【課題】良好なラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式（Ｉ）で表される化合物とを含むポジ型レジスト組成物。


［式中、Ｒ^１は、ヒドロキシ基、アルキル基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基、脂環式及び芳香族炭化水素基はヒドロキシ基又はアルキル基で置換されていてもよい；Ｘ^１は、２価の飽和炭化水素基を表し、２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^２は飽和炭化水素基；ｕ１は０〜２の整数、ｓ１は１又は２、ｔ１は０又は１、但し、ｓ１＋ｔ１は１又は２である。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ａ）で表される構造単位を有する樹脂；式（ａ４−８）で表される構造単位を有する樹脂；（Ｂ）酸発生剤；（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^３は、式（ｂ）で表されるスルホラン環基；Ａ^a41は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｒ^a42は、脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】解像性に優れると共に、現像後のディフェクトの発生を抑制でき、かつ、リソグラフィー特性やパターン形状が良好なレジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として有用な高分子化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】側鎖に−ＳＯ_２−含有環式基を有するアクリルアミド構成単位（ａ０）と、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有し、前記構成単位（ａ０）の含有割合が５０モル％未満である樹脂成分（Ａ１）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に、金属を含有する細線電極３と導電性ポリマー含有層４とが形成され、該細線電極３が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板２上に付与した後、該導電性インクの焼成温度Ｔ_０（℃）より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度Ｓ_Ｔ（℃）よりも高い温度Ｔ_１（℃）でＳ_１（分）加熱された後に、焼成温度Ｔ_０（℃）でＳ_２（分）加熱され、かつ該焼成温度Ｔ_０（℃）と該溶剤の揮発温度よりも高い温度Ｔ_１（℃）との差が、２００℃＞Ｔ_０−Ｔ_１＞５０℃の関係を満たす透明導電性基板１を形成する。 （もっと読む）

【課題】抗体や抗原等のリガンドが温度によって失活しない温度で長期保存しても溶解状態及び分散状態が損なわれない、ＵＣＳＴを示す温度応答性高分子の水溶液及び温度応答性粒子の水分散体を提供する。
【解決手段】含有水の状態で上限臨界溶液温度（ＵＣＳＴ）を示す温度応答性高分子の水溶液又は該高分子を含有する温度応答性粒子の水分散体にＵＣＳＴ降下剤を所定量含有させて前記水溶液又は水分散体のＵＣＳＴを保存温度以下にせしめて保存する。 （もっと読む）

【課題】解像度及び密着性に優れ、且つめっき耐性が良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）成分が、（ａ１）ベンジル（メタ）アクリレート誘導体由来の構成単位を５０〜８０質量％、（ａ２）スチレン誘導体由来の構成単位を５〜４０質量％、（ａ３）（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位を１〜２０質量％、及び（ａ４）（メタ）アクリル酸由来の構成単位を５〜３０質量％含む、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 適度な強度の酸を発生させ、かつ、発生酸の移動、拡散を適度に制御することが可能であり、また、基板との密着性を損なわない酸発生単位をベースポリマーに導入することができるスルホニウム塩、該スルホニウム塩を用いた高分子化合物、該高分子化合物をベースポリマーとして用いた化学増幅型レジスト組成物および、該化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される重合性アニオンを有するスルホニウム塩。
【化１】
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【課題】初期充放電効率、安全性の高い非水電解液二次電池を提供する。
【解決手段】炭素活物質Ａ及びポリマーＢを含有し、ポリマーＢが式（１）で表される単位を有し、重量平均分子量が３００以上であるリチウムイオン二次電池負極材料とする。
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【課題】
種々の脱水機に対応でき、脱水ケーキ含水率低下の要求を満足し、同時に架橋あるいは分岐した水性高分子の難点とされる薬剤添加量の増加にも対応でき汚泥脱水方法を、ポリアミジン系水性高分子を用いず、市販品として汎用されている（メタ）アクリル系単量体を使用したカチオン性あるいは両性水性高分子を用いた汚泥脱水方法を開発する。
【解決手段】
特定の構造単位のうち一種を７０〜１００モル％有するカチオン性あるいは両性水性高分子（Ａ）を添加した後、前記カチオン性あるいは両性水性高分子（Ａ）のうち、共重合率あるいは前記カチオン性あるいは両性水性高分子（Ａ）に使用した単量体とは異なる単量体を使用した構造単位７０〜１００モルを有するカチオン性あるいは両性水性高分子（Ｂ）あるいは他の構造単位７０〜１００モルを有するカチオン性あるいは両性水性高分子（Ｂ）を添加することによって達成できる。
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【課題】プラスチック基材、特にＡＢＳ基材及びポリプロピレン基材のいずれに対しても密着性が良好であり、かつ耐水性に優れた塗膜が得られる、プラスチック基材用の水性被覆材を提供する。
【解決手段】シアノ基含有ビニル系単量体（ａ１）と、炭素数が４以上の水酸基含有ビニル系単量体（ａ２）と、その他共重合可能なビニル系単量体（ａ３）とを含む単量体混合物（Ａ）を乳化重合して得られたエマルションに、シアノ基含有ビニル系単量体（ｂ１）と、炭素数が４以上の水酸基含有ビニル系単量体（ｂ２）と、酸基含有ビニル系単量体（ｂ３）、その他共重合可能なビニル系単量体（ｂ４）とを含む単量体混合物（Ｂ）をさらに加え乳化重合して得られ、重量平均分子量が８００００以下の水性エマルション（Ｉ）と、塩素化ポリオレフィン樹脂（ＩＩ）と、を含むことよりなる。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル硬化系を用いたキャスティング成形法でのレンズ等の光学部品の製造において、成形物の周辺部での不十分な硬化を防止できるラジカル硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のキャスティング成形向け光学材料用ラジカル硬化性組成物は、ラジカル硬化性化合物（Ａ）の１種又は２種以上と、１分間半減期温度が１００℃〜１６０℃の範囲にあり且つ該温度が互いに異なる２種以上の熱ラジカル重合開始剤（Ｂ）を含有する。前記ラジカル硬化性化合物（Ａ）としては、分子内に芳香環又は脂環を有する（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。前記分子内に芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステルとして、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、スチルベン環、ジベンゾチオフェン環及びカルバゾール環からなる群より選択された少なくとも１種の芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】重合後の未反応モノマーの含有量が低減し、バインダー性能が向上し、遊離ホルムアルデヒドが低減し、更に、低臭気である水性樹脂分散体及びその水性樹脂分散体を含む不織布及び／又は繊維加工用バインダー組成物を提供する。
【解決手段】水性樹脂分散体の製造方法であって、
（１）エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む単量体、並びにＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド及び／又はＮ−アルコキシメチル（メタ）アクリルアミドを含む単量体混合物を、反応系のｐＨを４〜７の範囲に制御しながら、過酸化物、又は過酸化物及び有機酸若しくはそれらの塩の存在下で重合する第１重合工程、並びに
（２）未反応の前記単量体を更に過酸化物及び有機酸若しくはそれらの塩の存在下で重合する第２重合工程を
順次、含むことを特徴とする水性樹脂分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】被処理液中の重金属の濃度が低く、カルシウムイオンが存在していても、重金属を効率よく捕捉可能で、回収率を向上することができる水処理剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示す部分構造を有する重合体を含有する水処理剤。
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【課題】真空中で、有機薄膜層と無機薄膜層が積層され、該有機薄膜層中への異物の混入が抑制された積層体の提供。
【解決手段】真空中でイオン液体モノマーを重合させて成膜することを特徴とする有機薄膜の製造方法；かかる製造方法で得られた有機薄膜層１３と、無機薄膜層（第一の無機薄膜層１２及び第二の無機薄膜層１４）とが積層されたことを特徴とする積層体１。 （もっと読む）

