【課題】塗膜としたときに低屈折率性、透明性、防汚性、撥水撥油性、表面滑り性及び耐擦傷性等の特性を有し、かつ汎用有機溶剤への可溶性や貯蔵安定性に優れる含フッ素ランダム共重合体あるいは二重結合含有含フッ素ランダム共重合体、あるいはこれらを含む組成物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオロオレフィン（A）１０〜７５モル％、特定のフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテル（B）４〜７０モル％、特定の水酸基含有不飽和単量体（C）１０〜７０モル％、特定のポリシロキサン化合物（D）０．００１〜１０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜300,000であり、重量平均分子量／数平均分子量で表される分子量分布が1.0〜5.0の範囲であることを特徴とする含フッ素ランダム共重合体。 （もっと読む）

【課題】モノマー塗膜の重合硬膜の表面硬化度を、膜内部の硬化度を低下させることなく改善する。
【解決手段】少なくとも１種のラジカル重合性化合物と、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、を含有する組成物に、プラズマ照射するプラズマ重合膜の製造方法である。また、重合開始剤及び連鎖移動剤の少なくともいずれか一方と、少なくとも１種のラジカル重合性化合物と、を含有する組成物を、プラズマ照射によって重合させてなるプラズマ重合膜である。 （もっと読む）

【課題】 空気下で高温で加熱しても良好なパターンが維持可能なインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する化合物（Ａｘ）、および、光重合開始剤（Ｂ）を含有するインプリント用硬化組成物。
一般式（Ｉ）


（一般式（Ｉ）中、Ｒｘはアルキル基またはアリール基を示す。ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数である。但し、ｍ＋ｎ＝３である。） （もっと読む）

【課題】熱インプリントリソグラフィー技術を用いて、ベンゾシクロブテン樹脂のパターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】下記式（２）：


で表されるジビニルシロキサン−ビスベンゾシクロブテンを重合して得られるベンゾシクロブテン樹脂を含む層を基板上に形成する工程、前記ベンゾシクロブテン樹脂を含む層に、加熱及び加圧しながらモールドを押しつけ、該ベンゾシクロブテン樹脂を含む層にパターンを形成する工程、及び冷却後に、前記パターンが形成されたベンゾシクロブテン樹脂を含む層を前記モールドから離型する工程を有し、前記加熱の温度が１５０℃乃至３５０℃である。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、かつ、ヤング率及び耐熱性が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性基とかご状シルセスキオキサン構造を有する重合体と、（Ｂ）ＳｉＨ結合を有する化合物と、（Ｃ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】疎水性指数が低くとも、自己凝集性を有する重合体粒子を提供する。
【解決手段】本発明の重合体粒子は、単量体組成物を重合して得られる重合体粒子であって、前記単量体組成物が（Ａ）架橋性単量体及び（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基を有する非架橋性（メタ）アクリル系単量体を含有し、前記単量体組成物が含有する全単量体中、（Ａ）架橋性単量体の含有率が２５質量％以上であり、（Ｂ）炭素数４〜１２のアルキル基を有する非架橋性（メタ）アクリル系単量体の含有率が２１質量％以上６６質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塗布面状が良好で、屈折率が低く、高温条件下においても屈折率変化が小さいパターン膜（以上、例えば、光学デバイスにおける反射防止膜に適した性能）であって、誘電率が低く、かつ、ヤング率が高いパターン膜（以上、例えば、半導体素子デバイス等における層間絶縁膜に適した性能）を、高解像度で形成可能な感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、及び、パターン膜を提供する。更に、該感光性組成物を用いて製造される反射防止膜及び絶縁膜、並びに、これらを用いた光学デバイス及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表される１種又は２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類より得られる重合体と（Ｂ）光重合開始剤とを含有する感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン膜、反射防止膜、絶縁膜、光学デバイス及び電子デバイス。
（ＲＳｉＯ_１．５）_ａ 式（１）
（式（１）中、Ｒは、それぞれ独立に、有機基を表し、Ｒのうちの少なくとも２つは、重合性基を表す。ａは８〜１６の整数を表す。複数のＲは同一であっても異なっていてもよい。）
ただし、前記重合体には前記かご状シルセスキオキサン化合物由来の重合性基が残存している。 （もっと読む）

