説明

Fターム[4J100AB07]の内容

付加系(共)重合体、後処理、化学変成 (209,625) | 芳香族オレフィン (7,664) | 置換基を有する芳香族オレフィン (2,235)

Fターム[4J100AB07]の下位に属するFターム

Fターム[4J100AB07]に分類される特許

241 - 260 / 1,755


【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造し得る下地剤を提供。
【解決手段】基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち20モル%〜80モル%が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤 (もっと読む)


【課題】感度、、解像力、ラインエッジラフネス(LER)、ドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する繰り返し単位(A)と、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位(B)とを含有する樹脂の間を酸分解性の架橋有機基で架橋してなり、酸の作用により該架橋が切断される高分子化合物(P)を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】C4〜C8モノオレフィンモノマーおよびC4〜C14マルチオレフィンモノマーを含むモノマー混合物から誘導されたコポリマーをハロゲン化することにより製造されたポリマーと比べて、向上した特性を有するハロゲン化ターポリマーを提供する。
【解決手段】80〜99質量%のC4〜C8モノオレフィンモノマー、0.5〜5質量%のC4〜C14マルチオレフィンモノマーおよび0.5〜15質量%のp-メチルスチレンモノマーからなるハロゲン化ブチルターポリマーであって、該ターポリマーは、分子量分布を有しており、該モノマーは、分子量分布全体にわたって組成が等質であるターポリマーを形成するようにランダムに分布している、ハロゲン化ブチルターポリマー (もっと読む)


【課題】粉体床重合により芳香族ビニル化合物重合体を製造する場合において、高い転化率を示し、かつ生成物が攪拌翼や反応器へ付着することなく安定に運転することができる、芳香族ビニル化合物重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】特定の触媒溶液を反応器に連続的または段階的に供給しながら、前記反応器内で芳香族ビニル化合物を重合させる工程を含む、粉体重合による芳香族ビニル化合物重合体の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】優れた液晶配向能を有する液晶配向膜を備えることで液晶の配向均一性が高いコレステリック液晶ディスプレイ、及びこのコレステリック液晶ディスプレイの製造方法、並びにこのような液晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、対向する一対の基板、この各基板と垂直方向に分割された基板間の複数の領域にそれぞれ配置されるコレステリック液晶、及び上記各基板とコレステリック液晶との間にそれぞれ積層される液晶配向膜を備えるコレステリック液晶ディスプレイであって、少なくとも一方側の上記液晶配向膜が感放射線性液晶配向剤によって形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる重合体の提供。
【解決手段】1,3−ブタジエン、一般式(I)で表される化合物1及びp−アルコキシスチレンを共重合して得られ、重量平均分子量Mwが1.0×10〜2.5×10である重合体を用いる。


(式(I)中、R及びRは、炭化水素基を表す。R及びRは互いに結合していてもよい。Rは水素原子又は炭化水素基を表す。) (もっと読む)


【課題】 洗浄時に優れた再汚染防止能を発揮することができ、界面活性剤との相溶性にも優れたアミノ基含有重合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有する(i)アミノ基含有単量体に由来する構造単位と、(ii)ノニオン性単量体および/または上記以外のアミノ基含有含有単量体に由来する構造単位、とを必須とするアミノ基含有重合体である。 (もっと読む)


【課題】耐候性を向上させることができるのみならず、耐温水白化性、耐ブロッキング性及び耐汚染性を大きく向上させ、自動車、建築建材等の塗料として好適に用いられる水性樹脂組成物、水性塗料用組成物、及び、水性樹脂組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】オキサゾリン基含有単量体(a)、反応性基含有単量体(b)及びシランカップリング剤(d)を必須とする単量体成分を重合して得られる重合体(A2)を含む水性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる共重合体を提供する。
【解決手段】1,3−ブタジエン及び下記一般式(I)で表される化合物を共重合して得られ、末端が窒素、酸素、もしくはケイ素を含む官能基を有する変性剤で変性され、重量平均分子量Mwが1.0×10〜2.5×10である共重合体。[化1]


(式中、R及びRは、炭化水素基を表す。R及びRは互いに結合していてもよい。Rは水素原子又は炭化水素基を表す。) (もっと読む)


【課題】N−ビニルピロリドンのような親水性モノマーと共重合しても高い透明性を有し、しかも高酸素透過性および高い水濡れ性を有する眼用レンズ用モノマーおよび眼用レンズ用ポリマーの提供。
【解決手段】下記式(a)で表されることを特徴とするモノマー。


[式(a)中、XはN−Y、OおよびSから選ばれた基を表す。Yはアルコキシカルボニルエチル基、N−アルキルアミドエチル基などを表す。RはHおよびメチル基から選ばれた基を表す。Rは3−[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]プロピル基、3−[ビス(トリメチルシロキシ)メチルシリル]プロピル基、3−[(トリメチルシロキシ)ジメチルシリル]プロピル基、トリス(トリメチルシロキシ)シリルメチル基、ビス(トリメチルシロキシ)メチルシリルメチル基およびトリメチルシロキシジメチルシリルメチル基から選ばれた置換基を表す。nは0または1の整数を表す。] (もっと読む)


