【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＣＮ、−ＳＯ_２ＮＨ_２及び−ＣＯＮＨ_２からなる群より選択される少なくとも一種の基を含む構成単位（ａ３）を有する重合体；該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高感度、高解像性で、ラフネス（ＬＷＲ）が小さく、露光後のパターン形状が良好であるポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物を用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位ａと、カルボキシル基及び／又はヒドロキシ基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位ｂとを含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂とすることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ^１は水素原子、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状、若しくは環状のアルキル基であって、カルボニル基を有していてもよく、環を形成していてもよい。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、又は炭素数１〜４の直鎖状、若しくは分岐状のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】
不飽和ジカルボン酸を必須成分として得られるバインダー成分を含有するカーボンコート塗工液をアルミ箔に塗工して得られるカーボンコート箔層と活物質層を持つことで、集電体に対する活物質層の密着性に優れ、かつ集電体との抵抗が低い電極、およびこれら電極を用いたリチウムイオン二次電池を提供すること。
【解決手段】
本発明は、不飽和ジカルボン酸のみを重合して得られる重合体、又は、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリル及び（メタ）アクリル酸アルキルから選ばれる１種以上の不飽和単量体と不飽和ジカルボン酸を重合して得られる重合体であり、重量平均分子量が５０万〜３００万である、金属箔に塗工するカーボンコート箔塗工液用バインダーに関する。 （もっと読む）

【課題】高解像性で良好な形状の孤立ラインパターンを形成することができ、且つ、ドライエッチング耐性を含む他のレジスト性能にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１つのフェノール性水酸基と、フェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で表される基によって置換されている基を少なくとも１つ含む化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】露光感度が高く優れ、現像欠陥が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物、及び（Ｂ）樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ）中、Ｘは、酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒｘ）−を表す。Ｒ_１〜Ｒ_８及びＲｘは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリールカルボニルオキシ基を表す。Ｒ_１〜Ｒ_８はそれぞれ互いに連結して環を形成していても良い。但し、Ｒ_１〜Ｒ_８のうち、少なくとも２つが下記一般式（ＩＩ）で表される構造を表す。
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【解決手段】一般式（１）で示される重合性エステル化合物。


【効果】重合性エステル単量体は、波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用である。 （もっと読む）

【課題】高温、高湿度環境下においても、導電性の劣化が少なく、かつ膜剥がれが抑えられた透明導電膜、及び透明導電膜を用いた、発光寿命に優れ、高温保存時の輝度低下が抑えられた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】基材３上にパターン状に形成された金属材料からなる第１導電層１と、導電性ポリマーとヒドロキシ基を有する構造単位を含むバインダー樹脂を含有する第２導電層を２有し、該バインダー樹脂のヒドロキシ基をエステル化処理した事を特徴とする透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像において溶解コントラストが大きく、かつ高感度なフォトレジスト組成物及び有機溶剤による現像によってポジネガ反転によるホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】分岐状アルキレン基もしくは脂環式基上のヒドロキシ基が酸不安定基で置換された側鎖を有するアクリル系繰り返し単位を有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】上記パターン形成方法で得られるレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高い特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】高いエッチング耐性を有するレジストパターンを形成させることのできる微細パターン形成用組成物、およびそれを用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に芳香族含有置換基を有する水溶性樹脂と純水とを含む微細パターン形成用組成物。この組成物は、水溶性樹脂に結合した酸基を含むか、または組成物中に遊離の酸を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】セルロース系バイオマスを原料とした加水分解性セルロースの製造の際に、セルロース系バイオマスを含む混合物に好適な粘性を付与すること等により、セルロース系バイオマスの分子レベルの分断を容易に行うことができ、その結果、加水分解性セルロースを効率的に製造することができるポリビニルアルコール系重合体、及びこのポリビニルアルコール系重合体を用いた加水分解性セルロースの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、セルロース系バイオマスを原料とした加水分解性セルロースの製造に用いられるポリビニルアルコール系重合体であって、１，２−グリコール結合を１．７モル％以上有するポリビニルアルコール系重合体である。 （もっと読む）

