【課題】高濃度界面活性剤を含み、適度の粘性と透明性を有する液体洗剤組成物を提供すること。
【解決手段】少なくとも２つの成分を有する洗剤組成物。第１の成分は１４〜５０重量％の界面活性剤である。第２の成分は４０〜６５重量％の（メタ）アクリル酸Ｃ_１−Ｃ_１８アルキルおよび２５〜５５重量％のＣ_３−Ｃ_６カルボン酸モノマーの重合残基を有するポリマー０．０５〜４重量％である。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、線幅の面内均一性（ＣＤＵ）にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸強度ｐＫ_ａが−２〜３の酸を発生するスルホニウム化合物、
（Ｂ）塩基強度ｐＫ_ｂが５〜１０の塩基性化合物、及び
（Ｃ）下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される各繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂
を含有する感活性光線性又は感放射性樹脂組成物。


上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ_１は水素原子又はアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストコポリマーおよびフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式を有するコポリマー


式中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、Ｈ、Ｃ_１−６アルキルもしくはＣ_４−６アリール、Ｒ_６はフッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ａｒは単環式、多環式もしくは縮合多環式Ｃ_６−２０アリール基；Ｒ_７およびＲ_８は−ＯＲ_１１もしくは−Ｃ（ＣＦ_３）_２ＯＲ_１１基、Ｒ_１１はＨ、フッ素化もしくは非フッ素化Ｃ_５−３０酸分解性基；各Ｒ_９はＦ、Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０フルオロアルキル、Ｃ_１−１０アルコキシ、もしくはＣ_１−１０フルオロアルコキシ基；Ｒ_１０はカチオン結合Ｃ_{１０−４０}光酸発生剤含有基ある。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを製造できるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含有し、樹脂が式（ａ２−０）で表されるモノマーに由来する構造単位を有する樹脂であるレジスト組成物。［Ｒ^１〜Ｒ^４は置換基を有していてもよいアルキル基、飽和環状炭化水素基又はアルケニル基を表す。Ａ^１はハロゲン化アルキル基を表す。］
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【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】電子線を用いたフォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に、高感度、高解像力、良好なパターン形状、ブリッジの発生の抑制、良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足する化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、化学増幅型レジスト組成物。


（式中、Ｒ_１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは電子求引性基を表す。Ｙは２価の連結基を表し、Ａｒ及びＡｒ’は、各々独立に、芳香族環を表す。ｎは１〜５の整数である。） （もっと読む）

【課題】ＢＨＦＩＰＦ化合物類の透明性を損なわず、ＢＨＦＩＰＦ化合物類をモノマー成分として共重合された新規含フッ素重合体を提供することを目的とする。
【解決手段】式（１ａ）で表される含フッ素重合体。


（式中、Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基又はアルキル基を表す。Ｒ³は、重水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基又はアルキル基を表す。ｍは０〜５を表す。） （もっと読む）

