【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、スルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】従来から知られる酸発生剤を含有するレジスト組成物では、得られるレジストパターンのマスクエラーファクター（ＭＥＦ）が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】
塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。
【解決手段】
（Ａ）フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）光により酸を生成する化合物と、（Ｃ）熱架橋剤と、（Ｄ）所定の構造単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、均一な細孔径を有し、比表面積、細孔容積が大きい金属酸化物多孔質体、特に結晶性を有する金属酸化物多孔質体を安定的に、しかも細孔径を自由に制御できる製造する方法を提供することにある。
【解決手段】下記工程（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を含む金属酸化物多孔質体の製造方法。
工程（ａ）：有機ポリマー粒子、有機ポリマー粒子より平均粒径の小さい金属酸化物ナノ粒子及び水系媒体を含有する混合液を調製する。工程（ｂ）：前記混合液を乾燥し、有機無機複合体を得る。工程（ｃ）：前記有機無機複合体から前記有機ポリマー粒子を除去し、細孔径が細孔壁の金属酸化物の結晶子サイズより大きく、特定の比表面積、空孔率を有する金属酸化物多孔質体を得る。 （もっと読む）

【課題】耐吸湿性などに優れるポリオレフィンを骨格とし、優れた光硬化性を発揮し得る、基材との密着性、硬度、耐擦傷性等の硬化物性に優れ、各種シール剤、コーティング剤、ポッティング剤あるいは接着剤として好適な光硬化性オレフィン系重合体の提供。
【解決手段】（ａ）エチレンから誘導される繰返単位、（ｂ）式（１）の繰返単位、式（２）の構造（ｃ１）および式（３）の構造（ｃ２）を含み、条件（Ｉ）〜（IV）を満たす；−ＣＨ_２−ＣＨＲ^１−（１）−ＯＣＯ−ＣＲ^２＝ＣＨ_２（２）−ＣＨ_２−Ｚ−ＣＨ_２−（３）条件（Ｐ１−Ｉ）：Ｚが５００ｐｐｍ〜５０，０００ｐｐｍ、条件（Ｐ１−II）：繰返単位（ａ）と繰返単位（ｂ）のモル比が、２０／８０〜８０／２０、条件（Ｐ１−III）：繰返単位（ａ）を１００モル％として構造（ｃ１）の含有量が０．１〜１０モル％、条件（Ｐ１−IV）：極限粘度〔η〕が０．０１〜１．０。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性が良好で、かつ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ²は、フッ素原子を有する炭化水素基；環Ｔ^１は、置換基を有していてもよいスルトン環；Ｚ^１は、置換基を有していてもよいアルカンジイル基等；Ｚ^２は、単結合又はカルボニル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する芳香族多環化合物であり、紫外域の吸収や蛍光の問題が無く透明性にすぐれ、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利なＵＶ硬化装置で重合可能な化合物及びその化合物を含む重合性組成物を提供。
【解決手段】特定式に示される１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物及び該（メタ）アクリレート化合物を重合してなる重合物である。 （もっと読む）

【課題】パターン倒れが少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）酸発生剤及び（Ｄ）式（ＩＩ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、環Ｔ^１は置換基を有していてもよいスルトン環を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤、レジスト組成物等の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩及びこの塩を含む酸発生剤とレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の炭素数１〜２０の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｗは、式（Ｗ１）〜式（Ｗ５）から選ばれる式で表される基；Ｚ^１＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、−（ＣＨ_２）_ｍ１−、−（ＣＨ_２）_ｍ２−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ３−又は−（ＣＨ_２）_ｍ４−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ５−；ｍ１〜ｍ５はそれぞれ１〜６の整数；Ｒ²はフッ素原子を有する炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^５は環状エーテル構造を含む基；Ｚ１^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】アントラセン特有の特性と共に、高い重合性を兼ね備えたアントラセン誘導体、及びこのアントラセン誘導体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１）にて表されるアントラセン誘導体。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の置換基を有していてもよい芳香族基。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基。Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立して、−Ｏ−（Ｒ−Ｏ）_ｍ−で表される基。Ｒは、ヒドロキシル基を有していてもよい２価の炭化水素基。ｍが２以上の場合、複数のＲは同一でも異なっていてもよい。） （もっと読む）

【課題】重合性不飽和結合を有するフルオレン化合物を含んでいても、硬化物における基材に対する密着性や耐黄変性を改善又は向上できる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物を、重合性不飽和結合を有するフルオレン化合物（Ａ）［例えば、９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシアリール）フルオレン類、９，９−ビス（（メタ）アクリロイルオキシ（ポリ）アルコキシアリール）フルオレン類など］と、ヒドロキシル基およびカルボキシル基から選択された少なくとも１種の官能基を有する非フルオレン系（メタ）アクリルモノマー（Ｂ）（例えば、ヒドロキシル基を有する多官能性（メタ）アクリレート、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレートなど）とで少なくとも構成する。 （もっと読む）

