１〜８のモル質量分布Ｍ_ｗ／Ｍ_ｎ、０．８５〜０．９４ｇ／ｃｍ^３の密度、１０ ０００〜４ ０００ ０００ｇ／ｍｏｌのモル質量Ｍ_ｎ、および５０％未満のＣＤＢＩを有し、短鎖分枝分布の個々のピークの最大の側鎖分枝がそれぞれの場合５ ＣＨ_３／１０００炭素原子を超える、エチレンとα−オレフィンのコポリマー、それらを製造するための方法、それらを製造するために適した触媒系、ならびにこれらのコポリマーが存在する繊維、成形品、フィルムまたはポリマー混合物。 （もっと読む）

【課題】溶融成形時の熱安定性が高く、ロングラン成形性に優れた溶融成形用ポリビニルアルコール系樹脂を提供すること。
【解決手段】ビニルエステル系モノマーと、一般式（１）で示される化合物との共重合体をケン化してなる。
【化１】


［Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して水素原子又はアルキル基を示し、Ｒ^４は単結合またはアルキル基を有していてもよい炭素数１〜３のアルキレン基を示し、Ｒ^５、Ｒ^６は、それぞれ独立して水素またはＲ^７−ＣＯ−（式中、Ｒ^７はアルキル基である）を示す］ （もっと読む）

【課題】現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定構造のノルボルナンラクトン構造をもつ繰り返し単位と特定の脂環炭化水素構造をもつ繰り返し単位とを有する酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】少なくとも２種の特定構造を有する繰り返し単位を含み、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂であって、該樹脂中の残存するモノマーの割合が１０質量％以下である樹脂、及び活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、さらにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、水素化フッ素化炭化水素を含有する希釈剤を含む新しい重合プロセス、およびそれらの新しい配列分布を有する新規なポリマーの製造への利用に関する。特に本発明は、新しい配列分布を有する、イソオレフィン、好ましくはイソブチレン、およびマルチオレフィン、好ましくは共役ジエン、さらに好ましくはイソプレンのコポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】多分散指数（ＰＤＩ）の低いポリマーを製造するためのフリーラジカル重合プロセスおよびこれによって得られるポリマーを提供する。
【解決手段】本発明に係るフリーラジカル重合プロセスは、窒素含有モノマーである少なくとも１種の反応性モノマーと、少なくとも１種の開始剤と、溶剤としての少なくとも１種のイオン液体とを重合させることにより、ＰＤＩが１.５未満と低いポリマーを得るものである。このフリーラジカル重合プロセスにおける反応時間は、僅か３時間以内である。 （もっと読む）

本発明は、水素化フッ素化炭素を含有する希釈剤を含む重合プロセスおよびその実質的に長鎖の分枝を含まない新規ポリマー製造への利用を提供する。本発明は、特に、イソオレフィン、好ましくはイソブチレン、およびマルチオレフィン、好ましくは共役ジエン、さらに好ましくはイソプレンの実質的に長鎖の分枝を含まないコポリマーを提供する。 （もっと読む）

【課題】
弾性率、剛性、接着性等の物性バランスに優れたポリプロピレン系共重合体を提供すること。
【解決手段】
下記の構造式（Ｉ）で表されるプロピレン単位９９．８〜９９．９９モル％、構造式（ＩＩ）で表される極性単位０．０１〜０．１モル％及び構造式（ＩＩＩ）で表される非極性単位０〜０．１モル％を含有し、その重量平均分子量Ｍｗが７０，０００〜１，０００，０００であることを特徴とする水酸基含有プロピレン共重合体。
【化１】
（もっと読む）

【課題】 従来よりも透光性および耐光性に優れ、かつ発光などによって生じる熱に対する耐性（耐熱性）に優れたＬＥＤ封止剤およびその封止剤で封止された発光ダイオードを提供し、さらには、上記特性に優れた新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 下記式


（Ｒ¹とＲ²は、それぞれ独立して、水素原子または置換基であり、ｎは正の整数を示す。）で示される（共）重合体と、重合性反応基を有する硬化成分を含むＬＥＤ封止剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターン形成において、表面ラフネス、ラインウイズスラフネスが改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び
（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型レジストであって、（Ｂ）成分の樹脂が、主鎖の少なくとも一方の末端にラクトン構造を有する基を有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーを製造するための水素化フッ素化炭素を用いた新しい重合系およびプロセスを提供する。
本発明は、重合条件下の反応槽における１以上の水素化フッ素化炭素（ＨＦＣ）を含む希釈剤の存在下、１以上のモノマー、１以上のルイス酸、および１以上の開始剤を含む重合プロセスに関する。 （もっと読む）

【課題】
硬化性フィルムにした際にタック性が無く、低誘電率、低誘電正接で、耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物、および該樹脂組成物を用いた硬化性フィルム、およびこれを硬化してなるフィルムを提供する。
【解決手段】
２官能性ポリフェニレンエーテルオリゴマーの末端をビニル基に変換したビニル化合物と重量平均分子量が10000以上の高分子量体を必須成分として含有する硬化性樹脂組成物および該樹脂組成物を用いた硬化性フィルム、およびこれを硬化してなるフィルム。
なし （もっと読む）

