下地剤

【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造し得る下地剤を提供。
【解決手段】基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち２０モル％〜８０モル％が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤

【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、
樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち２０モル％〜８０モル％が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤。
【請求項２】
前記樹脂成分が、非芳香族環含有モノマー由来の構成単位を含有する請求項１に記載の下地剤。
【請求項３】
前記非芳香族環含有モノマーが、Ｎ、Ｏ、Ｓｉ、Ｐ及びＳからなる群から選ばれる少なくとも１原子を含むビニル化合物又は（メタ）アクリル化合物である請求項２に記載の下地剤。
【請求項４】
前記芳香族環含有モノマーが、ビニル基を有する炭素数６〜１８の芳香族化合物、（メタ）アクリロイル基を有する炭素数６〜１８の芳香族化合物、及びノボラック樹脂の構成成分となるフェノール類からなる群から選ばれる請求項１〜３のいずれか一項に記載の下地剤。
【請求項５】
更に、カチオン重合開始剤、及びラジカル重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１つを含有し、前記樹脂成分が、重合性基、及び／又は架橋性基を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の下地剤。
【請求項６】
更に、カチオン重合開始剤、及びラジカル重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも１つを含有し、かつ、重合性モノマーを含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の下地剤。
【請求項７】
更に、重合性モノマーを有するか、又は、前記樹脂成分が、重合性基を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の下地剤。
【請求項８】
更に、熱重合触媒を含有する請求項７に記載の下地剤。
【請求項９】
更に、露光により酸を発生する酸発生剤成分を含有し、前記芳香族環含有モノマー由来の構成単位が酸解離性溶解抑制基を含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の下地剤。
【請求項１０】
更に、感光剤を含有し、前記樹脂成分がノボラック樹脂を含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の下地剤。
【請求項１１】
前記感光剤が、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニル基、又は１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル基を有するキノンジアジド化合物である請求項１０に記載の下地剤。

【図１】