【課題】優れた解像度を有するパターンを形成することが可能なレジスト組成物の樹脂用のモノマーを提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、２価の連結基を表す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子又はヒドロキシ基を表すか、ベンゼン環上の結合位置において互いに隣接し合う２つの基が結合して非芳香環を形成する。ただし、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５及びＲ^６からなる群から選ばれる少なくとも１つの基はヒドロキシ基を表し、且つ、少なくとも他の２つの基は、それらが結合する互いに隣接し合うベンゼン環上の炭素原子と共に、非芳香環を形成する。］
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【課題】工程のスループットに優れ、ナノメーターオーダーのパターンを簡便に形成できる方法を提供する。
【解決手段】ポリスチレン誘導体とシルセスキオキサンを含むポリメタクリレート誘導体とを有するコポリマーを含有するパターン形成材料からなる膜を形成する工程と、前記膜中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記シルセスキオキサンを含むポリマー鎖の相をマスクとして前記基板をエッチングして前記基板にミクロ相分離構造のパターンを転写する工程とを具備したことを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方と、側鎖に酸解離性脂環式基を有する（メタ）アクリレート単位と、を有する重合体を含有する。
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【課題】電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される繰り返し単位のうちの少なくとも一方を有する重合体と、トリフェニルスルホニウム塩化合物（Ｘ１）とを含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】現像性が良好で、膜減りのない良好な重合硬化膜を形成できる重合性組成物、および現像性及び耐汚れ性が良好で、かつ充分な耐刷性を有する平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（ａ）１分子中に、スルホベタイン構造を少なくとも２つ有し、かつエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する重合性ベタイン化合物、及び（ｂ）重合開始剤を含有する重合性組成物。該重合性組成物を含有する画像形成材料。該重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位と酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位の両方を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物、あるいは酸不安定基で置換されたヒドロキシ基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸不安定基で置換されたカルボキシル基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒を含むレジスト組成物を基板上に塗布して、加熱処理後に高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像とアルカリ水溶液による現像の２回の現像を行うパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、有機溶剤とアルカリ水による２回の現像によって１本のラインを２本に分割し、マスクパターンの２倍の解像力を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】感度、ラフネス特性、孤立パターンの解像性及びドライエッチング耐性に優れ、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する繰り返し単位（Ｂ）とを備えた樹脂を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、及び、パターン形成方法。


一般式（Ｉ）中、ＡＲは、アリール基を表す。Ｒｎは、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。ＲｎとＡＲとは互いに結合して非芳香族環を形成してもよい。
Ｒ_１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。 （もっと読む）

【課題】特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位（Ａ）、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｂ）、及び下記一般式（Ｘ）で表される繰り返し単位（Ｆ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
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【解決手段】下記一般式（１）で示される重合性単量体。


（上記式（１）中、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状の１価炭化水素基を示し、Ｒ²は重合性官能基を有する基を示す。）
【効果】本発明の重合性単量体によれば、架橋ユニットをポリマー鎖に容易に組み込むことができる。この架橋ユニットが組み込まれたポリマーを用いたレジスト組成物は高感度であり、このレジスト組成物を用いてパターンを形成した際には、ラインエッジラフネスの小さいパターンが得られる。 （もっと読む）