【課題】長期間連続装用を可能にする含水ソフトコンタクトレンズ、そのための新規な共重合体、及び鋳型中で該共重合体を得るための方法を提供する。
【解決手段】表面の接触角が水中気泡法で１０〜３０°かつ空気中での液滴法で４０〜８３°の範囲にあり、酸素透過係数（Ｄｋ値）が３０以上で含水率が５％以上である含水ソフトコンタクトレンズ、親水性シロキサンモノマーと親水性モノマーとを重合してなる含水ソフトコンタクトレンズ用共重合体、及び含水ソフトコンタクトレンズを、ポリアミド、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート及びエチレンビニルアルコールから選ばれた１種の樹脂から形成された鋳型中で形成する方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、良好なラフネス特性、良好なパターン形状、及び現像欠陥の低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法を提供すること。
【解決手段】フッ素原子を含有する繰り返し単位を含む樹脂（Ａａ）と、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂であって、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する構造部位を備えた繰り返し単位（Ｂ）を含む樹脂（Ａｂ）を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、無機密着性、湿熱安定性を有し、かつ、高度な光学等方性（低複屈折性）を有する光学等方性支持板、インナータッチパネル用光学等方性支持板及びインナータッチパネルを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される第一の構造単位５０〜９５質量％と、下記式（２）で表される第二の構造単位０．１〜２０質量％と、下記式（３）で表される第三の構造単位０．１〜４９．９質量％とを有するアクリル系熱可塑性樹脂で形成される光学等方性支持板１２。




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【課題】ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を改善し、パターン倒れを抑制できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスの提供。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−３）のいずれかで表される構造を有する繰り返し単位と、ラクトン構造、サルトン構造及びシアノ基からなる群より選択される少なくとも１種を含有する繰り返し単位とを有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】リソグラフィおよび現像性能に悪影響を及ぼさず、膜表面および頂部表面付近の領域に分布した、濃縮されたクエンチャー材料が存在するフォトレジスト組成物。
【解決手段】式（Ｉａ）、式（Ｉｂ）または式（Ｉａ）および（Ｉｂ）の組み合わせを含む窒素含有モノマーと、特定の酸脱保護性モノマーとを含むモノマーの重合生成物を含むポリマー。（Ｉａ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−（−Ｏ−Ｌ^１−）_ａ−ＮＲ^ｂ_２、（Ｉｂ）：Ｒ^ａ−Ｃ（＝ＣＨ_２）−ＣＯ−Ｏ−ＬＮ−Ｘ。（式中ａは０または１であり、Ｌ^１は直鎖もしくは分岐Ｃ_１−１０アルキレン基、または単環式、多環式、もしくは縮合多環式Ｃ_３−２０（ヘテロ）シクロアルキル等であり、各Ｒ^ｂは別々に分かれているか、または少なくとも一つのＲ^ｂは隣のＲ^ｂに結合されており；ＬＮは縮合多環式Ｃ_３−２０ヘテロシクロアルキレン基等であり、ＸはＨ、Ｃ_１−１０アルキル等である。） （もっと読む）

【課題】臭気の問題がなく、炭素、水素、酸素のみで構成された環境にやさしく、ポリマーに官能基を付与することができる新しいタイプの連鎖移動剤、官能基を付与されたポリマーおよびそのポリマー製造法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表される縮合多環芳香族骨格を有する連鎖移動剤。


（（１）式中、ｎは０から３の整数を表し、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、グリシジル基、ヒドロキシアルキル基、又はアリールオキシアルキル基を表し、ｐは１又は２の整数を表し、ｑは０から４の整数を表し、ｒは１から４の整数を表し、Ｙ及びＺは水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。） （もっと読む）

【課題】フォーカスマージン（ＤＯＦ）が満足できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の（Ａ）及び（Ｂ）を含有するレジスト組成物。（Ａ）式（ａ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂


［式（ａ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１は、式（ａ−ｇ１）：−（Ａ^１０−Ｘ^１０）_ｓ−Ａ^１１−（式（ａ−ｇ１）中、ｓは０〜２の整数を表す。Ａ^１０及びＡ^１１は、それぞれ独立に、炭素数１〜５の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基等を表す。）で表される基を表す。Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基等を表す。］（Ｂ）酸発生剤 （もっと読む）

【課題】粘弾性を制御し、特にタイヤに用いた場合に低燃費性とウェットスキッド性を改善する。
【解決手段】エポキシ化天然ゴムのエポキシ基の少なくとも一部をラテックス中でジイミド又はその誘導体により還元することで水酸基化して得られ、式（１）及び／又は式（２）で表される構成単位を有する変性ジエン系ゴムである。
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【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にＫｒＦ露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び溶剤（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂（Ａ）中の全繰返し単位に対して、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位の含有量が２０モル％未満で、かつ一般式（Ｉ）以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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【課題】高屈折率を有し、紫外域の吸収や蛍光性が無く透明性にすぐれ、廃棄の際には環境への悪影響が無く、高圧水銀ランプなどを用いた工業的に有利な紫外線硬化装置で重合可能な化合物とその製造法、及びその化合物を含む重合性組成物を提供する。
【解決手段】１０−ヒドロキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタのアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物を炭酸エステル化することによる１０−（置換カルボニルオキシ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１，４−メタノアントラセン−９−イル−（メタ）アクリレート化合物の製造法及び、該（メタ）アクリレート化合物並びに該（メタ）アクリレート化合物を含む紫外線硬化性組成物。 （もっと読む）