【課題】
低粘度で耐熱性と硬化性に優れた特定のポリグリセリン構造を有する（メタ）アクリル酸エステル化物と、それを用いて硬化させた際、硬度と耐熱性に優れた塗膜が得られる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
トリグリセリン濃度とテトラグリセリン濃度の合計が６０重量％以上であるポリグリセリンとアルキレンオキサイド（炭素数２〜４）を反応して得られるポリグリセリンアルキレンオキサイド付加物（付加モル数４〜２０）に（メタ）アクリル酸（または低級アルコールの（メタ）アクリル酸エステル）を反応して得られる（メタ）アクリル酸エステル化物、及び該化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物の提供。
【解決手段】露光により酸を発生し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、式（ａ０−１１）〜（ａ０−１３）のいずれかの構成単位（ａ０−１）、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）及びアクリル酸エステルから誘導され、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有する［式中、ＲはＨ、アルキル基又はハロゲン化アルキル基であり、Ｘ^１は単結合又は２価の連結基であり、Ｗ^１、Ｗ^２、Ｗ^３は環状の飽和炭化水素基である。ただしＷ^２はＯＨ基を有する。Ｒ^１はＯＨ基含有飽和炭化水素基であり、ｐは１〜３であり、Ｘ^２、Ｘ^３は２価の連結基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はＨ、アルキル基、ＯＨ基又はＯＨ基を有するアルキル基である。］
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【課題】優れたラインウィドゥスラフネスを得ることができるレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂の製造方法であって、式（ＩＩＩ）で表されるモノマー及び式（ＩＶ）で表されるモノマーを重合させる第１工程と、第１工程で得られた生成物を加水分解して、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^７を−ＯＨにする第２工程と、を有する樹脂の製造方法。［Ｒ^１及びＲ^５はアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^２〜Ｒ^４はアルキル基又は脂環式炭化水素基を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は結合して２価の炭化水素基を形成する。Ｘ^１及びＸ^２は単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^７及びＲ^８はアルキル基を表すか結合して２価の炭化水素基を形成する。］
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【課題】高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する構成を有する（メタ）アクリル酸エステル単位と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位及び、一般式（ａ５−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する高分子化合物（Ａ１）、及び露光により酸を発生する成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】優れたラインウィドゥスラフネスを有するレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂の製造方法であって、式（ＩＩＩ）で表されるモノマー及び式（ＩＶ）で表されるモノマーを重合させる第１工程と、第１工程で得られた生成物を加水分解して、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^７を−ＯＨにする第２工程と、を有する樹脂の製造方法。［Ｒ^１及びＲ^５はハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^２〜Ｒ^４はアルキル基又は脂環式炭化水素基を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は互いに結合して２価の炭化水素基を形成する。Ｘ^１及びＸ^２は単結合又は２価の連結基を表す。］
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【課題】リソグラフィー特性に優れたネガ型現像用レジスト組成物、及び該ネガ型現像用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、ｌｏｇＰ値が２．７以下であり、且つ、ｐＫａが−３．５以上である酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液の漏れやカブレの発生といった問題が生じない吸収性物品を製造できる吸収性樹脂粒子を提供する。
【解決手段】水溶性ビニルモノマー（ａ１）及び／又は加水分解性ビニルモノマー（ａ２）、並びに架橋剤（ｂ）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ１）を含んでなる吸収性樹脂粒子であり、走査型電子顕微鏡にて観察される単位面積当たりの細孔の数平均数が１〜２００個／ｍｍ^２であり、吸収性樹脂粒子１粒子当たりの数平均細孔径が１〜５０μｍである吸収性樹脂粒子（Ｂ１）。 （もっと読む）

【課題】透明性及び可とう性に優れ、且つ吸湿性に優れた硬化物を得ることが可能な活性エネルギー線硬化性組成物、その硬化物及びその硬化物を使用した発光特性に優れた有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリロイルモルホリン（Ａ）３０〜１００質量％及びその他のビニル単量体（Ｂ）０〜７０質量％を含む単量体成分並びに活性エネルギー線重合開始剤（Ｃ）を含有する活性エネルギー線硬化性組成物、活性エネルギー線硬化性組成物をフィルム状に成型した後に硬化して得られる吸湿性硬化物及び吸湿性硬化物を乾燥用吸湿剤として使用する乾燥手段を有する有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】反射率が高く、しかも経時的に安定な反射率を有する白色反射膜を提供すると共に、そのような白色反射膜を有するＬＥＤ光源を提供すること。
【解決手段】配線パターンが形成された基板上に、アルカリ可溶感光性樹脂及び白色顔料を含有する白色反射膜形成材料から成る白色反射膜とＬＥＤチップ又はＬＥＤパッケージとを有するＬＥＤ光源に用いられるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法であって、カルボキシル基（ａ）を有する（メタ）アクリル系重合体（Ａ）と、グリシジル基（ｂ）及び（メタ）アクリル基を有する化合物（Ｂ）とを、四級ホスホニウム塩（Ｃ）の存在下にエステル化反応させる側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系重合体（Ｄ）からなるアルカリ可溶感光性樹脂の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。
【解決手段】下記式（１）で表される構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。また、下記Ｘが、炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、下記Ｚが、Ｘに結合する炭素原子と共に炭素数５〜８の２価の単環の脂環式基を形成する基であるとよい。
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【課題】 優れた帯電付与特性を有する高分子化合物が得られる重合性単量体を提供する。
【解決手段】 サリチル酸或いはサリチル酸誘導体とスチレン或いはスチレン誘導体とが、連結基−Ａ−ＮＨ−で連結された構造を有する重合性単量体。 （もっと読む）