【課題】色度特性に優れ、現像性及び保存安定性の良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）式（１）で表される繰り返し単位（１）と、式（２）で表される繰り返し単位（２）と、酸性基を有する繰り返し単位（３）を含み、繰り返し単位（１）以外の繰り返し単位の合計に対する、繰り返し単位（２）の共重合割合が７５質量％以上であり、重量平均分子量Ｍｗと数平均分子量Ｍｎとの比（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜１．９である共重合体、及び（Ｃ）架橋剤を含有する。
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【課題】 感度及びラフネス特性に優れた半導体用レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る半導体用レジスト組成物は、下記一般式（Ｉ）により表される化合物を含有している。
【化１】
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【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式（I）〜式（XIII）で表されるオキセタン構造保有のアルカリ可溶性樹脂と、溶剤と、結像用放射線を吸収して分解するとアルカリ可溶性樹脂中のオキセタン構造が反応を起こしめる酸を発生可能な光酸発生剤とを含んでなり、自体塩基性水溶液に可溶であり、露光後は露光部がアルカリ不溶となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、フッ素原子及びケイ素原子の少なくとも一方を備えた樹脂（Ｂ）であって、下記一般式（Ｉ）により表される繰り返し単位を含んだ樹脂（Ｂ）と、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂（Ａ）と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有している。
【化１】
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【課題】低燃費性及びウェットグリップ性能がバランス良く改善されたゴム組成物、空気入りタイヤを供することができる重合体を提供する。
【解決手段】１，３−ブタジエン及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を共重合して得られ、重量平均分子量Ｍｗが１．０×１０^５〜２．５×１０^６である重合体に関する。
［化１］


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は、炭化水素基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合していてもよい。Ｒ^３は水素原子又は炭化水素基を表す。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ’）を含有し、基材成分（Ａ’）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、酸解離性溶解抑制基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は単結合又は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。］
［化１］
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【課題】現像マージンが大きく、耐熱性、耐光性及び耐溶剤性に優れる着色感光性樹脂組成物、前記着色感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化膜、前記硬化膜を具備するカラーフィルタ、及び、前記カラーフィルタを具備する液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基が熱分解性基で保護された残基を有する構成単位（ａ１）、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有する構成単位（ａ２）、並びに、カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有する構成単位（ａ３）、を少なくとも含む共重合体、（成分Ｂ）感放射線性ラジカル重合開始剤、（成分Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、並びに、（成分Ｄ）着色剤、を含むことを特徴とする着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】紙及び板紙の製造工程において、地合いを損なうことなく、ワイヤー上の製紙原料の歩留及び濾水性の向上と成紙の強度の向上が両立できる製紙方法を提供することを課題とする。
【解決手段】分散重合法により製造された高分子分散液からなる重量平均分子量が５００万〜１０００万の水溶性高分子を抄紙前の製紙原料中に添加することで上記課題を解決することができる。また最後のスクリーンを通過した主製紙原料流の一部をバイパス流とし、前記バイパス流を更に二つに分流した後、前記水溶性高分子と前記二つの分流とを混合手段によって混合し、その後前記主製紙原料流の一箇所に還流させることにより、更に効果を得ることができる。
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【解決手段】酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、アルカリ現像液に難溶の高分子化合物と、光酸発生剤と、アミノ基を発生する光塩基発生剤と、アミノ基を有し、光酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶媒とを含むレジスト材料を基板上に塗布、ベークし、透過率が１０〜４０％の範囲のハーフトーン位相シフトマスクを用いて露光、ベーク、現像の工程を経て、露光量の少ない未露光部分と露光量の多い過露光部分の膜を現像液に溶解させず、露光量が中間の露光領域を現像液に溶解させたパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、クエンチャーと光塩基発生剤基からのアミノ基の総量が光酸発生剤からの酸の量よりも多い組成のレジスト材料を用いると、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】
下水処理場における下水余剰汚泥や下水消化汚泥のように繊維分の少ない所謂難脱水汚泥に対し、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、架橋あるいは分岐した水溶性高分子においても添加量増加を極力抑えた汚泥脱水剤を開発することである。
【解決手段】
特定のカチオン性単量体、（メタ）アクリルアミド、および特定のアニオン性単量体１〜５モル％からなる単量体混合物を重合した両性水溶性高分子によって達成できた。また連鎖移動剤を１００〜１，０００ｐｐｍ、架橋剤を５〜１００ｐｐｍ、いずれも前記単量体混合物に対し質量換算で共存させ重合した架橋性の両性水溶性高分子によっても優れた効果を発揮する汚泥脱水剤を開発することができた。
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【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）