【課題】優れたガスバリア性を長期間に亘って維持できるガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】２個以上のアルコキシ基と１個以上のラジカル重合性基とを有するアルコキシシラン（Ａ）と水とを混合することにより加水分解物を得、この加水分解物に、ポリイソシアネート化合物（Ｂ）、及び１個以上のイソシアネート反応性基と１個以上のラジカル重合性基とを有するラジカル重合性単量体（Ｃ）を添加して、上記ポリイソシアネート化合物（Ｂ）と上記ラジカル重合性単量体（Ｃ）とを反応させてなる反応生成物及び上記加水分解物を含む塗工用組成物を得、この塗工用組成物に活性エネルギー線を照射することにより、上記反応生成物と上記加水分解物とのラジカル重合を行った後又は行いながら、上記加水分解物の脱水縮合反応を行うことにより形成されてなるガスバリア性樹脂層を有するガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ効率的な、金属不純物量が極めて少ない半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法及び該共重合体を製造するための重合開始剤の精製方法の提供。
【解決手段】本発明の重合体の製造に用いる重合開始剤の精製方法は、有機溶剤に溶解された重合開始剤の溶液を、公称孔径が１．０μｍ以下のフィルターに通液させて、重合開始剤溶液のナトリウム含有量を、重合開始剤の質量に対して、３００ｐｐｂ以下に低減させる、通液工程を含んでなるものである。さらに、本発明の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法は、上記の精製方法により精製された重合開始剤の存在下、ラジカル重合反応により、該半導体リソグラフィー用重合体を合成する、重合工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時のフォーカスマージンが良好であり、且つ欠陥が少ないレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）式（ＩＩ）で表される構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を表す。］ （もっと読む）

【課題】十分な耐ゲル性を有する（メタ）アクリル酸系共重合体を提供する。
【解決手段】全単量体由来の構造１００モル％に対して、５モル％以上２５モル％以下の下記一般式（１）で表される単量体に由来する構造単位（ａ）、５０モル％以上８８モル％以下の（メタ）アクリル酸（塩）由来の構造単位（ｂ）、７モル％以上２５モル％以下のマレイン酸（塩）由来の構造単位（ｃ）を必須構造単位として有する共重合体であって、重量平均分子量が１０００〜３００００である（メタ）アクリル酸系共重合体。


一般式（１）中、Ｒ_２は、水素原子またはメチル基を表し、ＸおよびＹは、それぞれ独立に水酸基またはスルホン酸（塩）基を表す（但し、Ｘ、Ｙのうち少なくとも一方はスルホン酸（塩）基を表す）。 （もっと読む）

【課題】高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により極性が増大する構成を有する（メタ）アクリル酸エステル単位と、−ＳＯ_２−含有環式基を含む（メタ）アクリル酸エステル単位及び、一般式（ａ５−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単位とを有する高分子化合物（Ａ１）、及び露光により酸を発生する成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】優れたラインウィドゥスラフネスを有するレジスト組成物用の樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂の製造方法であって、式（ＩＩＩ）で表されるモノマー及び式（ＩＶ）で表されるモノマーを重合させる第１工程と、第１工程で得られた生成物を加水分解して、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^７を−ＯＨにする第２工程と、を有する樹脂の製造方法。［Ｒ^１及びＲ^５はハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^２〜Ｒ^４はアルキル基又は脂環式炭化水素基を表すか、Ｒ^２及びＲ^３は互いに結合して２価の炭化水素基を形成する。Ｘ^１及びＸ^２は単結合又は２価の連結基を表す。］
（もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性に優れたネガ型現像用レジスト組成物、及び該ネガ型現像用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により有機溶剤に対する溶解性が減少する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記レジスト膜を、前記有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像によりパターニングしてレジストパターンを形成する工程、を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、ｌｏｇＰ値が２．７以下であり、且つ、ｐＫａが−３．５以上である酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】液の漏れやカブレの発生といった問題が生じない吸収性物品を製造できる吸収性樹脂粒子を提供する。
【解決手段】水溶性ビニルモノマー（ａ１）及び／又は加水分解性ビニルモノマー（ａ２）、並びに架橋剤（ｂ）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ１）を含んでなる吸収性樹脂粒子であり、走査型電子顕微鏡にて観察される単位面積当たりの細孔の数平均数が１〜２００個／ｍｍ^２であり、吸収性樹脂粒子１粒子当たりの数平均細孔径が１〜５０μｍである吸収性樹脂粒子（Ｂ１）。 （もっと読む）