【課題】特に１９３ｎｍ波長の光で露光したときに優れた溶解性をレジスト被膜に与えるレジスト組成物、およびそのレジスト組成物を用いたコントラストに優れた微細パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】（ａ）酸解離性官能基含有ポリマー、（ｂ）光酸発生剤および（ｃ）溶解抑止剤からなり、該溶解抑止剤（ｃ）が、式（１）：
【化１】


（式中、Ｒｆ¹およびＲｆ²は同じかまたは異なり、エーテル結合を含んでいてもよい炭素数１〜１０の含フッ素アルキル基；ＸはＦまたはＣＦ₃；Ｙ¹はＯＨ基または酸で解離してＯＨ基に変化する酸解離性官能基）で表される部位を有する含フッ素ノルボルネン誘導体から選ばれる少なくとも１種の単量体（ｍ１）由来の構造単位を必ず含むポリマーであるレジスト組成物を用いて微細パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スポーツ装具、特にウィンタースポーツ装具の滑走特性を改善するためのポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、これを含む組成物、およびこの目的のためのそれらの使用に関する。
【解決手段】ポリクロロトリフルオロエチレンは特に、−７０℃〜２００℃（−９４°Ｆ〜３９２°Ｆ）の、好ましくは０〜１００℃（３２〜２１２°Ｆ）の流動点を有するように選択された分子量を有するポリクロロトリフルオロエチレンである。 （もっと読む）

【課題】成形性に優れ、且つ機械的強度と耐環境応力破壊性に特に優れ、外観に優れた成形体、とりわけブロー成形体を与えるエチレン系重合体を提供すること。
【解決手段】炭素原子数6〜10のα-オレフィンから導かれる構成単位を0.02〜0.50mol%含むエチレン系重合体であって、クロス分別（CFC）において、下記の(1)または(2)のいずれか一つ以上を満たすエチレン系重合体。
(1) CFCの全溶出量に対する80℃以下の溶出成分が5%以下である。
(2)下記の関係式(Eq-1)を満たす。


（Eq-1中、Sxは70〜85℃で溶出する成分に基づく全ピークの面積合計値であり、Stotalは0〜145℃で溶出する成分に基づく全ピークの面積合計値である。） （もっと読む）

本発明は、得られる硬化体の特性を改善することができる含フッ素ポリマー組成物を提供する。メチレン基含有含フッ素ポリマー（Ａ）及びヒドロシリル化反応触媒（Ｂ）からなる含フッ素ポリマー組成物であって、上記メチレン基含有含フッ素ポリマー（Ａ）は、メチレン基を有する繰り返し単位を主鎖中に有し、上記ヒドロシリル化反応触媒（Ｂ）の存在下にヒドロシリル化反応をするものであり、鎖の一端が炭素−炭素二重結合又はＳｉ−Ｈ基であり、鎖の他端がＳｉ−Ｈ基又は炭素−炭素二重結合であるものであることを特徴とする含フッ素ポリマー組成物である。 （もっと読む）

本発明は、重合系において、３個以上の炭素原子を有するオレフィンを、触媒化合物、活性化剤、場合によってはコモノマー、また場合によっては希釈剤または溶媒と、重合系の曇り点温度を超えるの温度で、また重合系の曇り点圧より１０ＭＰａより低くない圧で接触させることを含むオレフィンを重合する方法に関するものであり、前記重合系は、任意のコモノマーの存在、任意の希釈剤または溶媒の存在、ポリマー生成物を含み、３個以上の炭素原子を有するオレフィンが４０重量％以上で存在する。
本発明はまた、１０，０００モノマー単位当たり５を超える１，３−部位欠陥群（1,3-regio defect population）、７０℃以上の融点、０．９７以上のｇ’および１０，０００を超えるＭｗを有するプロピレンポリマーを含む本発明において製造されたポリマーに関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スピロ環状ケタール基を有するフォトレジスト用ポリマーおよびこれを含むフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】前記ポリマーおよびフォトレジスト組成物は、スピロ環状ケタール基が脱保護される反応の活性化エネルギーが低いため解像度および工程余裕度を改善でき、露光後べーク温度敏感度が低いため精密なパターンを具現できる。 （もっと読む）

【課題】破断強度、アイゾット衝撃強度，熱変形温度，長期耐熱における破断強度が高い成形体を形成しうるシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体（ＳＰＳ）を提供する。
【解決手段】スチレン系重合体を、押出機により造粒する際に、該重合体粉末に対して水又はアルコール類を供給し、脱揮処理して、該重合体中に残留する未反応モノマー等の揮発成分を除去することにより得られた、ラセミダイアッドで７５％以上のシンジオタクティシティを有する重量平均分子量１×１０⁴〜２×１０⁶のスチレン系重合体であって、該重合体を１，２，４−トリクロロベンゼンに溶解後、冷却して得られたゲルから塩化メチレンで抽出された抽出物の重量分率が１０重量％以下であることを特徴とするシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体及びこのＳＰＳからなる成形体である。 （もっと読む）