【課題】耐熱性、耐候性、溶融安定性、リサイクル性に優れるスチレン系樹脂の提供。
【解決手段】
（Ａ）下記式（１）で表されるイソプロペニル芳香族単位と、下記式（２）で表されるビニル芳香族単位とを含有する共重合体であって、イソプロペニル芳香族単位の含有量（ａ）が５〜７０（ｗｔ％）であり、共重合体のＺ平均分子量（Ｍｚ）と重量平均分子量（Ｍｗ）との比（Ｍｚ／Ｍｗ）が１．４〜３．０であるスチレン系共重合体と、（Ｂ）スチレン系単量体単位と共役ジエン系単量体単位とのブロック共重合からなるスチレン系−ジエン系ブロック共重合体を含有し、成分（Ｉ）と成分（II）の重量比（Ａ／Ｂ）がＡ／Ｂ＝９９／１〜５０／５０を満足する耐熱スチレン系樹脂組成物。
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【課題】 密着性能の高い硬化性樹脂並びに湿気硬化型接着剤組成物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で表されることを特徴とする分子内にヒドロキシル基を有するビニルシラン化合物（Ａ）を共重合した硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物。
【化１】


但し、Ｘはヒドロキシル基又は加水分解性基を、Ｒ¹ は炭素数１〜２０個の置換若しくは非置換の有機基を、Ｒ² は少なくともヒドロキシル基を含む分子量１００００以下の有機基を、ｎは０，１又は２を、それぞれ示す。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性に優れ、フィルム面内位相差量が小さく、フィルム面外位相差量の大きい液晶表示素子用光学補償フィルムを提供するものである。
【解決手段】 特定のオレフィン残基単位と特定のＮ−フェニル置換マレイミド残基単位からなり、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量５×１０^３以上５×１０^６以下である共重合体（ａ）４０〜９５重量％、及び、アクリロニトリル残基単位：スチレン残基単位＝２０：８０〜３５：６５（重量比）であり、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量５×１０^３以上５×１０^６以下であるアクリロニトリル−スチレン共重合体（ｂ）６０〜５重量％からなる負の複屈折性を示す光学異方性一軸延伸フィルム２枚を、一方のフィルム面内の遅相軸ともう一方のフィルム面内の進相軸により形成される狭角が０゜±１０゜の範囲内となるように積層してなる液晶表示素子用光学補償フィルム。 （もっと読む）

【課題】成形性が良く、光学特性に優れる光学用芳香族ビニル系樹脂組成物を提供。
【解決手段】全単量体を基準に、芳香族ビニル系単量体が３５〜６５重量％、メタクリル酸メチルが３５〜６５重量％の割合で、かつ両者の合計が８０重量％以上となる原料を用いて共重合されてなる共重合体であって、重量平均分子量が１０^４ないし１０⁶の範囲で、灰分０．３重量％以下でかつ残存する揮発分の合計量をＴ重量％、残存するメタクリル酸メチルと芳香族ビニルを両方含むオリゴマーの合計量をＰ重量％としたときに、Ｔ≦０．５、０．０５≦Ｐ≦１かつ０．１≦（Ｔ＋Ｐ）≦１であり、残存するメタクリル酸メチル成分のみからなるオリゴマーをＭ重量％、芳香族ビニル成分のみからなるオリゴマーをＳ重量％としたときにＭ＋Ｓ≦０．２重量％であり、ビカット軟化点が９５〜１１０℃である光学特性に優れる芳香族ビニル系樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明の環状オレフィン系付加共重合体の製造方法は、全単量体中に、アルキル置換基を有するビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン化合物を２０〜８０モル％と、特定の環状オレフィン系化合物とを含有する単量体組成物を、パラジウム系触媒を用いて付加共重合することを特徴としている。
【効果】本発明によれば、立体異性体が共存したアルキル置換基を有するビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンを単量体として用いた場合にも、高い重合転化率まで容易に付加共重合が可能で、分子量調節剤などにより分子量を制御することもできる環状オレフィン系付加共重合体の製造方法を提供することができる。また、本発明に係る付加共重合体は、脂環式炭化水素溶媒や芳香族炭化水素溶媒に溶解し、溶液流延法による成形加工が可能であって、シート、フィルムなどの形態で透明性を有し、吸湿性が低く、しかも柔軟性、靭性をも有する。 （もっと読む）

