【課題】低臭気、低揮発性、低皮膚刺激性、および低毒性で、硬化性、基材密着性、および透明性に優れるため、インク、および塗料に代表されるインク用原料、ならびにレジスト、カラ−フィルタ、接着剤、製版材、封止材、および画像形成剤に代表される電子材料用原料などに用いられる、ジビニルエーテルホモポリマーの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘは単結合又は二重結合を示し、ｎは平均重合度を表す正の数である）
で表されるジビニルエーテルホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】低臭気、低揮発性、低皮膚刺激性、および低毒性で、硬化性、基材密着性、および透明性に優れるため、インク、および塗料に代表されるインク用原料、ならびにレジスト、カラ−フィルタ、接着剤、製版材、封止材、および画像形成剤に代表される電子材料用原料などに用いられる、ジビニルエーテルホモポリマーの提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｘは単結合又は二重結合を示し、ｎは平均重合度を表す正の数である）
で表されるジビニルエーテルホモポリマー。 （もっと読む）

【課題】高い光硬化感度を有し、長期に保存しても、光硬化感度の変動が少なく、高い出射安定性が得られる活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供すること。
【解決手段】それぞれ重合性不飽和結合を有する少なくとも２種の重合性化合物を含有する活性エネルギー線硬化型インクジェットインクにおいて、該少なくとも２種の重合性化合物が有するそれぞれの重合性不飽和結合を構成する炭素原子の電荷の差の最大値が、０．２４以上、０．４０以下であり、さらに該インクが、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の酸価、および０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のアミン価を有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型インクジェットインク。 （もっと読む）

【課題】微生物の付着抑制能に優れ、かつ、環境に与える影響が小さく、低コストで製造可能な微生物付着抑制材料、並びに該微生物付着抑制材料を用いた微生物付着抑制基材、バイオリアクター、及び農業用被覆材の提供。
【解決手段】少なくとも炭素、水素、酸素原子を含み、かつ、合計原子量が１００以上であるペンダント基を側鎖に有するポリマーを含有する微生物付着抑制材料、並びに微生物付着抑制基材、バイオリアクター、及び農業用被覆材である。 （もっと読む）

【課題】中途半端にしか清掃せずおよび／または湿った掘削孔内における表面の接着力を向上させる樹脂成分（Ａ）および硬化剤成分（Ｂ）で構成する化学的２成分モルタル物質を得る。
【解決手段】硬化可能な構成要素として、少なくとも１種類のラジカルに硬化可能な不飽和エチレン化合物（ａ）を含有する樹脂成分（Ａ）と、この不飽和エチレン化合物（ａ）から反応を阻止するよう分離させた状態で配置した硬化剤成分（Ｂ）とを有し、この硬化剤成分（Ｂ）は、樹脂成分（Ａ）における樹脂用の硬化剤を含有しており、無機質素地、例えばコンクリートにドリル掘削し、中途半端にしか清掃していないおよび／または湿った孔内における表面の接着力を向上させる、化学的２成分モルタル剤において、樹脂成分（Ａ）の他の構成要素（ｂ）として、（メタ）アクリロキシアルキルシロキサンおよびポリ（メタ）アクリロキシアルキルシルセスキオキサンのうち少なくとも一方を少なくとも１種類、０．２〜１０質量％含有する。 （もっと読む）

【課題】 上塗りフォトレジストの溶剤に対してレジスト下層膜中の光酸発生剤が溶出することがないこと、レジスト下層膜の感度調節が可能なこと、及びフォトレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）：
【化１】


（ただし、Ｑは２〜６価の有機基であり、Ｒ^１は単結合又は２価の連結基を示し、ｎ１は１〜６の整数であり、ｎ２は２〜６の整数である。）で示される架橋剤を含む感光性レジスト下層膜形成組成物。Ｑがベンゼン環、シクロヘキサン環、又はトリアジントリオン環である。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、式（１）に記載の架橋剤（Ｂ）、光酸発生剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含む。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、カルボン酸エステル基、又はそれらの組み合わせを有する。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子などの有機デバイスにおいて、駆動安定性の高いデバイスを得るために有用な有機デバイス用組成物と、この組成物を用いた駆動安定性の高い有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】２種以上の架橋性化合物を含有する有機デバイス用組成物であって、該架橋性化合物のうち、少なくとも２種は、架橋基の数が異なることを特徴とする有機デバイス用組成物。この有機デバイス用組成物を成膜後、該架橋性化合物を重合させて得られる高分子膜。基板上に、陽極および陰極と、該陽極および陰極の間に配置された有機層とを有する有機電界発光素子において、該有機層の少なくとも１層が、この有機デバイス用組成物を成膜後、架橋性化合物を重合させて得られる層である有機電界発光素子。 （もっと読む）

