【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｘは単結合又はメチレン基を示す。ｍは１又は２である。なお、ｍ個の水酸基は二級炭素原子に結合する。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性を有し、かつ良好な平滑性を併せ持ち、更に該透明電極に積層した有機ＥＬ素子の発光均一性の高い、安定性の優れた透明電極及び有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明基材上に透明導電層を有する透明電極であって、該透明導電層は導電性繊維と導電性材料を含み構成されており、かつ該導電性材料は、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０３〜１．３０のポリアニオンを少なくとも一種含有することを特徴とする透明電極及び有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】高い重合反応性を有するフルオロスルホニル基含有化合物の製造方法の提供。
【解決手段】例えば下記化合物（３−１０）をフッ素化した後、液相熱分解反応を行うことにより下記化合物（５−１０）の製造方法。


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【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。ｍは１又は２である。なお、ｍ個の水酸基は三級炭素原子に結合する。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりも露光ラチチュード、ＬＷＲ、パターン倒れ性能に優れた感光性組成物を提供することにある。
【解決手段】 第一のポリマー及び第二のポリマーを含む２種以上のポリマーと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物であって、該レジスト組成物を用いて形成される乾燥塗膜における少なくとも第一のポリマー及び第二のポリマーの配合比が、レジスト膜の空気界面から支持体までの深さ方向に連続的に変化する傾斜型分布を有し、且つ、レジスト膜の上部における第一のポリマーの配合比が第二のポリマーの配合比より高く、レジスト膜の下部における第二のポリマーの配合比が第一のポリマーの配合比より高いことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】エチレン又はα−オレフィンの多段階合成を通じて、多峰の分子量分布を有するエチレン共重合体を製造して物性及び加工性が同時に改善されるエチレン共重合体及びこの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）一つ以上の反応器の中で、下記化学式１の遷移金属触媒を含む触媒組成物の存在下において、エチレン及び一つ以上のＣ３−Ｃ１８のα−オレフィン共単量体を重合させて第１共重合体を製造する段階；及び（ｂ）前記（ａ）段階で製造された第１共重合体を前記（ａ）段階の触媒組成物と同一な触媒組成物の存在下において、前記（ａ）段階の反応温度より高い温度で前記エチレン又はエチレン及び一つ以上のＣ３−Ｃ１８のα−オレフィンを含有する一つ以上の他の反応器の中を通過させることによってエチレン及びＣ３−Ｃ１８のα−オレフィン共重合体組成物を含む高温の重合体を製造する段階；とを含むエチレン共重合体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】非混和性である２つのポリマーを同じ組成物中で使用しても、相分離、又はデカンテーション、及び一般的に不均質な組成物を生成させない組成物、特に化粧品用組成物を提供する。
【解決手段】２０℃以下のＴｇを有するブロックに、次の式(Ｉ)：


[上式中：Ｚは、好ましくはＣＯＯ又はＣＯＮＨであり、Ｒ２は二価のＣ１-Ｃ３０基であり、ｎは３〜３００を含む整数であり、Ｒ３は水素原子又はＣ１-Ｃ３０炭素ベース基である]の少なくとも一のモノマーを含有するブロックポリマー。
【効果】化粧品的に許容可能な媒体に、前記ブロックポリマーを含有する化粧品用組成物、及び該組成物を使用し、ケラチン物質をトリートメントする良好な付着性、良好な保持力を発現。 （もっと読む）

接着剤組成物はポリファルネセン及び粘着付与剤を含む。ポリファルネセンは、ファルネセン（例えば、α-ファルネセン又はβ-ファルネセン）から誘導されるファルネセンホモポリマーでも、ファルネセン及び少なくとも1種のビニルモノマーから誘導されるファルネセン共重合体でもよい。いくつかの実施態様において、少なくとも1種のビニルモノマーは、エチレン、スチレンなどのα-オレフィン、又は置換もしくは非置換のビニルハライド、ビニルエーテル、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリルアミドもしくはメタクリルアミド、又はそれらの組み合わせである。本明細書に開示される組成物は、ホットメルト接着剤、感圧接着剤などとして使用できる。 （もっと読む）

【課題】感度、低現像欠陥、そして露光量依存性（ＥＬ）と、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、形状、マスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）性能、低現像欠陥、更に解像力、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有する繰り返し単位と、ヒドロキシスチレン由来の繰り返し単位と、酸分解性基を有するスチレン由来の繰り返し単位とを少なくとも含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物並びにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】優れたイオン伝導性を有する含フッ素共重合体を提供し、電気化学的にも熱的にも安定であり、加工性に優れた固体電解質を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（ａ−１）および繰り返し単位（ａ−２）を少なくとも含む含フッ素重合体。


式中、Ｒ¹はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、ＱおよびＷは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した繰り返し単位を表す。Ｍ⁺は、水素カチオン、金属イオンまたは有機カチオンを表す。 （もっと読む）

本発明の態様は、量子ドット、複数の量子ドットなどを製造する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で、透明性、加工性、耐熱性、着色抵抗性などに優れる光学部品を提供する。
【解決手段】下記一般式で表される繰り返し単位を有する熱可塑性樹脂を含む光学部品。


