【課題】チタンブラックの分散性が高く、しかもチタンブラックが沈降せず保存安定性の高い分散組成物を提供し、更に、基板への塗布性が良好で均一な膜厚が得られ、パターン成形したときには未露光部における残渣が抑制され、露光・現像でのステップが小さく、パターン形状が良好な重合性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）チタンブラック、（Ｂ）グラフト共重合体、及び（Ｃ）溶媒を含む分散組成物である。 （もっと読む）

【課題】スピンコーティングやスプレーコーティングのような高速で高シェアのかかるようなコーティング剤の塗装を行う場合や、極性の高いコーティング剤の塗装を行う場合でも、極めて優れた表面調整効果を示し、さらに十分な塗装膜への上塗り適性をコーティング剤に持たせることができるコーティング剤用表面調整剤を提供する。
【解決手段】コーティング剤用表面調整剤は、フッ素含有(メタ)アクリレートモノマー(A)と、アルキル(メタ)アクリレートモノマー(B)と、モノ−又はポリ−オキシアルキレン基の片末端が不活性基で封鎖されたモノ−又はポリ−オキシアルキレニル(メタ)アクリレートモノマー(C)とが、夫々重量部の比で４０以上６０未満と０．１以上３未満と３１以上５９．９未満、又は６６以上８５未満と３以上２０未満と０．１以上３１未満として、共重合しており、その重量平均分子量を３０００〜５００００とする共重合物を、含有している。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造工程、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、現像欠陥性能とスカム性能に優れたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】極性基を有する特定の繰り返し単位及びラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び溶剤を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】極性オレフィンブロックと無極性オレフィン・ブロックとを含むコポリマー(極性モノマー含有量は０．１モル％〜９９．９モル％)。
【解決手段】第ＶＩＩＩ〜Ｘ族に属する金属を含む有機金属錯体からなる単一成分の触媒系を使用する、オレフィンブロックとビニル極性モノマーブロックとを有するコポリマーを得る方法。この有機金属錯体は共触媒を加えずに媒体中で活性であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】環状エーテル、特にエポキシド基またはオキセタン基と結合反応するのに適した官能基を含むポリアクリレートを熱架橋するための架橋剤−促進剤系を提供すること。
【解決手段】この架橋剤−促進剤系は、エポキシド基またはオキセタン基を含有する少なくとも１つの物質（架橋剤）と、ポリアクリレートの溶融温度より低い温度で、結合反応に促進的に作用する少なくとも１つの物質（促進剤）とを含む。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、側鎖にノルボルニルラクトン構造を有するエステル基を有する（メタ）アクリレート単位（ａ０）、および酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 硬度が高く、且つ、よりカールしにくい硬化塗膜が得られるコーティング用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び、硬度が高く、且つ、よりカールしにくい硬化塗膜を有するフィルムを提供すること。
【解決手段】 側鎖に（メタ）アクリロイル基を有し、且つ、（メタ）アクリロイル当量が２００〜６００であるアクリル系重合体（Ａ）とコロイダルシリカ（Ｂ）とを含有することを特徴とするコーティング用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、前記コーティング用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を硬化させて得られる硬化層を有することを特徴とするフィルム基材。 （もっと読む）

【課題】金属表面等の極性の高い表面に対する密着性、疎水性および耐熱性に優れ、レジスト用の溶剤に対する溶解性が良好な共重合体および該共重合体を含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】脂環式骨格を有する単量体と、ラクトン骨格を有する単量体と、脂環式骨格を有する単量体よりも高い極性を持ち、かつラクトン骨格を有する単量体よりも低い極性を持つ他のビニル系単量体とを重合して得られる共重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】種々素材に対し良好なヌレ性、相溶性、接着性を有するアクリル共重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】下記構造式で示される


（Ｚは、フェニル基、ベンジル基、ペンタフルオロベンジル基、ペンタフルオロフェニル基のいずれか、Ｒ_１、および、Ｒ_２は、Ｈ、ニトリル基、炭素原子数１〜４のアルキル基、Ｒ_３は、Ｈ、炭素原子数１〜４個のアルキル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、アミノエチル基、アミノプロピル基、フェニル基等。）ジチオエステル化合物を使用した塊状重合方法。 （もっと読む）