【課題】均質薄膜を容易かつ低廉に作成できるビス（ビニルフェナザシリン）化合物誘導重合体、および当該ビス（ビニルフェナザシリン）化合物誘導重合体を用いた有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】例えば下記に示すフェナザシリン化合物を主鎖骨格とする重合体及び有機薄膜トランジスタ


（式中、Ｒ１−Ｒ１０はＭｅ基、n＝５） （もっと読む）

【課題】本発明は半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、誘電率などの特性に優れた膜を効率よく製造することができる絶縁膜形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させて得られる高分子化合物と、空孔形成剤とを含有する膜を基板上に形成する膜形成工程と、該膜に電子線を照射する電子線照射工程と、電子線照射工程後に膜を加熱して、絶縁膜を形成する加熱工程とを備える、絶縁膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】導波路構造、並びにコア領域およびその横に隣接するクラッド領域からなる当該構造を形成するための方法を提供する。本発明の実施例の導波路構造は、コア領域がその横に隣接するクラッド領域およびクラッド層によって共同的に取り囲まれている。そのような構造を形成するための方法も提供する。
【解決手段】光誘発熱現像性フィルムであって：第一の屈折率を有するポリマーマトリックスと；前記ポリマーマトリックスと相溶性があり、前記第一の屈折率と異なる第二の屈折率を有する少なくとも１種のモノマーと；プロカタリストと；コカタリストとを含み、前記コカタリストは、化学線の照射に伴い、前記プロカタリストを潜在活性形態に変換し、前記潜在活性形態は、第一の温度での加熱に伴い、活性形態に変換する光誘発熱現像性フィルム。 （もっと読む）

本発明は、アクリロニトリル、またはアクリロニトリル及びアクリロニトリルと共重合せしめ得る有機分子の混合物と、少なくとも１種のモノマー態、オリゴマー態及び／またはポリマー態シラザンとを、共に転化せしめることにより得られる共重合体に関し、その場合、該シラザンは少なくとも１個のビニル型二重結合を含んでいる。この共重合体は、繊維形態にすること、及び／または非溶融性に変えることができる。繊維形態の共重合体を用いて、熱分解によりセラミック繊維を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光学デバイスにおける反射防止膜などとして使用するのに適した、硬化時の膜収縮が少なく、塗布面状が良好で、耐湿性および密着性に優れ、高温条件下においても屈折率変化の小さい、低屈折率膜の形成が可能な光学材料用組成物を提供することを目的とする。さらに、本発明は、該光学材料組成物を用いて製造される反射防止膜、および該反射防止膜を有する光学デバイスを提供することも目的とする。
【解決手段】下記平均組成式（１）（Ｒ¹ＳｉＯ_1.5）_x（Ｒ²ＳｉＯ_1.5）_y（式（１）中、Ｒ¹は、重合性基を表す。Ｒ²は、非重合性基を表す。ｘは２．０〜１４．０の数を表し、ｙは２．０〜１４．０の数を表す。ただし、ｘ＋ｙ＝８〜１６を満たす。なお、複数のＲ¹およびＲ²は、同一であっても異なっていてもよい。）で表され、１種または２種以上のかご状シルセスキオキサン化合物から構成されるシルセスキオキサン類、より得られる重合体を含有する光学材料用組成物。 （もっと読む）

【課題】表面に機能層を有する光硬化シートの製造方法として、簡易な製造プロセスにて表面機能層の品質均一性、低製造コスト、及び高製品歩留まりを達成して表面機能性光硬化シートを連続して効率よく製造することができる方法を提供する。
【解決手段】光硬化性のかご型シルセスキオキサン樹脂を含んだ光硬化性樹脂組成物を透明ベースフィルムにフィルム状に塗布流延し、フィルム基材上に剥離転写可能な機能層を有した転写フィルムの機能層側を、透明ベースフィルム上の光硬化性樹脂組成物に対向させて積層し、得られた積層物の少なくとも一方の面に紫外線を照射して光硬化性樹脂組成物を硬化させた後、転写フィルムのフィルム基材を剥離することにより、光硬化性樹脂層の表面に機能層が転写形成される。 （もっと読む）