【課題】硬化が速く、表面硬化性、薄膜硬化性に優れており、かつ、酸素による重合阻害を受けにくく、硬化収縮率が小さく、ラジカル硬化型の反応性希釈剤として有用な、新規なラジカル重合性単量体、および該ラジカル重合性単量体を含んでなる硬化性組成物と、その硬化方法を提供することを目的とする。また、該硬化方法により得られる、密着性、機械物性に優れた硬化物を提供することをも目的とする。
【解決手段】下記式（１）；
［化１］


（式中、Ｒは、水素原子又は１価の有機基を表す。該有機基は、炭化水素で構成され、エーテル基を有していてもよく、該炭化水素の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）で表されるラジカル重合性単量体であって、１３３３Ｐａ条件下での沸点が９５℃以上であることを特徴とするラジカル重合性単量体。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性及び成形性に優れ、優れた透明性、外観、流動性、耐スクラッチ性を有するポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリカーボネート樹脂５０ないし９９質量部及び（Ｂ）超高分子量分岐型アクリル系共重合体樹脂１ないし５０質量部を含み、前記超高分子量分岐型アクリル系共重合体樹脂（Ｂ）を構成する単量体は、柔軟構造を有する（メタ）アクリル系単量体を含む、ポリカーボネート樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】新規なシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズおよびシリコーンヒドロゲルコンタクトレンズの製造方法を提供する
【解決手段】水和された際に、シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズは、該レンズの少なくとも一方の表面上に多数の窪みを持つ。これらの窪みは、1μm未満、または100nm未満の深さを持つ。該シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズは、プラズマにより処理には付されていない。該シリコーンヒドロゲルコンタクトレンズの製造方法も、ここに開示する。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザー露光によって露光後経時安定性のよい発色画像が得られる発色感光性組成物及び平版印刷版原版を提供する。また、赤外線レーザー露光によって露光後経時安定性のよい発色画像が得られるシアニン色素を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内にアクリロイル基、メタクリロイル基、及びビニル基から選ばれる重合性基を少なくとも２つ有するシアニン色素、（Ｂ）ラジカル発生剤、及び（Ｃ）エチレン性不飽和基を有するモノマーを含有することを特徴とする発色感光性組成物、及び該組成物を含む画像記録層を有する平版印刷版原版、並びに特定構造のシアニン色素。 （もっと読む）

【課題】 十分な硬化性を有するとともに光照射によるベンゼン放出が少なく、密着性および耐溶剤性の優れた硬化物を形成し得るカチオン重合型感光性インクを提供する。
【解決手段】 酸により重合可能な重合性化合物、ベンゼン環を含む光酸発生剤、および増感剤を含有するカチオン重合型感光性インクである。前記光酸発生剤の重量は、前記重合性化合物の重量の０．５％以上１０％以下であり、前記光酸発生剤の含有量（ｍ₁モル）と前記増感剤の含有量（ｍ₂モル）とは、下記の関係を満たすことを特徴とする。
１＜（ｍ₂／ｍ₁）≦５ （もっと読む）

