【課題】繊維織物等に対して、優れた吸水性、撥油性、防汚性、汚れ脱離性を付与する組成物を提供し、更にはRf基の炭素数が８未満と従来に比較して短くても、同様の優れた性質を有する組成物を提供する。
【解決手段】（１）含フッ素共重合体であって、（a）一般式：CH₂=C(−X)−C(=O)−Y−[−(CH₂)_m−Z−]_p−(CH₂)_n−Rf(I)[式中、Ｚは、直接結合、−Ｓ−または−ＳＯ_２−であり；Ｒｆは、炭素数１〜６のフルオロアルキル基であり；ｍは１〜10、ｎは０〜10、ｐは０または１である。]で示される含フッ素単量体、及び(b)一般式：CH₂=C(X’)-C(=O)-O-(RO)_q-H（ＩＩで示されるアルコキシ基含有単量体を必須成分としており、アミノ基を有する単量体を含有しない含フッ素共重合体、（２）ブロックイソシアネート化合物、ならびに（３）液状媒体を含んでなる組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、基材や下地などとの密着性が良好であり、表面硬度、耐熱性および耐酸性が高く、かつ透過率が高く、特に波長４００ｎｍ付近の透過率が高い感光性樹脂組成物と、それを用いたタッチパネル用絶縁膜を提供することを目的とする。
【解決手段】樹脂（Ａ）と、光重合開始剤（Ｂ）と、多官能単量体（Ｃ）と、を含有する感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が一般式（１）で表される化合物（ａ１）と、化合物（ａ１）と共重合可能な他の化合物（ａ２）とを共重合してなる樹脂（Ａ１）を含み、多官能単量体（Ｃ）が、１分子中に７個以上のエチレン性不飽和二重結合を有することを特徴とする感光性樹脂組成物によって解決される。 （もっと読む）

【課題】各種基材、特に電子部品に撥水性、撥油性および撥ＩＰＡ性を付与するとともに、耐熱性の高い表面処理剤の提供。
【解決手段】式（ａ）で表される（メタ）アクリレートから導かれる構成単位（Ａ）と、Ｎ−置換マレイミドから導かれる構成単位（Ｂ）とを含有する重合体を溶媒中に含む表面処理剤。
ＣＨ₂-＝Ｃ（Ｒ¹）-ＣＯＯ-（ＣＨ₂）_ｎ１-Ｒ^ｆ （ａ）
ｎ^１：０〜４の整数、Ｒ^ｆ：炭素数１〜６のポリフルオロアルキル基またはポリフルオロエーテル基。 （もっと読む）

【課題】基板との密着性（ハガレ耐性）に優れた液浸上層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位（ａ）を有する重合体成分（Ａ）および溶剤（Ｂ）を含む液浸上層膜形成用組成物である。具体的には、複数のカルボキシル基を含む繰り返し単位が下記式（ａ１）である液浸上層膜形成用組成物である。
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【課題】インクジェットプリンターに使用することができ、且つ、耐熱性、耐薬品性、絶縁性及び保存安定性に優れるインクジェット用硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で示されるビスアリルナジイミド化合物と、


（式中、Ｒ^１は、炭素数２〜１８のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。）特定構造のビスマレイミド化合物と、（Ｃ）希釈剤と、（Ｄ）ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方を含有するインクジェット用硬化性樹脂組成物であって、その粘度が２５℃で１５０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とするインクジェット用硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンの形成においてもＣＤＵ等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］γ−ブチロラクトン環を含む構造単位を有するアダマンチル基及びアダマンタン環を含む酸解離性基含有重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物であって、上記構造単位の含有割合が６０モル％を超えることを特徴とするフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱分解性に優れる（メタ）アクリル重合体を生産性よく製造できる、（メタ）アクリル重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸エステル単量体を含む単量体群をラジカル溶液重合する工程を含む（メタ）アクリル重合体の製造方法であって、前記工程において、前記重合の重合系に、当該重合系における前記重合の反応が進行中であって、前記反応による当該重合系の重合転化率が６０重量％以上９２重量％以下のときに、連鎖移動剤を加える方法とする。この製造方法によって、主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル重合体を製造してもよい。環構造は、例えば、Ｎ−置換マレイミド構造、無水マレイン酸構造、グルタルイミド構造、無水グルタル酸構造およびラクトン環構造から選ばれる少なくとも１種である。 （もっと読む）

【課題】高い顔料濃度であっても、保護膜及び支持体との密着性に優れたカラーフィルター基板を提供する。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）光重合開始剤、（Ｂ）有機系着色剤、（Ｃ）アクリル系ポリマー、（Ｅ）光重合性モノマー、および（Ｄ）溶媒を含有するカラーフィルター用感光性着色組成物において、（Ｅ）光重合性モノマーが少なくとも（Ｅ−１）下記一般式（１）で表される光重合性モノマーを含有し、かつ（Ｅ）光重合性モノマーの含有量が、（Ｃ）アクリル系ポリマーと（Ｅ）光重合性モノマーの質量の総和に対して５０〜７５質量％であることを特長とするカラーフィルター用感光性着色組成物。 （もっと読む）

