【課題】透明性に優れた弾性ポリプロピレンを提供する。
【解決手段】メタロセン化合物（Ａ）、活性化化合物（Ｂ）および所望により有機アルミニウム化合物（Ｃ）を含むメタロセン触媒（Ｉ）、該メタロセン触媒（Ｉ）を微粒子担体（Ｄ）に担持させた担持型メタロセン触媒（II）、または該担持型メタロセン触媒（II）に有機アルミニウム化合物（Ｅ）を添加して得られた担持型メタロセン触媒（III）を用いて得られるポリプロピレンであり、核磁気共鳴スペクトルによる（１）アイソタクチックペンタッド分率（ｍｍｍｍ）が０．１５０〜０．７４９、（２）２，１−挿入反応に起因する異種結合が０．１１〜２０ｍｏｌ％、（３）１，３−挿入反応に起因する異種結合が０〜１０ｍｏｌ％であり、そして（４）融点（Ｔｍ）が５０〜１６０℃であるように弾性ポリプロピレンを構成する。 （もっと読む）

【課題】５−ヒドロキシメチルフルフラール（ＨＭＦ）を原料としたビニル系のバイオマスベースポリマーを提供する。
【解決手段】本発明は、下記の一般式（１）に示される高分子化合物を提要する。
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本発明は、モノマー（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の重合によって得られるコポリマーに関し、ここで、（Ａ）は式（Ｉ）で表されるモノマーであり、
【化１】


（式中、Ａは、Ｃ_２〜Ｃ_４アルキレン、およびＢは、Ａとは異なるＣ_２〜Ｃ_４アルキレン、Ｒは、水素またはメチルを示し、ｍは、１〜５００の数であり、ｎは、１〜５００の数であり、和ｍ＋ｎは、２〜１０００に等しい。）、（Ｂ）は、式（ＩＩ）で表されるモノマーであり、
【化２】


（式中、Ｄは、Ｃ_３アルキレン、およびＲは、水素またはメチルを示し、ｏは、２〜５００の数である。）、（Ｃ）は芳香族基を含むエチレン性不飽和モノマーであり、（Ｄ）はアルキル残基を含むエチレン性不飽和モノマーである。
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【課題】帯電防止効果に優れたものとする。
【解決手段】芳香族環を有する熱可塑性樹脂からなる内層部２の表層にのみ、スルホン酸塩基を導入し、表層部３を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造適性、耐久性に優れ、かつ基板との密着性に優れ、さらに光学用途に適した、ナノメートルレベルで構造制御された高分子超薄膜を提供することを目的とする。
【解決手段】露光によりラジカルを発生しうる基板表面とラジカル重合性基を有する高分子とが直接結合して、前記基板表面上に形成される高分子超薄膜であって、膜厚が１〜１０ｎｍである高分子超薄膜。 （もっと読む）

【課題】光線透過率と屈折率が高く、耐熱性が改善された有機無機複合材料とその製造方法および該有機無機複合材料を用いた光学部品を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）または一般式（２）で表される単位構造を少なくとも一つ有している熱可塑剤樹脂と、無機微粒子とを含有していることを特徴とする有機無機複合材料。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた透明硬化樹脂パターン及び塗膜を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アリル基及びメタアリル基からなる群から選ばれる１以上の基を有する化合物（Ａ）、２以上のメルカプト基を有する化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）並びにアルカリ可溶性樹脂（Ｅ）を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】黒色微粒成分が多く含まれる配合系に於いても硬化体肌面に発生する黒ずみを抑制できる水硬性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される単量体由来の構成単位を７０重量％以上含む構成単位からなる重合体（Ａ）、ナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物（Ｂ）、水硬性粉体（Ｃ）、黒色微粉末を含む粉体（Ｘ）、細骨材、粗骨材、及び水を含有し、水硬性粉体（Ｃ）と黒色微粉末を含む粉体（Ｘ）との比率が、（Ｃ）／（Ｘ）＝９５／５〜２０／８０（体積比）であり、水硬性粉体（Ｃ）と黒色微粉末を含む粉体（Ｘ）の合計１００重量部に対する重合体（Ａ）の含有量が０．０２〜０．３重量部である、水硬性組成物。
Ｈ₂Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＨ （１） （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。
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【課題】重合時にゲル化しにくく、高濃度の共重合体組成物を得ることができ、優れた耐熱分解性を有する環構造含有共重合体を提供する。
【解決手段】１，６−ジエン−２−カルボン酸エステルモノマー及び／又は１，５−ジエン−２−カルボン酸エステルモノマーに由来する環構造を含む構成単位を有する環構造含有共重合体。 （もっと読む）

【課題】アクリル系接着剤組成物の高温高湿下における放置後の接着強度の低下を抑えることができるアクリル系共重合体を提供する。
【解決手段】オキセタニル基含有化合物が、エステル結合を介してポリマー鎖に結合していることを特徴とするアクリル系共重合体。 （もっと読む）