［Ｒは水素原子、アルキル基、もしくはアリール基；Ｗは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、−Ｓ−から選ばれる連結基；Ｌは−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、アリーレン基、もしくはこれらの組み合わせからなる連結基；Ａ¹は酸素原子、硫黄原子等；ｍ、ｎは０もしくは１を表す。］ （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微粒子を均一かつ安定的に分散させ、かつ分散時の微粒子の平均粒径を小さく保つことができるナノ微粒子複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】工程１．非水媒体中に、分散安定化剤として下記一般式（Ｉ）で表される窒素含有モノマーと、ポリマー鎖及びその末端にエチレン性不飽和二重結合を有する基からなる重合性オリゴマーとを共重合成分として含有するグラフト共重合体であり、さらに前記窒素含有モノマーが有するアミノ基と下記一般式（ＩＩ）及び／又は（ＩＩＩ）で表される重合性基を有する有機酸化合物とが塩を形成したグラフト共重合体を溶解させた分散剤溶液に、微粒子を添加してナノ微粒子分散体を形成する分散工程、工程２．前記グラフト共重合体を架橋させる架橋工程
（Ｉ）：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^１）ＣＯＯＡＮ（Ｒ^２）Ｒ^３
（ＩＩ）：（Ｒ^４）（Ｒ^４’）ＰＯ（ＯＨ）
（ＩＩＩ）：Ｒ^５Ｓ（＝Ｏ）_２ＯＨ （もっと読む）

【課題】本発明は、フィルムに成形した場合、高い透明性を保持しつつ、さらに金属との密着性に優れる環状オレフィン樹脂およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による重量平均分子量〔Ｍｗ〕が、ポリスチレン換算で５万〜２０万であり、−ＣＯＯＨ基を１つ以上有する構造単位を含有することを特徴とする環状オレフィン樹脂。 （もっと読む）

【課題】良好なパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型フォトレジスト組成物を与える酸発生剤を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数５〜１０のアリール基等を表す。Ｗ^１は、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−等を表す。Ｑ^１及びＱ^２は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を表す。Ａは、式（Ｉ−１）で表される基を表す。Ａ^１は、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−を表す。］ （もっと読む）

【課題】トリシクロデカン骨格を有し、光学特性などに優れた樹脂及びそれを用いる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示される構成単位を含む樹脂。


（式（１）中、Ｙは、独立して炭素数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子、エステル基又は水酸基を示す。ｍは０〜１５の整数を示す。Ｘは式（２）で表される基を示す。） （もっと読む）

ファルネセン共重合体は、ファルネセン（例えば、α-ファルネセン又はβ-ファルネセン）から誘導される単位及び少なくとも1種のビニルモノマーから誘導される単位を含む。ファルネセン共重合体は、触媒の存在下でファルネセンと少なくとも1種のビニルモノマーとを共重合させて調製できる。いくつかの実施態様において、ファルネセンは微生物を利用して糖から調製される。他の実施態様において、少なくとも1種のビニルモノマーは、エチレン、α-オレフィン、又は置換もしくは非置換のビニルハライド、ビニルエーテル、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリルアミドもしくはメタクリルアミド、又はその組み合わせである。 （もっと読む）

【課題】表面改質剤、該表面改質剤により改質された被改質体、該表面改質剤により改質されたナノ粒子の分散液、及び該表面改質剤から形成されるミセルの疎水性コアを反応場とするナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】表面改質剤は、一般式（Ｉ）で表される基を有する重合性モノマーと、一般式（ＩＩ）で表される繰り返し構造を有する重合性モノマーと、のグラフト共重合体からなる。


（式中、Ｒ^ａは、炭素数２〜７のアルキレン基を表し、Ｒ^ｂは、炭素数２〜５のアルキレン基を表し、ｎは、５〜２０００の任意の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 ガス放出の少ないフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】 フォトレジスト組成物中に用いるポリマーは、以下の化学式を有する繰り返し単位を含み、
【化１】


式中、Ｚはポリマー骨格の繰り返し単位を表し、Ｘは、アルキレン、アリーレン、アラアルキレン、カルボニル、カルボキシル、カルボキシアルキレン、オキシ、オキシアルキレン、及びこれらの組合せから成る群から選択される連結基であり、Ｒは、水素、アルキル、アリール、及びシクロアルキル基から成る群から選択され、但し、ＸとＲは同じ環システムの部分ではない。また、フォトレジスト組成物のレリーフ画像をパターン化するためのプロセスが開示され、ここで該フォトレジスト組成物のガス放出速度は６．５Ｅ＋１４分子／ｃｍ^２／ｓ未満である。 （もっと読む）

【課題】膜厚の均一な塗布膜を形成可能な感光性樹脂組成物及びカバーフィルム剥離時の不良の発生が少ない感光性樹脂転写材料、これらを用いたフォトスペーサー及びその製造方法、並びに、表示ムラを防止して高画質画像の表示を可能とする表示装置用基板及びこれを用いた表示装置の提供。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される繰り返し単位を含む含フッ素化合物を含有する感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いて形成される感光性樹脂転写材料、これらを用いたフォトスペーサー及びその製造方法、並びに、このフォトスペーサーを備える表示装置用基板及びこれを用いた表示装置。
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