌ²は三価の炭化水素基を表す。
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【課題】良好な解像性、並びにその硬化物における良好な電気絶縁特性及び強度を示すポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）キノンジアジド基を有する化合物、（Ｃ）分子中に少なくとも２つのアルキルエーテル化されたアミノ基を有する化合物、（Ｄ）下記一般式（１）で表される構成単位（ｄ１）及び不飽和カルボン酸から誘導される構成単位（ｄ２）を含み、質量平均分子量が２万〜５０万であるアクリル樹脂、及び（Ｓ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物を使用する。一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ^２は独立に炭化水素基を表し、ｐは０〜３を表す。
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【課題】
本発明は、高い酸素透過性を有し、なおかつ高含水率、低弾性率を有するポリマー用のモノマーを提供する。また該モノマーからなるポリマーおよび眼用レンズを提供する。
【解決手段】
下記式（ａ）で表されることを特徴とするモノマー。
【化１】


［式（ａ）中、Ｘは重合可能な炭素炭素不飽和結合を有する基を表す。ＲはＨまたはメチル基を表す。Ａはシロキサニル基を表す。ｍは２〜１０の整数を表す。ｎは２〜１０の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するレジストパターンが得られるレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（ａ１−１）で表されるモノマーに由来する構造単位を含む樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される塩と、を含有するレジスト組成物。［Ｌ^a1は、−Ｏ−又は−Ｏ−（ＣＨ₂）_k1−ＣＯ−Ｏ−を表す。Ｒ^a4は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ^a6は、炭素数１〜８の脂肪族炭化水素基又は炭素数３〜１０の飽和環状炭化水素基を表す。Ｗ^１は、窒素原子を含む炭素数２〜１３の芳香族複素環又は置換基として−ＮＲ^１Ｒ^２基を含む炭素数６〜１４の芳香族炭化水素環を表す。Ｚ_１^＋は、有機対カチオンを表す。］
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【課題】コンタクトホールパターン形成時のパターンの側壁の垂直性が良化し、ＥＤＷが拡大し、サイドローブ耐性が向上し、かつ経時保存後のレジスト溶液中でのパーティクルの増加が著しく低減された化学増幅型レジスト組成物、並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）硫黄原子を有する特定の構造のベンゾイミダゾール系塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ポリオレフィン系樹脂からなる基材シートを用いた陽イオン交換膜であって、該基材シートと陽イオン交換樹脂との密着性に優れ、かつ、ピンホールを生じるおそれの少ない陽イオン交換膜を製造できる陽イオン交換膜の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるスチレンスルホン酸エステルを、ポリオレフィン系樹脂からなる基材シートに付着させた後、重合反応を行い、次いで得られた重合体中のスルホン酸エステル基を加水分解させることを特徴とする陽イオン交換膜の製造方法である。


（式中、Ｒは炭素数１〜７のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】光弾性係数が小さく、位相差が大きく、偏光子との貼合性に優れた光学フィルムを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表わされる単量体と水酸基もしくはアミド結合を有する単量体とを少なくとも含む重合体（Ａ）とセルロースエステル（Ｂ）とを含有するフィルム。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子及びケイ素原子、スズ原子のいずれか１種類以上を含む置換基を表し、ｎは０〜４の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】カチオン性ポリマーの高重合度化により凝集性向上する方法を提供する。
【解決手段】カチオン性ポリマー水溶液を調製する方法であって、（ａ）ラジカル開始剤から開始される反応により、カチオン性官能基を有する少なくとも１種のモノマーを有するモノマー成分の実質すべてを重合させて、ベースカチオン性ポリマー溶液を形成する工程と、（ｂ）前記ベースカチオン性ポリマー溶液をさらなるラジカル開始剤と接触させて、多数のカチオン性ポリマー基をして相互接続結合を形成させて、前記ベースカチオン性ポリマー溶液が、前記ベースカチオン性ポリマーよりも高い分子量を有する多重架橋カチオン性ポリマーを含有する水溶液を形成するようにする工程とを含む方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、成形性および耐薬品性が向上した炭素繊維強化プラスチックを提供し、さらに種々の用途に適用可能な成形体を提供する。
【解決手段】官能基含有ポリ-４-メチル-１-ペンテンと、前記官能基含有ポリ-４-メチル-１-ペンテンの官能基と反応可能な基が導入されるように表面処理された炭素繊維とを含む、炭素繊維強化ポリ-４-メチル-１-ペンテン複合材料。官能基含有ポリ-４-メチル-１-ペンテンは、ポリ-４-メチル-１-ペンテンをグラフト変性したものであることが好ましく、炭素繊維の表面処理は、サイジング処理であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるスチレン系重合体を、汎用の重合開始剤などを用いて重合を行なうことにより、簡単に製造できる方法の提供。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ¹は多環構造を有する脂環式炭化水素基、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基またはアリール基を示す。）で表されるスチレン系誘導体（Ｉ）の単独および共重合体を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体の提供。
【解決手段】共役ジエン単位と下記式（１）で表される化合物に基づく単量体単位とを有する共役ジエン系重合体の一端に、少なくとも１つがヒドロカルビルオキシ基とーＮＲ²⁴及びＲ²⁵を有する特定な珪素化合物を反応させて得られる共役ジエン系重合体。