【課題】水溶性及び揮発性が高い界面活性剤を使用して高分子量の含フッ素ポリマーを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される１種又は２種以上のフルオロエーテルカルボン酸の存在下に含フッ素ポリマーを製造する重合工程を有することを特徴とする含フッ素ポリマーの製造方法である。
一般式（Ｉ）：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＸ （Ｉ）
一般式（ＩＩ）：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＨＦＣＦ_２ＣＯＯＸ （ＩＩ）
一般式（ＩＩＩ）：
ＣＦ_３−（ＣＦ_２）_ｍ−Ｏ−（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）_ｎ−ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＯＯＸ （ＩＩＩ）
（式中、ｍは０〜４の整数、ｎは０〜２の整数、Ｘは水素原子、アンモニウム基又はアルカリ金属原子を表す。） （もっと読む）

【課題】現在解決が求められている課題の一つにラインエッジラフネスがあるが、酸発生剤や塩基性化合物による解決は、解像性との間でトレードオフを起こす。本発明は、高い解像性を持つ酸不安定基により保護されたヒドロキシスチレン等をベースポリマーとするレジスト組成物について、ラインエッジラフネスが抑制され、６５ｎｍ以下のパターンルールによるレジストパターンの形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】化学増幅型レジスト組成物のベースポリマーとして水酸基を酸分解性基で保護されたスチレン単位と、インデン単位やアセナフタレン単位を有するポリマーのうち、重量平均分子量が４０００から７０００、特に４５００から５５００であるポリマーを用いたレジスト組成物を用い、最少ライン幅が６５ｎｍ以下のパターンを形成することを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、
前記レジスト膜を露光する工程、前記レジスト膜の露光後加熱を８０℃以下で行う工程、
および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記ポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、該基材成分（Ａ）を構成する全構成単位に対する酸解離性溶解抑制基を有する構成単位の割合が５５〜８０モル％であることを特徴とする、レジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 固形分を含有したビニル系重合体における固形分、特に原子移動ラジカル重合により製造されたビニル系重合体に含まれる遷移金属錯体および吸着剤成分を、安全かつ効率的に極めて低い含有量まで除去し精製する製造方法において、従来の方法では固形分が分散したビニル系重合体を循環供給せずに一方向のみの緩やかな供給方式であった為、固形分が分散したビニル系重合体中の粒子の沈降性が影響し、濾過抵抗が上昇して濾過速度が低下することによるタイムサイクルの増加で、生産性が低下していた。
【解決手段】 この課題を解決するために、固形分が分散したビニル系重合体を外部循環機能を有した濾過機にて固形分の沈降速度より大きい濾過機内における流速となる様に外部循環しつつ濾過を行い、ビニル系重合体中に含まれる固形分を除去することで、濾過抵抗を小さくすることができるビニル系重合体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】光線透過率と屈折率が高く、耐熱性が改善された有機無機複合材料とその製造方法および該有機無機複合材料を用いた光学部品を提供する。
【解決手段】下記式で表される単位構造を少なくとも一つ有している熱可塑性樹脂と、無機微粒子とを含有していることを特徴とする有機無機複合材料。


〔式中、Ｒ¹およびＲ³は、それぞれ独立に置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、またはシアノ基を表し、Ｒ²およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、またはシアノ基を表す。ただし、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ、Ｒ³およびＲ⁴のいずれとも互いに連結していない。〕 （もっと読む）

【課題】分解性ポリマーであり且つ、金属に対する防錆効果をもつポリマー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリカルボニル化合物をヒドラジン誘導体と脱水縮合して得られる下記一般式（１）で示されるポリヒドラゾン化合物を金属用防錆剤として使用する。
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【課題】ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも２種有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


一般式（１）に於いて、各符号は本特許請求の範囲及び明細書に記載の意味を有する。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物が短時間で効率的に重合し得る高感度かつ現像性が良好な感光性組成物等の提供。
【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、熱硬化性化合物と、光重合開始剤と、増感剤とを含有し、重合性化合物がメタクリレート化合物から選ばれる少なくとも１種含有し、光重合開始剤が一般式（Ａ−１）で表される化合物、増感剤が一般式（Ｂ−１）で表される化合物である感光性組成物。


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【課題】位相差発現性が高いだけでなく逆波長分散性を有する光学フィルムを提供する。
【解決手段】下記化学構造式（Ｉ）で表されるアルキリデンノルボルネン類（ａ１）および負の固有複屈折率を与えるビニルモノマー（ａ２）を必須構成モノマーとする重合体（Ａ）であり、波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍにおけるリタデーションをＲｅ［４５０］およびＲｅ［５５０］としたとき、下記関係式（１）と（２）を満足することを特徴とする逆波長分散性樹脂である。３０ｎｍ≦Ｒｅ［５５０］≦２８０ｎｍ（１）０．３≦Ｒｅ［４５０］／Ｒｅ［５５０］≦０．９９（２）
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