【課題】 通常の脂環式構造重合体の持つ良好な透明性等の光学特性、耐熱性、耐薬品性、電気特性および低吸水性等を保持しながら、優れた低複屈折性を有する脂環式構造重合体、およびこれを用いた光学材料を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）または式（２）で表される重合単位を少なくとも１種含む脂環式構造重合体である。
式中ｎは０〜２であり、Ｘは−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＨ_２−ＣＨ_２−を表す。Ｒ_１〜Ｒ_５は水素、ハロゲン元素、または一価の置換基（ただし、芳香環（複素芳香環を含む）又は脂環を有する基を除く。）を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
【化１】
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本発明はスチレン系重合体製造用触媒およびこれを利用したスチレン系重合体の製造方法に関し、とくにメタロセン触媒および助触媒がシンジオタクチックスチレン系重合体の担体に担持された担持触媒を含む触媒下でスチレン系モノマーを重合することによってゲル発生問題を根本的に遮断して反応機内部に高分子が付着する現象を防止することができ、触媒の重合活性を維持して高い反応転換率を有するだけでなく、同時に反応運転および製品生産が容易で、最終製品の粒度を調節することができるスチレン系重合体製造用触媒、およびこれを利用したスチレン系重合体の製造方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】 インデン類と、ヒドロキシ基もしくはエポキシ基を有すると共に重合性２重結合を有する化合物とを共重合してなる高分子化合物を含有することを特徴とする下層膜形成材料。
【効果】 本発明の下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることによって、２００ｎｍ以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できるだけの吸光係数を有し、基板加工に用いられるＣＦ₄／ＣＨＦ₃系ガス及びＣｌ₂／ＢＣｌ₃系ガスエッチングの速度も通常のｍ−クレゾールノボラック樹脂よりも遅く、高いエッチング耐性を有する。また、パターニング後のレジスト形状も良好である。 （もっと読む）

【課題】 反応初期段階での反応の効率を改善したポリオレフィンを変性する
製造方法を提供する。
【解決手段】 有機過酸化物（Ｃ）の存在下、α−オレフィンの単独重合体及
び／又は共重合体であるポリ−α−オレフィン（Ａ）に不飽和カルボン酸及び
／又はその誘導体（Ｂ）を付加する、変性ポリ−α−オレフィン樹脂組成物（
Ｆ）の製造方法であって、
有機過酸化物（Ｃ）の存在下、密度が０．８５ｇ／ｃｍ３以上０．８９ｇ／
ｃｍ３未満であるポリ−α−オレフィン（Ａ）に不飽和カルボン酸及び／又は
その誘導体（Ｂ）付加して相溶化剤（ＤまたはＦ）を予め製造しておき、
密度が０．８５ｇ／ｃｍ３以上０．８９ｇ／ｃｍ３未満であるポリ−α−オ
レフィン（Ａ）と前記相溶化剤（ＤまたはＦ）とを混合し、
有機過酸化物（Ｃ）の存在下、この混合物に不飽和カルボン酸及び／又はそ
の誘導体（Ｂ）付加させることを特徴とする変性ポリ−α−オレフィン樹脂組
成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性が高く、現像時のディフェクトが少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のラクトン骨格を有する構成単位（Ａ）と、特定の酸脱離性基を有する構成単位（Ｂ）と、特定の親水性基を有する脂環構造を含む構成単位（Ｃ）を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式（１−１）〜（１−４）からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。
【化１】
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【課題】 ＬＥＲの低減された高解像性のパターンを形成できるポジ型レジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物からなる酸発生剤、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有する（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）と、下記一般式（ａ２−１）［式中、Ｒは水素原子又は低級アルキル基であり；Ａは２価の有機基であり；Ｂは１価の有機基であり；Ｘは硫黄原子又はヨウ素原子であり；ｎは１又は２であり；Ｙは少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい直鎖、分岐又は環状のアルキル基である。］で表される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族多環式基を含む（α−低級アルキル）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを有する高分子化合物。
【化１】
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本発明は、１種以上のエチレン性不飽和化合物のラジカル重合法に関し、これは、エチレン性不飽和化合物の全質量に対して、少なくとも８０．０質量％のエチレン性不飽和化合物を前装入し、少なくとも１種のラジカル重合用の重合開始剤を少なくとも２段工程で添加し、その際、第２工程で第１工程より多くの重合開始剤を添加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来のポリメタクリレート系粘度指数向上剤よりも、粘度指数向上効果においても、また剪断安定性においても優れた粘度指数向上剤を提供する。
【解決手段】 ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーによって測定されるＺ平均分子量が１０，０００〜１，０００，０００であり、炭素数１〜３０のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ）を必須構成単量体とする重合体（Ａ）からなる粘度指数向上剤、および該粘度指数向上剤と基油を含有してなる潤滑油組成物である。 （もっと読む）

