【課題】分子量及び分子量分布が制御されたポリマーを、高い収率で、かつ短時間で製造する。
【解決手段】マクロリビング開始剤を調製する工程と、マクロリビング開始剤に、共役オレフィン化合物を添加する工程と、前記化合物を添加した後、光照射することにより、前記化合物を重合成長末端とするラジカルを選択的にカップリング反応させて二量化する工程とを備えることを特徴とするポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】非水溶性有機溶剤中でしか重合させることができない反応性基を有する２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール誘導体を、環境への負荷が少ない水系溶媒中で重合させる方法の提供。
【解決手段】シクロデキストリンの疎水性キャビティに、一般式（１）で表される化合物が包摂された複合体を用いる。


（式中、Ｒ１〜Ｒ３は、各々独立して、水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂又は−Ｏ−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂を表わし、Ｚは、アルキレンを表し、Ｒ４は、水素又はメチル基を表わす。ただし、Ｒ１〜Ｒ３で表される基の少なくとも一つは、−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂又は−Ｏ−Ｚ−ＯＣＯ−Ｃ（Ｒ４）＝ＣＨ₂である。） （もっと読む）

【課題】必要に応じて各種の特性を発揮して、水中接着剤等として使用されるのに好適な新しいタイプのポリマーを提供する。
【解決手段】ポリマーは、ポリアクリレートから成る主鎖に少なくとも３種類の側鎖が結合されているポリマーであって、前記側鎖のうちの第１の側鎖は、前記ポリアクリレートを構成するモノマーに由来する構造を有し、その末端にリンカー部位を介して親水性または疎水性の官能基または原子団が結合されていてもよく、前記側鎖のうちの第２の側鎖は、その末端に修飾されていてもよいカテコール性水酸基を有し、前記側鎖のうちの第３およびそれ以降の側鎖は、前記ポリマーを改変し、または該ポリマーに所定の機能を付与する官能基または原子団を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー技術を用いたレジストパターン製造では、設計寸法がますます微細化していくことに従い、優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物が求められるようになってきた。
【解決手段】以下の（Ａ）及び式（Ｉ）で表される塩を含有するレジスト組成物。
（Ａ）酸不安定基を含む第１の構造単位と、ラクトン環を含む第２の構造単位とを有する樹脂；


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、ｎが０の場合、Ｌ^１は単結合ではない。Ｒ^１は、保護基により保護されたヒドロキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物などを提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基、ここでｓは０〜２の整数、Ａ^１０及びＡ^１１は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表し、Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す；Ａ^２は、フッ素原子を有する２価の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供。
【解決手段】ゴム成分と、シリカと、ガラス転移温度−４０〜−１０℃の、水酸基を有するジエン系ゴムゲルとを含有し、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有し、（Ｒ^３）（Ｒ^４）（Ｒ^５）Ｓｉ−（ＣＨ_２）ｎ−Ａで表される化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、上記ゴム成分１００質量部に対して、上記シリカの含有量が５〜１５０質量部、上記ジエン系ゴムゲルの含有量が１０〜３０質量部であることを特徴とするゴム組成物。
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【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能及び耐摩耗性をバランス良く改善できるゴム組成物、及びこれを用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】ゴム成分、シリカ及び下式（１）で表される化合物を含有し、上記ゴム成分１００質量％のうち、共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有し、特定の化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が５質量％以上であり、上記ゴム成分１００質量部に対する上記シリカの含有量が５〜１５０質量部であるゴム組成物に関する。


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【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は、ヒドロキシ基又はアルキル基；Ａ¹は、単結合等；ｌは０〜３の整数；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は２価の飽和炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を６μｍ未満のピッチで露光する際に、６μｍピッチ露光時の最適パワーに対し、１００％未満であり、かつ〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）−３０〕〜〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）＋１５〕％のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が１０未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】カチオン界面活性剤の吸着量、毛髪化粧料として用いたときの粘度や塗布時のなめらかさに優れた共重合体、それを含有する化粧料組成物及び毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を構造内に有するビニル系モノマー（Ａ）に相当する構成単位と、特定の親水性ノニオンビニル系モノマー（Ｂ）に相当する構成単位と、特定の疎水性ビニル系モノマー（Ｃ）に相当する構成単位とを有する共重合体であって、共重合体の全質量に対してビニル系モノマー（Ａ）に相当する構成単位の割合が１５〜８０質量％である共重合体。 （もっと読む）