【課題】アニオン成分を低減しても乳化能を維持し、さらに、乳化剤使用時の乾燥皮膜において耐水性に優れた乳化剤及びこれを用いた樹脂分散体を提供する。
【解決手段】エチレンオキサイド基及びブチレンオキサイド基を有し、エチレンオキサイド基の繰り返し単位数ｍが１０以上６５以下、ブチレンオキサイドの繰り返し単位数ｎが１以上８以下であり、かつラジカル重合性二重結合を有するビニル単量体（Ａ）に由来する構造単位と、下記式（１）で表されるビニル単量体（Ｂ）に由来する構造単位とを含む共重合体からなる乳化剤。
ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）−（ＣＯ）−Ｎ（Ｒ^２）−Ｘ−ＯＨ ・・・（１）
（上記式（１）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。） （もっと読む）

【課題】脂肪酸金属塩の凝集が抑制された紡糸原液及び繊維処理剤を用いて乾式紡糸して得られる、紡糸生産安定性とパッケージからの良好な解舒性や繊維の加工性良好な摩擦性を有するポリウレタン弾性繊維の提供。
【解決手段】ポリウレタン重合体１００重量部、該ポリウレタン重合体１００重量部に対して、炭素原子数１０〜３０の脂肪酸金属塩０．０１〜３重量部、及びポリカルボン酸系共重合化合物０．００００１〜５重量部を含むポリウレタン弾性繊維。 （もっと読む）

【課題】高収率でレジスト組成物用樹脂を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】溶剤（１）及び溶剤（２）の混合溶剤中で、モノマーを重合させることを特徴とするレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。
溶剤（１）：溶解度パラメーターが１１．４〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤；
溶剤（２）：テトラヒドロフラン。
当該製造方法は、重合開始剤の作用によりモノマーを重合することが好ましく、モノマー、重合開始剤及び溶剤（２）を含む混合液を、溶剤（１）中に滴下して、モノマーを重合させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のポリアルキレングリコール系単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、露光ラチチュード及びドライエッチング耐性に優れ、かつ露光により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制するパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）、及び酸の作用により分解してアルコール性水酸基を生じる基と多環の脂環式炭化水素基とを有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）並びに活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】高屈折率、高耐熱性に優れ、硬化物の応力を緩和できるフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートを提供する。
【解決手段】式（１）で表されるフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート。


（式中、環Ｚはベンゼン環又は縮合多環式芳香族炭化水素環、Ｒ^１はハロゲン原子、アルキル基又はシアノ基を示し、Ｒ^２はアルキレン基を示し、Ｒ^３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^４は炭化水素基などを示し、ｋは０〜４の整数、ｍは０又は１以上の整数、ｎは０又は１以上の整数、ｐは１以上の整数である。但し、環Ｚがベンゼン環であるとき、ｎは１以上の整数であり、少なくとも１つのＲ^４はアリール基である。） （もっと読む）

【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）カルボキシ基又はフェノール性水酸基が酸分解性基で保護された残基を有するモノマー単位（ａ１）と、エポキシ基及び／又はオキセタニル基を有するモノマー単位（ａ２）と、アミノ基、アミド基、イミド基、スルホンイミド基、スルホンアミド基、イミノ基、ウレタン結合及びウレイド結合よりなる群から選ばれた構造を有するモノマー単位（ａ３）と、を有する重合体、（成分Ｂ）光酸発生剤、並びに、（成分Ｃ）溶剤、を含むことを特徴とする
ポジ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高収率で、分子量分布が狭い樹脂を製造することができるレジスト組成物用樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】溶解度パラメーターが１１．８〜１３．０[ｃａｌ／ｍｏｌ]^１／２の範囲内である溶剤（１）中に、アセチル基含有溶剤である溶剤（２）［ただし溶剤（１）とは異なる。］、モノマー及び重合開始剤を添加する工程、好ましくは、溶剤（２）、モノマー及び重合開始剤を混合してなる混合物を滴下する工程を有するレジスト組成物用樹脂の製造方法の提供。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体形成用塗布液の調製のために好適なポリマー組成物を製造するための手段を提供すること。
【解決手段】ポリマー組成物の製造方法。前記ポリマー組成物は、所定の４種のモノマー（モノマー１〜４）を含む原料モノマーの重合反応により得られるポリマーを含み、モノマー１を水または水とアルコールとの混合溶媒に添加して調製した溶液Ａと、モノマー２、３および４をケトン系溶媒に添加して調製した溶液Ｂとを混合して原料モノマー混合液を調製し、該原料モノマー混合液中で前記重合反応を行う。 （もっと読む）

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜の提供。
【解決手段】（ア）下記一般式（Ｉ）で表される酸によって分解しカルボキシル基を生じる繰り返し単位（ａ１）を有する樹脂（Ｐ）、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法。
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【課題】従来の重合体と比較して十分な再汚染防止能を有する重合体を提供することを目的とする
【解決手段】
１質量％以上、８９質量％以下のヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート由来の構造単位（ａ）、１０質量％以上、９８質量％以下のカルボキシル基含有単量体（Ｂ）由来の構造単位（ｂ）、及び、１質量％以上、８９質量％以下のスルホン酸基含有単量体（Ｃ）由来の構成単位（ｃ）、を必須構造単位として有する共重合体である。 （もっと読む）