本発明は、
可逆的な有機イオウ性連鎖移動剤を使用する制御ラジカル重合法であって、
分子量が１００，０００ｇ／ｍｏｌを超え、かつ、２００，０００ｇ／ｍｏｌ未満の分子量については１．２未満、２００，０００ｇ／ｍｏｌを超える分子量については１．４未満の多分散率を有するポリマーを、７５％を超えるモノマー転化率で、かつ、８時間未満の重合時間で調製し、かつ、
重合媒体中において開始ラジカル流量を制御する
ことを特徴とする方法
に関する。
開始ラジカル流量の制御は、二種の適切な重合温度Ｔ_１及びＴ_２を使用することによって、又は、分解速度定数が、同じ温度におけるアゾビスイソブチロニトリルの分解速度定数より大きい開始剤を使用することによって実施できる。
（もっと読む）

【課題】各種放射線を用いて微細加工に有用なレジストを調製するのに用いられる新規重合体、及びこれを含有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の化学式（１）で表示される共重合体。
（もっと読む）

【課題】生体材料などの医療用途に使用するある特定のポリマーにおいて、モノマー、低分子ポリマー等の溶出物が少ない生体適合性ポリマーを得る方法、および、その応用技術を提供すること。
【解決手段】ポリアルキレンオキシド鎖を有する重合性モノマー由来のユニット、疎水性基を有する重合性モノマー由来のユニットおよび水酸基を有する重合性モノマー由来のユニットからなる三元系の生体適合性ポリマーを製造する方法において、
下記（ａ）〜（ｅ）の工程を順に含む精製処理：
（ａ）ポリマー又はポリマー溶液にポリマーの冷却析出溶媒を加え、均一な溶液とする工程；
（ｂ）該溶媒を加えた均一な溶液を−８℃以上１８℃未満に冷却してポリマーを析出させる工程；
（ｃ）該ポリマーが析出した溶液を１８℃以上４０℃以下に加温する工程；
（ｄ）該加温した溶液をデカンテーションする工程；
（ｅ）該デカンテーションした残渣に、前記（ａ）〜（ｄ）の操作を少なくとも１回以上繰り返す工程；
を行なうことを特徴とする前記組成の生体適合性ポリマーを製造する方法。 （もっと読む）

【課題】 耐水性に優れるレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物は、側鎖にケイ素原子含有基を有するモノマー単位を全モノマー単位の０．５〜１０モル％含む。側鎖にケイ素原子含有基を有するモノマー単位として、例えば、下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル基、又はケイ素原子含有基を有する炭化水素基を示す。Ａ¹は単結合又は連結基を示し、Ｒ^bは水素原子、炭化水素基、又はケイ素原子含有基を有する炭化水素基を示す。ただし、Ｒ^aとＲ^bのうち少なくとも一方はケイ素原子含有基を有する炭化水素基である）で表されるモノマー単位が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。
【解決手段】 （Ａ）フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも１種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

改善された表面特性を有する硬化パーフルオロエラストマー物品を開示する。物品のシーリング特性を維持しながら表面粘着性を低減するフルオロカーボンテロマーを含む薄い耐久性フィルムで、物品を被覆する。 （もっと読む）

重合可能組成物が記載され、その組成物は、多量のポリオール（アリルカーボネート）モノマー（例えば、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）モノマー）、および以下の一般式によって表される、少量のラジカル重合可能な第２のモノマーから構成され、第２のモノマー中のＲ_２は、ウレタン結合のない多価の結合基（例えば、Ｒ_２は、イソホロンジイソシアネートのようなポリイソシアネートの残基であり得る）であり；Ｒ_３は、単一のヒドロキシ基および少なくとも１個のアリル基を有する。第２のモノマーはまた、組成物から得られる重合体（例えば、プラス眼鏡レンズ）が実質的に着色失敗（例えば、シダ（ｆｅｒｎ）および／または月（ｍｏｏｎ））がないように、少なくとも十分な量で、この組成物中に存在し得る。
【化１４】

（もっと読む）

【課題】 耐エフロレッセンス性、耐水・耐アルカリ性、無機質基材密着性、上塗り塗料への密着性等に優れる水分散性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 水分散性樹脂組成物は、酸基及び加水分解性シリル基のいずれも含有しない重合性不飽和モノマー（ａ）と、特定量の酸基含有重合性不飽和モノマー（ｂ）と、加水分解性シリル基を有する重合性不飽和モノマー（ｃ）と、下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ²は炭素数２〜１０の２価のアルキレン基を示し、Ｒ³は炭素数２又は３の２価のアルキレン基を示す）で表される環状ウレイド基含有重合性不飽和モノマー（ｄ）とからなる不飽和単量体混合物が、特定量の反応性界面活性剤（ｅ）の存在下で乳化重合された共重合体樹脂エマルジョンを含む。 （もっと読む）

【課題】 耐水性に優れるレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位を含むポリマーを有機溶媒による沈殿に付した後、さらに水性溶媒による再沈殿、リンス又はリパルプ操作に付すことを特徴とする。沈殿に付すポリマーとして、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位と基板密着性機能を有するモノマー単位を含むポリマーを用いることができる。 （もっと読む）

