【解決手段】カルボキシル基が酸不安定基により保護された部分構造を有する繰り返し単位を含有するベース樹脂と光酸発生剤と架橋剤と有機溶剤を共に含み、架橋剤がオキシラン環又はオキセタン環から選ばれる官能基を分子内に２つ以上有する化合物であるレジスト組成物を基板上に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させることを特徴とするネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明のレジスト組成物は、有機溶剤現像において解像性が高く、露光、加熱処理により酸不安定基が脱保護した状態においても高い耐ドライエッチング性を示す特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、ガラス転移温度の均一性に優れ、変性率が高く、粘弾性特性が良好で、ビニル結合量が高い変性共役ジエン系共重合体が得られる、変性共役ジエン系共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】共役ジエン系単量体とビニル芳香族単量体とを、有機リチウム化合物開始剤を用いて共重合させる重合工程と、前記重合工程により得られる共役ジエン系共重合体に、官能基含有化合物を反応させる変性工程と、を有し、 前記重合工程において、下記化合物（１）、（２）をモル比で（２）／（１）＝０．０１以上０．１未満とし、かつモル比で（２）／有機リチウム化合物＝０．０２〜０．２として共存させる変性共役ジエン系共重合体の製造方法。
（１）酸素原子を２個以上有し、少なくとも１個の酸素原子が環状エーテル構造を構成するエーテル系化合物。
（２）ナトリウムアルコキシド。 （もっと読む）

【課題】被処理液中の重金属の濃度が低く、カルシウムイオンが存在していても、重金属を効率よく捕捉可能で、回収率を向上することができる水処理剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）に示す部分構造を有する重合体を含有する水処理剤。
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【課題】 適度な強度の酸を発生させ、かつ、発生酸の移動、拡散を適度に制御することが可能であり、また、基板との密着性を損なわない酸発生単位をベースポリマーに導入することができるスルホニウム塩、該スルホニウム塩を用いた高分子化合物、該高分子化合物をベースポリマーとして用いた化学増幅型レジスト組成物および、該化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される重合性アニオンを有するスルホニウム塩。
【化１】
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【課題】マレイミド誘導体を含む光硬化性組成物であって、光硬化性が高く、粘度が低い組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるマレイミド誘導体を含有する、光硬化性組成物。
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【課題】 酸素存在下における光硬化アクリレート樹脂の表面硬化性と透明性の両立を実現する光硬化性樹脂組成物とそれを用いた光硬化性樹脂組成物ワニス、光硬化性樹脂組成物硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ａ−１）一般式（Ｉ）に示すポリエチレンオキサイド構造を有する重合性（メタ）アクリレートまたは（Ａ−２）一般式（ＩＩ）に示すポリグリセロール構造を有する（メタ）アクリレートと、（Ｂ）ベンゾフェノン系光開始剤を必須成分として含む光硬化性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】従来の紫外線吸収剤を用いた場合に比して、非ブリードアウト性、相溶性、耐水性、及び耐熱性に優れ、単独又は種々の樹脂との配合で、光劣化が抑制されるとともに、耐久性の向上した塗料、コーティング剤、インキ、フィルム、及びシートなどの高分子製品を製造することが可能なポリマー組成物を提供する。
【解決手段】紫外線吸収型ポリマー（Ａ）と、ポリウレタン（Ｂ）のディスパージョンと、を含み、紫外線吸収型ポリマー（Ａ）は、二重結合及び紫外線吸収基を有する化合物（ａ）と、二重結合含有成分と、を含む重合成分を重合させて得られるものであり、ポリウレタン（Ｂ）は、活性水素含有基及びアニオン性親水性基（水酸基を除く）を有する化合物（ｂ）と、ポリオール（ｃ）及び／又はポリアミン（ｄ）と、ポリイソシアネート（ｅ）と、を含む反応成分を反応させて得られるものであるポリマー組成物である。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れる重合性組成物並びに透明性及び耐熱性に優れる硬化物を提供すること。
【解決手段】光重合開始剤としてアシルホスフィン系光重合開始剤、好ましくは、モノアシルホスフィンオキサイド系化合物又はビスアシルホスフィン系化合物を、一般式（Ｉ）で表される重合性液晶化合物、好ましくは、一般式（II）で表わされる化合物に含有させた重合性組成物或いはこれを重合させて得られる硬化物を用いる。必要に応じ、上記重合性組成物に、光学活性化合物、好ましくは、一般式（III）又は（IV）で表わされる化合物を含有させる。一般式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）の具体的内容は明細書に記載の通りである。 （もっと読む）