【課題】
本発明は、刺激応答性を有する新規の星形ポリマーを課題とする。
【解決手段】
核部と、当該核部に連結している３本以上の枝部とを有する星形ポリマーであって、
前記核部は、フッ素原子を有する、ジアルケニル化合物の架橋ポリマーからなり、
前記枝部は、式（Ｉ_ｏ）
−（ＣＨ（−Ｘ−Ｒ^１）−ＣＨ（−Ｒ^２））_ｐ−Ｒ^ｏ （Ｉ_ｏ）
［式中、
Ｒ^１は、フッ素化されていない１価の有機基を有し、
Ｒ^２は、水素原子またはアルキル基を表し、
Ｒ^ｏは、フッ素化されていない１価の有機基を表し、
Ｘは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−Ｎ（−ＣＨ_３）−を表し、
ｐは、１以上の整数を表す。］
で表され、１，０００〜１，０００，０００の数平均分子量を有する１価の有機基である
ことを特徴とする星形ポリマー。 （もっと読む）

【課題】略球形粒子状であり、かつ、アミノ基含有ポリビニルエーテル樹脂を含む高分子担体を製造し得る樹脂を提供する。
【解決手段】式（１）


で示される構造単位を含むポリビニルエーテル樹脂。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、インク組成物、コーティング組成物、接着剤用組成物、ナノインプリント用組成物、光造形材料用組成物等に利用可能なカチオン重合性組成物を提供することである。
【解決手段】塩基性の窒素含有化合物および塩基性を発現する窒素含有化合物からなる群から選択される１種以上の窒素含有化合物と、ビニルエーテルと、酸発生剤とを含有することを特徴とするカチオン重合性組成物が、硬化時の重合熱による着色が抑制され、硬化後の加熱や経時による着色が抑制されることを見出した。 （もっと読む）

【課題】
従来の吸収性樹脂では、高濃度塩水及び海水に対する吸収性能において必ずしも満足し得ない。本発明は耐塩性（高濃度塩水、２価以上のイオンを含む塩水、ゲルの耐熱性等）に優れた吸収性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
スルホン酸基を有する水溶性ビニルモノマー（ａ１）及びアルカリ性で加水分解しない非加水分解性内部架橋剤（ｂ）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ）を含んでなる吸収性樹脂であって、（ａ１）のスルホン酸基（ｄ）含有量が（ａ１）の重量を基準として４５〜７５重量％である吸収性樹脂（Ｃ）を用いる。 （もっと読む）

【課題】 水性インクジェット高速印刷に展開できうる低エネルギーの活性エネルギー線によって速やかに重合され、形成された硬化物の架橋度が高く、かつ水系で用いられた場合でも、実質的に加水分解を起こさない活性エネルギー線硬化型水性インクジェットインクを提供すること。
【解決手段】 マレイミド基を有する親水性重合性物質１とエチレン不飽和結合を有する親水性重合性物質２とを組み合わせて含有する活性エネルギー線硬化型インクジェット水性組成物。 （もっと読む）

本発明は、光電子部品、例えば、ＯＬＥＤ、太陽電池、光学センサおよび液晶ディスプレイの封止、封入、接着もしくはコーティングのための、または液晶の配向のための硬化性混合物に関する。該混合物は、合計で少なくとも５０重量％のビニルエーテルを含む。 （もっと読む）

【課題】 光硬化物の除去性に優れた光ナノインプリントリソグラフィ用感光性樹脂組成
物、レジストパターンの形成方法、微細構造体及び光硬化物の除去方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有する光ナノインプリン
トリソグラフィ用感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）光重合開始剤が、第一の活性光
線を照射した時に活性種を生じる化合物を含有し、前記（Ａ）光重合性化合物が、２以上
の重合性基と、第一の活性光線よりも波長の短い第二の活性光線を照射したときに切断さ
れる結合を含む特性基と、を分子内に有する化合物を含有する、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 低揮発性、低粘度で、基板を高精度に加工する光ナノインプリント技術に利用可能な、エッチング耐性に優れる光硬化性樹脂組成物、これを用いたパターン形成方法及び微細構造体を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光重合性化合物及び（Ｂ）光重合開始剤を含有し、２５℃における粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下である光硬化性樹脂組成物であって、前記（Ａ）光重合性化合物が、（Ａ１）２５℃における粘度が１５ｍＰａ・ｓ以下であり、沸点が２４０℃以上である光重合性化合物を（Ａ）成分全体の質量に対して３０〜９９質量％、及び（Ａ２）環状構造を含む多官能（メタ）アクリレート化合物を（Ａ）成分全体の質量に対して０．１〜５０質量％含有する、光硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）