【課題】 高解像性のレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を製造するのに好適な化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される化合物［式中、Ｒは水素原子または低級アルキル基であり；Ｘは硫黄原子または酸素原子であり；Ｙは、水素原子の一部がヘテロ原子を含む基で置換されていてもよい炭素数１〜２０の鎖状、分岐状または環状のアルキル基、もしくは該アルキル基の炭素原子の一部がヘテロ原子で置換されている基である。］。
【化１】
（もっと読む）

（１）フルオロアルキル基含有単量体、および（２）重合体に対して２．０〜６．０重量％の含ケイ素単量体からなる含フッ素重合体をメーソンリーに塗布すると、優れた撥水撥油性および防汚性を有するメーソンリーが得られる。 （もっと読む）

【課題】 ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーあるいはＦ₂エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像度およびＬＥＦ耐性に優れた感放射線性樹脂組成物、およびこの感放射線性樹脂組成物に使用できる共重合体を提供する。
【解決手段】 共重合体は、下記式（１）で表される繰返し単位（Ｉ）と、重合性の炭素−炭素二重結合を２個以上有し、かつ酸の作用により分解する下記式（２）または式（３）で表される２価の基を少なくとも１個有する単量体であって、各炭素−炭素二重結合が上記２価の基を介して連結した構造を有する単量体の該炭素−炭素二重結合が開裂して得られる繰返し単位（ＩＩ）と、下記式（４）で表される繰返し単位（ＩＩＩ）と、下記式（５）で表される繰返し単位（ＩＶ）とを含有して得られる。
【化１】
（もっと読む）

カップリングされたプロピレンポリマー組成物を含む熱成形物品が開示されている。 （もっと読む）

本発明は、アクリル酸および／またはアクリル酸と水溶性モノマーとの、水中における制御されたラジカル重合方法に適した、硫黄化合物を使用することによって製造したポリマーに関する。前記発明は、また、分散剤または粉砕助剤および／または水性懸濁液中の鉱物材料の複合粉砕用助剤の形態での、または鉱物材料を含有する水性配合物中に直接取り込まれた分散剤の形態での、前記ポリマーの使用に関する。また、こうして得られた鉱物材料の配合物も開示する。 （もっと読む）

Ｆ_２エキシマレーザー等の真空紫外線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを容易に形成できるレジスト組成物を提供する。 シクロアルキル基、シクロアルキル基を１個以上有する有機基またはビシクロアルキル基等を有するブロック化基によりブロック化されている酸性基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）、光照射を受けて酸を発生する酸発生化合物（Ｂ）および有機溶媒（Ｃ）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ラジカル濃度が高く、リチウムイオン二次電池の小型化・高容量化・軽量化を実現できる電極活物質として利用可能なアセチレン系重合体を製造できるアセチレン系重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のアセチレン系重合体の製造方法は、周期表第８〜１０族の元素を中心原子とした金属錯体触媒を用いて、ラジカル化した置換基を有する置換アセチレン単量体を重合する重合工程を有する。また、本発明のアセチレン系重合体の製造方法は、周期表第８〜１０族の元素を中心原子とした金属錯体触媒を用いて、ニトロキシルラジカル発生サイトを含む置換基を有する置換アセチレン単量体を重合して非ラジカル重合体を形成する重合工程と、重合工程にて得た非ラジカル重合体をラジカル化するラジカル化工程とを有する。 （もっと読む）

２５０ｎｍ以下のエキシマレーザーのレジスト材料用ベースポリマーに好適な含フッ素ポリマーを提供すること。下記式（３）で表される含フッ素ジエン化合物が環化重合したモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２−Ｃ（ＣＦ_３）（Ｒ^５）−ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２ （３）ただし、Ｒ^５は−ＣＨＲ^７−Ｏ−Ｒ^８によりブロック化された水酸基または該水酸基を有する有機基であり、Ｒ^８は、置換基を有していてもよいシクロアルキル基などの環式飽和炭化水素、該環式飽和炭化水素を有する有機基を表す。 （もっと読む）

本発明はネガティブＣ−プレートの役割と偏光膜の透明保護層の役割を同時に果たすことができ、厚さ方向にネガティブ複屈折率を有する透明フィルムを偏光膜の保護層として使用し、ネガティブＣ−プレートとして光学補償機能と偏光板との機能を同時に有する一体型偏光板およびその製造方法に関し、前記一体型偏光板はＴＡＣを保護層として使用する偏光板より高温、高湿での耐久性が優れており、液晶がＯＮまたはＯＦＦ状態であるときに、厚さ方向にポジティブ複屈折率を有する液晶表示装置で向上した広視野角を有する。 （もっと読む）

光学材料として良好な物性の硬化体を与える下記式


（ｎ＝１〜５）で示されるようなアリルエステル化合物を含む重合性組成物であって、光学歪みが少ない成形体を与える重合性組成物を提供する。この重合性組成物は、（Ｉ）上記式で示される特定のラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性化合物成分１００重量部、（ＩＩ）少なくとも１種の、パーオキシジカーボネート系重合開始剤０．１〜２重量部および（ＩＩＩ）少なくとも１種の、１０時間半減期分解温度が６０℃以上である重合開始剤０．０１〜１０重量部を含有してなる。
（もっと読む）

式Ｄ−π−Ａ（式中、πは、酸素原子がそのチオフェン環の３位及び４位に直接結合しているチオフェン環を含むπ架橋であり、Ｄは供与体であり、Ａは受容体である）を有する非線形光学クロモフォア、並びに、直線状ポリマー及びペンダント基としての前記クロモフォアを含む組成物。 （もっと読む）