（Ｒ¹¹は水素原子又は炭素数１〜５のヒドロカルビル基を表し、ｍは０又は１であり、Ｒ¹²はヒドロカルビレン基を表し、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、ヒドロカルビル基、又は、トリヒドロカルビルシリル基等を表す。）、（Ｒ²⁴及びＲ²⁵は、それぞれ、水素原子、窒素原子及び／又は酸素原子を有していてもよいヒドロカルビル基等を表す。） （もっと読む）

【課題】塩素化ポリオレフィンを含まず、ポリプロピレンとの接着性に優れた塗膜を与えるエマルションが求められている。
【解決手段】下記（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含むことを特徴とする水性エマルション。
（Ａ）α，β−不飽和カルボン酸（１）に由来する構造単位と、
下記＜化合物群＞から選ばれる少なくとも一つの化合物（２）に由来する構造単位と
を含むアクリル樹脂
＜化合物群＞
リン酸基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー及びその塩、
スルホ基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー及びその塩、
エポキシ基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー、
フタル酸に由来する基と（メタ）アクリロイル基とを有するモノマー及びその塩、
炭素数２〜２０の脂肪族不飽和スルホン酸及びその塩、並びに、
炭素数６〜２０の芳香族スルホン酸及びその塩
（Ｂ）熱可塑性ポリマー（ただし、（Ａ）とは異なる）
（Ｃ）水 （もっと読む）

【課題】切削加工やプレス加工による流路フリーで、ミクロンオーダーの流路が内在し、従来に比べて厚さを薄くすることが可能なセパレータを備えた出力密度を向上した直接メタノール型燃料電池を提供する。
【解決手段】メタノール水溶液が燃料として供給されるアノードと、酸化性ガスが供給されるカソードと、アノードとカソードの間に介在される電解質膜と、電解質膜と反対側のアノード面に配置された第１セパレータと、前記電解質膜と反対側の前記カソード面に配置された第２セパレータとを備え、前記第１、第２のセパレータはカルボニル基が結合された環状官能基を有する第１ビニルモノマーとカルボキシル基を有する第２ビニルモノマーと芳香族基を有する第３ビニルモノマーとの共重合体、およびこの共重合体に分散された炭素粉末を含む膜である直接メタノール型燃料電池。 （もっと読む）

【課題】
感温性微粒子ゲル分散液を作成するには、従来溶剤に溶解して重合する方法、あるいは乳化重合する方法などがあったが、いずれも分散液安定性や濃度を高くすることができなかった。本発明においては、界面活性剤や有機溶媒を用いることなく、高濃度かつ水中における分離安定性の高い感温性微粒子ゲル分散液およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】
特定の非イオン性単量体を３０モル％以上含み、水中で架橋剤と水溶性高分子の存在下において単独重合もしくは共重合することを必須とした条件により得られる感温性微粒子ゲル分散液の製造方法を提案することにより、本発明の課題を解決することができる。
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【課題】パターン倒れマージンやブリッジマージンに優れ、かつ基板上にレジスト組成物の残渣が残らず、更には散乱（フレア）光に対する耐性に優れた、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（ａ）活性光線又は放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物、及び
（ｂ）側鎖にアリール基を有する（メタ）アクリル酸エステル構造単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有することを特徴とする、Ｘ線、電子線又はＥＵＶ光露光用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】溶融成形による着色が少なく、溶融粘度の経時安定性が高いポリビニルアルコール系樹脂（ＰＶＯＨ系樹脂）組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される構造単位を有し、かつ４質量％水溶液としたときの紫外線吸収スペクトルにおける２８０ｎｍの吸光度が０．１〜０．３であるＰＶＯＨ系樹脂と、カルボン酸と、アルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩のうち少なくとも１つとを含有し、ＰＶＯＨ系樹脂の含有量が４質量％となるように調製した水溶液の２０℃におけるｐＨが５．５〜７であることを特徴とするＰＶＯＨ系樹脂組成物。


〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子または有機基を示し、Ｘは単結合または結合鎖を示す。〕 （もっと読む）