【課題】カチオン界面活性剤の吸着量、毛髪化粧料として用いたときの粘度や塗布時のなめらかさに優れた共重合体、それを含有する化粧料組成物及び毛髪化粧料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を構造内に有するビニル系モノマー（Ａ）に相当する構成単位と、特定の親水性ノニオンビニル系モノマー（Ｂ）に相当する構成単位と、特定の疎水性ビニル系モノマー（Ｃ）に相当する構成単位とを有する共重合体であって、共重合体の全質量に対してビニル系モノマー（Ａ）に相当する構成単位の割合が１５〜８０質量％である共重合体。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び式（Ｂ１）で表される塩を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ｒ^２は、ヒドロキシ基又はアルキル基；Ａ¹は、単結合等；ｌは０〜３の整数；Ｑ¹及びＱ²は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^b1は２価の飽和炭化水素基；Ｙは、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基；Ｚ⁺は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン形状、ラフネス性能、及び、オーバー露光マージンに優れたパターンを形成することができる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み、かつ、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩化合物、（Ｃ）下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物、又は、下記一般式（Ｃ−Ｉ）により表される化合物の複数が連結基を介して結合された構造を有する化合物、及び、（Ｇ）溶剤を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
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【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを得ることができる樹脂及びレジスト組成物などを提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基；Ａ¹は、式（ａ−ｇ１）で表される基、ここでｓは０〜２の整数、Ａ^１０及びＡ^１１は、それぞれ脂肪族炭化水素基を表し、Ｘ^１０は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す；Ａ^２は、フッ素原子を有する２価の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】リソグラフィー技術を用いたレジストパターン製造では、設計寸法がますます微細化していくことに従い、優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを製造し得るレジスト組成物が求められるようになってきた。
【解決手段】以下の（Ａ）及び式（Ｉ）で表される塩を含有するレジスト組成物。
（Ａ）酸不安定基を含む第１の構造単位と、ラクトン環を含む第２の構造単位とを有する樹脂；


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｎは、０又は１を表す。Ｌ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、ｎが０の場合、Ｌ^１は単結合ではない。Ｒ^１は、保護基により保護されたヒドロキシ基、又はヒドロキシ基を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】めっき後に細線乃至小ドットの金属パターンを高解像度で形成できる金属パターン材料及び金属パターン材料の製造方法の提供。
【解決手段】特定のめっき形成用光感応材料を６μｍ未満のピッチで露光する際に、６μｍピッチ露光時の最適パワーに対し、１００％未満であり、かつ〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）−３０〕〜〔（ピッチ（μｍ）×７５／６＋２５）＋１５〕％のレーザーパワーで露光する露光工程と、露光後のめっき形成用光感応材料を現像液で現像する現像工程と、現像後のパターンが形成されためっき形成用光感応材料を、めっき浴比が１０未満でめっきを行うめっき工程とを含む金属パターン材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】形成されるパターン上において異物の発生が少ない着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色剤、樹脂、光重合性化合物及び光重合開始剤を含み、着色剤が、キサンテン染料を含む着色剤であり、樹脂が、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種に由来する構造単位と、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドに由来する構造単位とを有する共重合体である着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】１液処理が可能であり、耐刷性能が優れた感光層の形成を可能とする感光性組成物、サーマルネガ版用平版印刷版原版、および画像形成方法を提供すること。
【解決手段】下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）


で表される繰り返し単位を少なくとも含有し、式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が、それぞれ３〜２０質量％、１５〜４５質量％、および１５〜３５質量％であるアルカリ可溶性樹脂を少なくとも含有する感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】
未硬化部が水または非常に弱いアルカリ性の現像液で現像可能で、かつ基材密着性に優れた感光性樹脂組成物、ならびに該感光性樹脂組成物の原料となる側鎖ラジカル重合性基含有重合体を提供すること。
【解決手段】
（ａ）アクリロイルモルホリン、（ｂ）不飽和一塩基酸、（ｃ）分子内にアルキレンオキシド鎖を持つ（メタ）アクリレートを必須単量体として重合した共重合体に（ｄ）カルボキシル基と反応し得る官能基とラジカル重合性不飽和結合を同一分子中に持つ化合物を付加した側鎖ラジカル重合性官能基含有共重合体を用いること。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１−５、Ｌ^１−ＣＨ_２−、Ｙは特定の基。］ （もっと読む）

【課題】優れた露光マージン（ＥＬ）を有するレジストパターンの提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、式（ＩＩ）で表される塩と、樹脂とを含有するレジスト組成物。




［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、フッ素原子等を表す。Ｘ^１及びＸ^２は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。ｎは１又は２を表す。（Ｚ^１）^＋及び（Ｚ^２）^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ポリ（Ｎ−ビニル−２−ピロリドン）の安定化できるラジカルを形成し、薬物送達系ブロックポリマーを調製する。
【解決手段】ヒドロキシ末端を有するポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）を調整したのち、他のジブロックあるいはトリブロックコポリマーを調製する２段階の重合方法。
【効果】ブロックコポリマーは薬物送達のための担体として用いることができる。 （もっと読む）