【課題】数μm程度の異物が存在するカラーフィルタ上に塗膜を形成する場合において、液晶表示装置の表示不良を低減することができる硬化性樹脂組成物。
【解決手段】下記(A)、(B)及び(C)を含み、(B)の含有量が、(A)の含有量100質量部に対して20質量部以上100質量部以下である硬化性樹脂組成物。
(A)不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種に由来する構造単位と、オキシラニル基及び炭素−炭素不飽和二重結合を有する単量体に由来する構造単位とを含む付加重合体(ただし、側鎖に炭素−炭素不飽和二重結合を有さない)
(B)側鎖に炭素−炭素不飽和二重結合を有し、重量平均分子量が10,000以上100,000以下である樹脂
(C)溶剤 (もっと読む)


【課題】疎水性指数が低くとも、自己凝集性を有する重合体粒子を提供する。
【解決手段】本発明の重合体粒子は、単量体組成物を重合して得られる重合体粒子であって、前記単量体組成物が(A)架橋性単量体及び(B)炭素数4〜12のアルキル基を有する非架橋性(メタ)アクリル系単量体を含有し、前記単量体組成物が含有する全単量体中、(A)架橋性単量体の含有率が25質量%以上であり、(B)炭素数4〜12のアルキル基を有する非架橋性(メタ)アクリル系単量体の含有率が21質量%以上66質量%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される基を有するフッ素含有化合物[A]と、感放射線性酸発生体[B]と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


(式(1)中、Rは、置換されていてもよい(p+1)価の芳香族環式基であり、Qは、1価の親水基から水素原子1つを除いた連結基であり、Rは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜10の炭化水素基である。pは、1〜5の整数である。但し、pが2〜5の場合、複数のQ及びRはそれぞれ独立して上記定義を有する。「*」は結合手を示す。) (もっと読む)


【課題】特に露光光源として電子線、X線又はEUV光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】カチオンを有するカチオン性繰り返し単位(A)、
前記カチオンとイオン対を形成するアニオンを有し、かつ活性光線又は放射線の照射により前記カチオンから解離して酸を発生するアニオン性繰り返し単位(B)、及び
酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位(C)を有する樹脂(P)を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式(1)


(式中、Rは水素原子又はメチル基を表し、Xは直接結合又はフェニレン基を表し、Aはナフチル基又はアントラセニル基を表す。)で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも2つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】化学増幅ネガ型レジスト組成物の構成成分として用いた場合、レジストパターン形成後に得られるパターンのラインエッジラフネスが小さく、かつ、分子量が低くても十分な実用感度を与える高分子化合物、この高分子化合物を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物、及びこのレジスト組成物を用いるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】N,N’−ビス(アルコキシメチル)テトラヒドロピリミジノン骨格又はN,N’−ビス(ヒドロキシメチル)テトラヒドロピリミジノン骨格を側鎖に有する不飽和カルボン酸エステルエステル系重合体及び芳香族ビニル系重合体より選ばれる高分子化合物。
【効果】上記高分子化合物を化学増幅ネガ型レジスト組成物に配合することで、微細パターンが要求されるネガ型レジストパターンの形成において、ラインエッジラフネスが改善され、高解像度で微細なパターンを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】優れた解像度を有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I’)で表される化合物とを含有し、樹脂が式(a2−0)で表される化合物に由来する構造単位を有するレジスト組成物。
(もっと読む)


【課題】 優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂(B)であって、下記一般式(I−1)又は(I−2)により表される繰り返し単位を含んだ樹脂(B)を含有している。
【化1】
(もっと読む)


【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用のモノマーを提供する。
【解決手段】式(I)で表される化合物。[式(I)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Aは、2価の連結基を表す。R、R、R、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子又はヒドロキシ基を表すか、ベンゼン環上の結合位置において互いに隣接し合う2つの基が結合して非芳香環を形成する。ただし、R、R、R、R及びRからなる群から選ばれる少なくとも1つの基はヒドロキシ基を表し、且つ、少なくとも他の2つの基は、それらが結合する互いに隣接し合うベンゼン環上の炭素原子と共に、非芳香環を形成する。]
(もっと読む)


【課題】高い感度を有し、現像時において残膜率が大きく、残渣の発生が抑制され、且つ、硬化して得られた膜は透明性が高く、しかも熱で着色することがない膜を形成しうるポジ型感光性組成物の提供
【解決手段】下記一般式(1)で表される群および側鎖に環状アルコキシアルキル基を有する群からなる少なくとも1種のモノマー(A1)と、酸基を有するモノマー(A2)と、架橋性基を有するモノマー(A3)とを共重合してなる樹脂(A)、及び感放射線酸発生剤(B)を含み、且つ含水量が0.02質量%以上1.2質量%以下であるポジ型感光性組成物。
(もっと読む)


241 - 260 / 1,755