【課題】 膨潤率に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 樹脂（Ａ）および感放射線酸発生剤（Ｂ）を含み、樹脂（Ａ）の少なくとも１種が、一般式（１）で表される、酸解離性基により保護された酸基を有する構造単位（Ａ１）を含み、かつ、架橋性基を含む、ポジ型感光性樹脂組成物。
一般式（１）
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【課題】露光ラチチュード、パターン形状、スカム低減及び現像欠陥低減に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）スルホンアミド構造を有する疎水性樹脂、及び（Ｄ）溶剤を含有し、かつ前記化合物（Ｂ）が、活性光線又は放射線の照射により、下記一般式（Ｉ）で表される酸を発生する化合物である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】生産性に優れると共に、耐熱保管性および低温定着性に優れかつトナー飛散防止性に優れるトナーを与えるトナーの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の樹脂および着色剤を含有するコア層を有し、該コア層上にシェル層を有するコアシェル型トナーを製造するトナーの製造方法であって、該第一の樹脂および該着色剤を含有するコア粒子を含有するコア樹脂分散液と、ビニルトリアリールイミダゾール基を有する第二の樹脂および第三のポリエステル樹脂を含有するシェル層用粒子を含有するシェル樹脂分散液とを混合して、該コア粒子を、該シェル層用粒子で覆いシェル層Ａを形成するシェル化工程、および該層Ａを、酸化剤を含有する酸化剤溶液で処理し、該第二の樹脂を架橋する架橋工程を有することを特徴とするトナーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】コバルト、鉄、ニッケルおよび亜鉛を含む遷移金属イオンなどの低分子量イオン種を水溶液から除去するための材料の有機的合成である。
【解決手段】この合成は、カチオン交換樹脂を提供する工程と、塩化物中間体を使用してカチオン交換樹脂を官能化することにより、塩化スルホニル樹脂を形成する工程と、マルチアミン系配位子を塩化スルホニル樹脂と反応させて、金属イオン封鎖樹脂を形成する工程とを含む。この合成は更に、金属イオン封鎖樹脂を冷却する工程と、金属イオン封鎖樹脂を洗浄して乾燥させる工程と、金属イオン封鎖樹脂から任意の変換されていないスルホネート部位を除去する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れると共に、耐熱保管性および低温定着性に優れかつトナー飛散防止性に優れるトナーを与えるトナーの製造方法を提供する。
【解決手段】第一の樹脂および着色剤を含有するコア層を有し、該コア層上にシェル層を有するコアシェル型トナーを製造するトナーの製造方法であって、該第一の樹脂および該着色剤を含有するコア粒子を含有する分散液（１）と、ビニルトリアリールイミダゾールを有する第二の樹脂を含有するシェル層用粒子を含有する分散液（２）とを混合して、該コア粒子を、該第二の樹脂を含む層Ａで覆うシェル化工程、および該層Ａを、酸化剤を含有する酸化剤溶液で処理し、該第二の樹脂を架橋する架橋工程を有することを特徴とするトナーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】無機基材との密着性、誘電特性、耐熱性、成形性に優れた、付加型ノルボルネン系樹脂、該樹脂を含む成形体、該成形体を備える複合部材等を提供する。
【解決手段】ノルボルネン系モノマー、１０族遷移金属触媒、および式（１）で表されるシラン化合物、を含む反応液を塊状重合せしめて得られ、ケイ素原子の含有率０．０１質量％〜２．０質量％、数平均分子量５万〜１０００万である付加型ノルボルネン系樹脂。
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【課題】紫外線吸収剤を含有するパーソナルケア配合物の貯蔵安定性の改良法の提供。
【解決手段】（ａ）組成物が少なくとも１種の紫外線吸収剤を含み；（ｂ）ラテックスポリマー粒子がボイドを有し、粒子サイズが５０〜１０００ナノメートルであり；（ｃ）ラテックスポリマー粒子が、（ｉ）シェル部分の全重量に基づいて４〜８０％の多エチレン性不飽和モノマーのモノマー単位を組み込むための重合；および（ｉｉ）シェル部分の全重量に基づいて４〜８０％の、少なくとも１個のビニル共重合可能な官能基、および重合後架橋を生じるのに有効な反応性分子と反応できる少なくとも１個の官能基を有する１またはそれ以上の多官能価モノマーのモノマー単位を組み込むための重合、から選択される１またはそれ以上の工程により調製されるシェル部分を有することを特徴とする、不揮発性物質の全重量に基づいて５〜７０％のラテックスポリマー粒子を該組成物に添加する。 （もっと読む）

【課題】色度特性に優れ、コントラストが高く、しかも耐熱性、耐溶剤性の良好なカラーフィルタを製造することができる着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される繰り返し単位（１）と、下記式（２）で表される繰り返し単位（２）と、架橋性官能基を有する繰り返し単位（３）を含み、前記繰り返し単位（２）の共重合割合が、前記繰り返し単位（１）及び前記繰り返し単位（３）を除く全繰り返し単位中９０質量％以上である共重合体、（Ｃ）架橋剤、を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。
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【課題】高温での処理を行わないで架橋させることが可能な有機素子材料を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位と、光二量化反応性基を有する繰り返し単位とを有する高分子化合物を含む有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。フッ素原子を含む基の好ましい例は、水素原子がフッ素で置換されたアリール基、水素原子がフッ素で置換されたアルキルアリール基、特に水素原子がフッ素で置換されたフェニル基、水素原子がフッ素で置換されたアルキルフェニル基である。光二量化反応性基の好ましい例は、２位の水素原子がアリール基で置換されたビニル基、２位の水素原子がアリールカルボニル基で置換されたビニル基である。 （もっと読む）

【課題】重合後の含水ゲル状重合体の装置内表面への付着やそれに伴う金属成分の溶出、製品の着色、並びに、重合体中に残存する単量体の量を充分に低減し、かつ品質の安定した製品を安価に効率よく製造することのできる方法を提供する。
【解決手段】重合性不飽和単量体を必須成分として含む単量体水溶液を重合し、次いで、得られる含水ゲル状重合体を処理する工程において、カニゼンメッキされた皮膜の上層に更にクロムメッキされた皮膜を有する内面構造を有する装置を使用する。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、レジストパターンの波型の形状不良発生が少なくパターン変動を低減できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と感放射線性酸発生剤とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって、該樹脂が、ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位と、酸に不安定な基を持つ特定の一般構造式で表される重合単位と、式（III）の重合単位とを含有する。
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【課題】電子写真装置の帯電部材において、長期にわたって、画像形成を行った場合に発生する、スジ状画像、ポチ状画像及びガサツキ画像の発生を抑制した帯電部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。
【解決手段】導電性基体と表面層とを有する帯電部材の表面層に、ビニル基、もしくは、ビニル重合体の側鎖に、シロキサンデンドリマー構造を有する化合物を含有させる。 （もっと読む）

【課題】解像性に優れ、レジストパターンの波型の形状不良発生が少なくパターン変動を低減できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物に用いられるヒドロキシスチレン誘導体を提供する。
【解決手段】オキシアルキレン基で置換されていてもよいアントラセン基を含有する特定のヒドロキシスチレン誘導体。 （もっと読む）