【課題】光スイッチ用又は光変調用の新規な光学素子を提供する。また、本発明の光学素子は、高分子化合物の側鎖の構造を選択することにより、分子認識、発光性、電荷輸送性、光学特性、液晶性等の機能を持たせることができる。
【解決手段】下記式(I)で表される繰り返し単位等を有する光学活性な高分子化合物を用いてなる光スイッチ用又は光変調用の光学素子。
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【課題】硬度、破断強度、破断伸び、引裂き強さ等の基本物性を維持し、消費電力の低減を十分に図ることができるコンベヤベルト用ゴム組成物およびコンベヤベルトの提供。
【解決手段】ジエン系ゴム、カーボンブラックおよびイオウ系加硫剤を含有するコンベヤベルト用ゴム組成物であって、
前記カーボンブラックの窒素吸着比表面積が、２５〜４５ｍ²／ｇであり、
前記カーボンブラックのジブチルフタレート吸油量が、１３０〜１６５ｃｍ³／１００ｇであり、
前記カーボンブラックの含有量が、前記ジエン系ゴム１００質量部に対して８〜５０質量部であるコンベヤベルト用ゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】高い誘電率、架橋性官能基を備えた溶液法が可能なポリマー類、ならびにかかるポリマーにより形成された、一定の厚さ、高い誘電率、および高いキャパシタンスを有するゲート誘電体層を含む薄膜トランジスタを提供することにある。
【解決手段】本発明は、ゲート誘電体層を含む薄膜トランジスタであって、該誘電体層は、ポリ（ヒドロキシアルキルアクリレート−ｃｏ−アクリロニトリル）系のポリマー、例えばポリ（２−ヒドロキシエチルアクリレート−ｃｏ−メタアクリロニトリル）コポリマーなどを含む。 （もっと読む）

特定のアリルグリシジルエーテルもしくは特定のアリルハロシランもしくはそれらの組合せと反応したリビングポリマーまたは擬似リビングポリマーである末端官能化ポリマーおよび末端官能化ポリマーの製造方法。末端官能化ポリマーを含むゴム変性ポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストのはく離性に優れ、密着性及び解像度を向上させることが可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物であって、前記（Ａ）バインダーポリマーが、特定の化学式で表される重合性単量体を含み、前記（Ｂ）エチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する光重合性化合物が、特定の化学式で表される化合物を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、水媒体中で１０〜９０℃の下限臨界共溶温度を示す１つ以上のポリマーである表面処理界面活性剤の存在下で行われる乳化法、拡散法及び蒸着法から選択される方法で得られるポリマー粒子を提供する。前記ポリマーは、重合可能なアルキレングリコールアクリレートモノマーと重合可能なアルキレングリコールメタクリレートモノマーから選択される１つ以上のモノマーの重合生成物である。前記ポリマー粒子は、香味放出用途、芳香放出用途及び生物医学的用途等の放出制御用途において使用することができる。また、本発明は、前記ポリマー粒子を含む細胞支持体マトリックスを提供する。
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【課題】過酷な使用条件を課されるタイヤのサイドウォール部に採用した場合に、良好な耐久性を保持しつつ、低ヒステリシスロス化を実現して転がり抵抗を有効に低減できるタイヤ用サイドウォールゴム組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のタイヤ用サイドウォールゴム組成物は、ブタジエン系重合体が、（Ａ）成分：周期律表の原子番号５７〜７１の希土類元素含有物、またはこれらの化合物とルイス塩基との反応物を含む触媒系の存在下、少なくとも１，３−ブタジエンを含む単量体を重合することにより製造されてなり、該ブタジエン系重合体が変性されてなる変性ブタジエン系重合体を含むゴム成分に、カーボンブラックを配合してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】充分な低発熱性を実現するだけでなく、従来よりさらに耐亀裂成長性にも優れたゴム組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、天然ゴムラテックス中の総窒素含有量が０．１質量％を超えて０．４質量％以下にある天然ゴム２０〜８０質量％と、シス含量が９０％以上であるブタジエン系重合体とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。
【解決手段】式（XX)の構造単位を含み、酸に不安定な基を有する樹脂（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）及び架橋剤（Ｃ）を含む第１のレジスト組成物を基体上に塗布・乾燥し、これをプリベークし、露光処理し、ポストエクスポージャーベークし、現像して第１のレジストパターンを得、これをハードベークし、この上に第２のレジスト組成物を塗布し、乾燥し、これをプリベークし、露光処理し、ポストエクスポージャーベークし、現像して第２のレジストパターンを得る工程を含むレジスト処理方法。
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【課題】膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、液浸露光用として好適なレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および含フッ素化合物成分（Ｆ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる液浸露光用レジスト組成物であって、前記有機溶剤（Ｓ）は、沸点１５０℃以上のアルコール系有機溶剤（Ｓ１）と、沸点１５０℃未満のアルコール系有機溶剤（Ｓ２）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】基板表面に親水性に優れ、かつ、より良好な耐水性及び耐久性を有する親水性部材を提供し得るポリマー組成物及びそれを含有する親水性組成物、親水性に優れ、かつ、より良好な耐水性及び耐久性を有する親水性膜を基板上に形成した親水性部材を提供すること。
【解決手段】少なくとも１種の親水性基を含む親水性ポリマー及びｌｏｇＰ値が−０．３０〜３．００の疎水性成分を０〜４．０質量％含むことを特徴とするポリマー組成物。 （もっと読む）