【課題】マトリクス樹脂に対する混合、分散性に優れ、マトリクス樹脂中で凝集を起こさず、しかも従来の線状高分子からなる剥離剤と比べて、該組成物の成形加工工程における混合・成形機械や金型への離型性、或いはフィルム等の他の樹脂成形品に対する剥離性等に優れる内部剥離剤を提供すること。
【解決手段】分子内に２個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーＡを、該モノマーＡ １モルに対して５モル％ないし２００モル％の量の重合開始剤Ｂの存在下で重合させることで得られる高分岐ポリマーからなる内部剥離剤並びに該内部剥離剤を含有する樹脂組成物、それから得られる樹脂成形品。 （もっと読む）

【課題】高透過率、高屈折率、低アッベ数、高２次分散特性、且つ低吸水率を有する光学材料を提供する。
【解決手段】下式の硫黄含有化合物と、エネルギー重合開始剤を含有する樹脂組成物からなり、硫黄含有化合物の含有量が１０重量％以上６０重量％以下であり、且つ前記樹脂組成物の重合体のアッベ数νｄが１８＜νｄ＜２３の範囲であり、２次分散特性θｇ，Ｆが０．６８＜θｇ，Ｆ＜０．６９の範囲である光学材料。
（もっと読む）

【課題】高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物を提供すること。
【解決手段】
本発明の高分岐ポリマーを用いた光パターニング組成物は、分子内に２個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーＡと、分子内に酸分解性基および１個のラジカル重合性不飽和二重結合を有するラジカル重合性モノマーＢを、該ラジカル重合性モノマーＡおよび該ラジカル重合性モノマーＢの合計モル数に対して５モル％以上２００モル％以下の重合開始剤Ｃの存在下で重合させることにより得られる高分岐ポリマーを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有する膜が形成可能な、しかも誘電率、ヤング率などの膜特性に優れた膜を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるジビニルシロキサンビスベンゾシクロブテンとカゴ型シルセスキオキサン化合物の重合体であるシルセスキオキサン化合物を含む膜形成用組成物を塗布し、周波数５．８ＧＨｚのマイクロウエーブを照射して形成する。
（もっと読む）

【課題】燃料電池等に使用するのに実用上必要な膜強度を持ち、含水状態において高い導電性を有すると共に、低湿度状態においても高い導電性を有し、かつフッ素を含まない環境上安全・安価に製造できる固体高分子電解質膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルコキシシリル基とエチレン性不飽和結合を有するアルコキシシリル基含有不飽和モノマーと、（Ｂ）ケイ素原子と直接に結合したエチレン性不飽和結合とケイ素原子と直接には結合しないエチレン性不飽和結合を有するアルケニルシリル基含有不飽和モノマーと、（Ｃ）酸基とエチレン性不飽和結合とを有する酸基含有不飽和モノマーを含む不飽和モノマーを共重合してなるイオン伝導性高分子物質及び／又はその誘導体と、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体とを含むＥＰＤＭ組成物を製膜、硬化してなる固体高分子電解質膜。 （もっと読む）

【課題】本発明は、絶縁膜、さらに詳しくは、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有する膜が形成可能な、しかも誘電率、ヤング率などの膜特性に優れた絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】シロキサン構造を有する化合物を含む膜に周波数５．８ＧＨｚのマイクロウエーブを照射して形成される絶縁膜。 （もっと読む）

【課題】反応系をゲル化させることなく、高度に分岐したハイパーブランチポリマーを合成できるハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】多官能ラジカル重合性単量体と一官能ラジカル重合性単量体とのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体を同時に加えて、ラジカル重合をおこなうようにした。多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体は、ラジカル重合に用いる一官能ラジカル重合性単量体全量のうち、一部の一官能ラジカル重合性単量体を混合した反応系に加える。また、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体の混合物を加えてもよい。 （もっと読む）