【課題】優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）樹脂と、（Ｂ）酸発生剤と、（Ｘ）それぞれ式（Ｉ−ａ）及び式（Ｉ−ｂ）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物とを含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターンの製造方法の提供。


［式中、
Ｚ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族飽和炭化水素基などを表し、
ｎは０又は１を表す。］ （もっと読む）

【課題】耐光性及び耐熱性に優れる光学素子封止用含フッ素樹脂組成物の提供。
【解決手段】有機ケイ素化合物（Ａ）、及び、下記式（Ｌ）：


（式中、Ｘ^１およびＸ^２は、Ｈ又はＦ；Ｘ^３はＨ、Ｆ、ＣＨ_３又はＣＦ_３；Ｘ^４およびＸ^５は、Ｈ、Ｆ又はＣＦ_３；Ｒｆは、アミド結合若しくはウレア結合を有していてもよい炭素数１〜４０の含フッ素炭化水素基、又は、アミド結合、カーボネート結合、ウレタン結合若しくはウレア結合を有していてもよい炭素数２〜１００のエーテル結合を有する含フッ素炭化水素基であって、水素原子の１〜３個がＹ（Ｙは、末端に炭素数１〜３０の加水分解性金属アルコキシド部位を少なくとも１個含む１価の有機基、又は、末端にエチレン性炭素−炭素二重結合を有する炭素数２〜１０の１価の有機基である。）で置換されている有機基である。）で示される含フッ素ポリマー（Ｂ）、からなる光学素子封止用含フッ素樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】 各種性能に総合的に優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ブトキシメチルアクリルアミド等を含むアルカリ可溶性樹脂と感放射線酸発生剤を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】樹脂絶縁層の形成に用いる光硬化性熱硬化性組成物であって、インクジェットプリンターを用いて、プリント配線板用の基板上に直接パターンを描画することができる光硬化性熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】分子内に（メタ）アクリロイル基とグリシジル基を有し２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下のモノマーと、３官能以上のアクリレートモノマーと、熱硬化触媒と、光重合開始剤を含むことを特徴とするインクジェット用光硬化性熱硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジストパターンを形成した際に生じるＢｌｏｂ欠陥を抑制することができ、かつ保存安定性に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供することである。
【手段】 重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物であって、 重合体成分（Ａ）が有する全繰り返し単位のうちの少なくとも一部として、カルボキシル基を有する繰り返し単位（ｃ）と、スルホ基を有する繰り返し単位（ｓ）とを有し、 溶剤（Ｂ）として、炭素数が２以上８以下のエーテル系溶剤（Ｂ１）を含む、液浸上層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント法によるパターン形成において、モールド充填性に優れるナノインプリント用感放射線性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】同一又は異なる分子中に芳香環及びフッ素原子を含み、フッ素原子に対する芳香環のモル比が６．０以下であるナノインプリント用感放射線性組成物である。上記ナノインプリント用感放射線性組成物は、［Ａ］下記式（１）で表される重合性化合物を含有することが好ましく、また、［Ｂ］フッ素化アルキル基を有する特定の構造のアルコールのアクリレートからなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物をさらに含有することが好ましい。
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【課題】優れた帯電付与特性を有する高分子化合物を提供すること。
【解決手段】少なくとも下記一般式（５）で表わされるユニットを１ユニット以上含む高分子化合物。
【化１】


［一般式（５）中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基を表す。Ｒ_２乃至Ｒ_４は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、水酸基、ハロゲン原子を表す。但し、Ｒ_３とＲ_４は互いに結合して環を形成してもよい。Ａは二価の連結基を表す。］ （もっと読む）

【課題】透明ガラス基板上に、金属ナノ粒子インクを用いて細線パターンを印刷する場合に、インクのハジキや液寄りがなく、表面凹凸の少ない細線パターンを得る。特に、スクリーン印刷において、高精細な細線パターンを得る。さらに、細線パターン上に、ポリマー導電層を積層することで、導電性、透明性、導電性の面均一性に優れた透明電極を実現する。
【解決手段】透明ガラス基板１１上に、金属ナノ粒子を含む金属インクを用いて、金属細線パターンからなる金属導電層１２を形成し、該金属導電層１２の上に、導電性ポリマーからなるポリマー導電層１３を積層する透明電極の製造方法において、該透明ガラス基板１１の２次元表面エネルギーの分散項γｄが、γｄ≧３０ｍＮ／ｍであることを特徴とする透明電極１４の製造方法。 （もっと読む）

【課題】繊維織物等に対して、優れた吸水性、撥油性、防汚性、汚れ脱離性を付与する組成物を提供し、更にはRf基の炭素数が８未満と従来に比較して短くても、同様の優れた性質を有する組成物を提供する。
【解決手段】（１）含フッ素共重合体であって、（a）一般式：CH₂=C(−X)−C(=O)−Y−[−(CH₂)_m−Z−]_p−(CH₂)_n−Rf(I)[式中、Ｚは、直接結合、−Ｓ−または−ＳＯ_２−であり；Ｒｆは、炭素数１〜６のフルオロアルキル基であり；ｍは１〜10、ｎは０〜10、ｐは０または１である。]で示される含フッ素単量体、及び(b)一般式：CH₂=C(X’)-C(=O)-O-(RO)_q-H（ＩＩで示されるアルコキシ基含有単量体を必須成分としており、アミノ基を有する単量体を含有しない含フッ素共重合体、（２）ブロックイソシアネート化合物、ならびに（３）液状媒体を含んでなる組成物。 （もっと読む）