【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能、耐摩耗性、混練加工性を改善できるゴム組成物を提供する。
【解決手段】ゴム成分及びシリカを含有し、前記ゴム成分１００質量％のうち、（Ａ）ムーニー粘度（ＭＬ）：４０〜４９、（Ｂ）分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）：３．０〜３．９及び（Ｃ）ムーニー粘度の速度依存性指数（式（１）のｎ値）：２．３〜３．０の要件を満足し、かつシス含量が９５質量％以上のハイシスポリブタジエンの含有量が１０〜７０質量％であり、共役ジエンに基づく構成単位と下式（Ｉ）で表される構成単位とを有し、特定の化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されてなる共役ジエン系重合体の含有量が３０〜９０質量％であり、前記ゴム成分１００質量部に対する前記シリカの含有量が５〜１５０質量部であることを特徴とするゴム組成物。ｌｏｇ（ＭＬ）＝ｌｏｇ（Ｋ）＋ｎ^−１×ｌｏｇ（ＲＳ）式（１）
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【課題】フィルムと過酷化学物質とを含む製品を提供する。
【解決手段】フィルムは、８週間後の過酷化学物質溶解試験法で測定された８０秒未満の過酷化学物質溶解時間を示すことを特徴とし、当該フィルムは、ビニルアルコール（ＶＯＨ）と、１〜８モル％の遊離酸形の２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸または塩としての当該遊離酸（ＡＭＰＳ）とのコポリマーを含み、さらに、当該コポリマーが、当該コポリマー中のＡＭＰＳの含量に関する低い組成ドリフトを特徴とする、製品。 （もっと読む）

【課題】
未硬化部が水または非常に弱いアルカリ性の現像液で現像可能で、かつ基材密着性に優れた感光性樹脂組成物、ならびに該感光性樹脂組成物の原料となる側鎖ラジカル重合性基含有重合体を提供すること。
【解決手段】
（ａ）アクリロイルモルホリン、（ｂ）不飽和一塩基酸、（ｃ）分子内にアルキレンオキシド鎖を持つ（メタ）アクリレートを必須単量体として重合した共重合体に（ｄ）カルボキシル基と反応し得る官能基とラジカル重合性不飽和結合を同一分子中に持つ化合物を付加した側鎖ラジカル重合性官能基含有共重合体を用いること。 （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン（ＥＬ）を有するレジストパターンの提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、式（ＩＩ）で表される塩と、樹脂とを含有するレジスト組成物。




［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。ｎは１又は２を表す。（Ｚ^１）^＋及び（Ｚ^２）^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】１液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）


で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ３〜２０質量％、１５〜４５質量％、および１５〜３５質量％であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】ポリ（Ｎ−ビニル−２−ピロリドン）の安定化できるラジカルを形成し、薬物送達系ブロックポリマーを調製する。
【解決手段】ヒドロキシ末端を有するポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）を調整したのち、他のジブロックあるいはトリブロックコポリマーを調製する２段階の重合方法。
【効果】ブロックコポリマーは薬物送達のための担体として用いることができる。 （もっと読む）

【課題】インク、塗料、コーティング、粘着剤、接着剤等の分野において、バインダーや添加剤として、水性系溶媒に対する溶解性又は分散性、成膜性に優れたビニルエーテル共重合体を提供する。
【解決手段】ビニルエーテルのエーテル部分が、−（ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）ｐ−Ｈ、（ｐは１〜２の整数）、であるビニルエーエーテル単量体（Ｉ）、及びビニルエーテルのエーテル部分がエチル基からなるビニルエーテル単量体（ＩＩ）を構成単位として含むビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１−５、Ｌ^１−ＣＨ_２−、Ｙは特定の基。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】式（ａ５−１）で表される構成単位と、酸分解させるための活性化エネルギーの差が１〜５０ｋＪ／ｍｏｌである、少なくとも２種のアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有し、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物。
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【課題】リソグラフィー特性及びレジストパターン形状に優れ、且つ高感度なレジストパターンを形成できるレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）と、ヒドロキシアダマンチル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ５）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有し、酸分解性基を分解させるための活性化エネルギーが１００ｋＪ／ｍｏｌ以下であるレジスト組成物。 （もっと読む）