【課題】汚泥や廃水の処理において安定性に優れる粗大なフロックを形成し、かつ、凝集処理速度の速い高分子凝集剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される単量体（Ｍ１）等からなる構成単位を１０モル％以上有する（共）重合体からなる高分子凝集剤。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は炭素数１〜１０のアルキレン基、Ｒ³〜Ｒ⁵はそれぞれ独立に炭素数１〜１５のアルキル基、Ｚ^-はＣｌ^-又は１／２ＳＯ₄^2-を表す。］ （もっと読む）

【課題】 ＡｒＦエキシマレーザー光、ＥＵＶ等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、解像性に優れ、特にパターン形状の矩形性に優れ、更には基板への密着性に優れたパターンを形成することができるレジスト材料を得ることができる高分子化合物、該高分子化合物を含有する化学増幅レジスト材料及び該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で示す繰り返し単位を含有する高分子化合物。
【化１】
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【課題】顔料の微粒分散が可能であり、得られる顔料分散液の粘度も低く、且つ長期間に渡り安定な顔料の分散性を維持することができる、２−（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）エチル＝アクリラートを含む重合体、前記重合体を含む分散剤及び前記分散剤を含む顔料分散液を提供する。
【解決手段】単量体成分として、２−（２−オキソ−３−オキサゾリジニル）エチル＝アクリラートを含み、水及び／又は有機溶剤を媒体とした溶液重合により製造される重合体。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を重合してなる重合物を提供する。
【解決手段】特定の式で示される１０−アルコキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物。 （もっと読む）

【課題】光を照射することにより速やかに硬化し、耐熱性、柔軟性、透明性及び寸法安定性に優れる硬化物を形成するカチオン重合性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明のカチオン重合性樹脂組成物は、下記式（１）で表わされるオキセタン環含有(メタ)アクリロイル化合物を単独で、又はラジカル重合性を有する他の化合物と共にラジカル重合して得られるカチオン重合性樹脂と無機フィラーを含有する。式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²は水素原子又はアルキル基を示し、Ａは炭素数２〜２０の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基を示す。
【化１】
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【課題】 酸素存在下における光硬化アクリレート樹脂の表面硬化性と透明性の両立を実現する光硬化性樹脂組成物とそれを用いた光硬化性樹脂組成物ワニス、光硬化性樹脂組成物硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ａ−１）一般式（Ｉ）に示すポリエチレンオキサイド構造を有する重合性（メタ）アクリレートまたは（Ａ−２）一般式（ＩＩ）に示すポリグリセロール構造を有する（メタ）アクリレートと、（Ｂ）ベンゾフェノン系光開始剤を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物。
【化１】
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