【課題】
高分子量陽イオン性ポリ（メタ）アクリルアミド／第四アンモニウム塩コポリマーの製造方法。
【解決手段】
約５０％以上のモノマーを重合した後、連鎖移動剤を供給しないで連続的に架橋剤を反応混合物に添加する。こうして生成した陽イオン性コポリマーは改良されたフロック形成性を示し、含油スラッジなどを含む水系で凝集剤及び脱水助剤として有用である。 （もっと読む）

含フッ素エチレン性単量体に由来する構造単位および／または重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得るフッ素原子を含んでいてもよい単量体に由来する構造単位を有し、かつ重合体中に酸で反応する酸反応性基Ｙ^１または酸反応性基Ｙ^１に変換可能な基Ｙ^２を有する含フッ素重合体を得るに当たり、該含フッ素エチレン性単量体および／または該重合体主鎖に脂肪族環構造を与え得る単量体を式（１）：


（式中、Ｒ^５０、Ｒ^５１は同じかまたは異なり炭素数１〜３０のエーテル結合を含んでも良い炭化水素基（ただし、結合末端の原子は酸素原子ではない）、ｐ１、ｐ２は同じかまたは異なる０または１、ｐ３は１または２）で示される有機パーオキサイドを用いてラジカル重合することを特徴とする真空紫外光の透明性に優れたレジスト用含フッ素重合体の製造方法および得られた重合体を含むフォトレジスト組成物を提供する。該含フッ素重合体は、真空紫外領域における透明性に優れ、フォトレジスト用として、特にＦ２レジスト用として超微細パターンを形成することができる。
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【課題】
ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適し、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にラインエッジラフネスに優れる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】
中心核に結合した３個以上の分岐を有し、少なくとも１個の分岐が以下の（１）〜（４）および（９）の繰返し単位からなる群から選ばれた少なくとも１種の繰返し単位を含有し、重量平均分子量が１，０００〜１００，０００であることを特徴とする星型ポリマー。









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【課題】化粧料配合原料として有用な新規共重合体及びこれを配合する化粧料を提供すること。
【解決手段】ヒドロキシエチルアクリルアミドと、下記構造式（Ｉ）で示される不飽和単量体とを共重合して得られることを特徴とする共重合体及びこれを含有する化粧料である。


（Ｉ）
式中、Ｒ¹は水素原子またはメチル基、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１から１２の直鎖若しくは分枝アルキル基又はフェニル基を示す。 （もっと読む）

【課題】触媒として錫化合物を用いずに、高架橋密度を与える光硬化性オリゴマー鎖末端（メタ）アクリレートを効率よく容易に製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリル酸低級アルキルエステルと、式(I):
【化１】


（式中、Ａはオリゴマー残基、ｎは１または２を示す）
で表されるオリゴマー鎖末端アルコールとを、エステル交換触媒の存在下でエステル交換反応させた後、得られた反応混合物を親水性溶媒と親油性溶媒との混合溶媒の存在下で固体吸着剤で処理することを特徴とする式(II):
【化２】


（式中、Ａおよびｎは前記と同じ。Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を示す）
で表される光硬化性オリゴマー鎖末端（メタ）アクリレートの製造法。 （もっと読む）

【課題】一般の工業排水処理場や公共下水処理場の汚泥用凝集剤として多用されている消石灰懸濁液の汚泥凝集効果に影響することなく、消石灰懸濁液の調製槽、移送配管、遠心脱水機内、遠心脱水機フィルターおよび排水配管内等への炭酸カルシウムスケールの付着、蓄積を防止するスケール抑制剤およびスケール抑制方法を提供することを目的とする。
【解決手段】消石灰懸濁液を用いた汚泥凝集処理工程において、該消石灰懸濁液による炭酸カルシウムスケールの抑制剤であって、アクリル酸と２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸を構成単位として含む共重合体および／又はその水溶性塩を含有することを特徴とする消石灰懸濁液による炭酸カルシウムスケールの抑制剤、および汚泥凝集処理工程に本発明の共重合体を添加して、当該工程に用いる消石灰懸濁液に由来する炭酸カルシウムスケールの発生および付着を抑制する方法。 （もっと読む）

本発明にかかる一実施態様は、ノルボルネン型ポリマー及びそれから形成される感光性絶縁性樹脂組成物に関する。他の実施態様は、該組成物から形成されるフィルムに関し、および、そのフィルムを含む電気、電子およびオプトエレクトロデバイス等の装置に関する。 （もっと読む）