【課題】水／セメント比が小さい領域でも減水性能とスランプ保持性能との両方が充分に優れたものとなり、コンクリートの粘性の低下、スランプ保持性の向上、ブリーディング水が少ないといった特性を発揮し、セメント組成物等に対する性能が改善されたセメント混和剤を提供する。
【解決手段】ポリアルキレングリコール系不飽和単量体由来の構成単位（Ｉ）と、不飽和カルボン酸系単量体由来の構成単位（ＩＩ）とを必須成分として有するポリカルボン酸系共重合体を含んでなるセメント混和剤であって、該ポリカルボン酸系共重合体は、下記数式（１）；
【数１】


で表されるＰ値が１０００〜１００００である共重合体（Ａ）と、Ｐ値が３００〜９００である共重合体（Ｂ）とを必須とするものであるセメント混和剤。 （もっと読む）

【課題】露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。一般式（ａ０−１）中、Ｒ^２はメチル基、エチル基又はフッ素原子を有する有機基であり；−Ｏ−Ｒ^２はアルカリ現像液の作用により解離する基であり、−Ｃ（＝Ｏ）−の炭素原子は前記樹脂成分（Ａ１）の主鎖に直接結合していないものとする。
［化１］
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【課題】耐候性に優れた帯電防止性を有し、透明性に優れた合成樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（２）で表される繰り返し単位を含む含フッ素重合体。


［式中、Ｗは連結基、Ｒ^１はそれぞれ独立にパーフルオロアルキル基を表し、Ｑは重合性二重結合基含有基の二重結合が開裂して形成した単位構造を表す。Ｍ^＋は、水素カチオン、金属イオンまたは一般式（１５）


（式中、Ｒ^１１〜Ｒ^１４はそれぞれ独立に置換基を有するかまたは有しない炭素数１〜２０のアルキル基またはアリール基を表す。）で表わされる４級アンモニウムカチオンを表す。］ （もっと読む）

第１触媒系と第２触媒系とが両立性のない、一反応器中おけるオレフィン重合のための、当該第１触媒系から第２触媒系へ変移させる方法が記載される。当該方法は、 ａ）第１触媒系の共存下で行った第１オレフィン重合反応を停止し；そして ｂ）それぞれ、第１ポリオレフィン画分および第２ポリオレフィン画分を製造する触媒成分（Ａ）および（Ｂ）を含む第２触媒系の共存下で第２オレフィン重合反応を行う工程を含み、 ここで、第１ポリオレフィン画分のＭ_ｗは第２ポリオレフィン画分のＭ_ｗよりも小さく、触媒成分（Ａ）の開始時の活性が触媒成分（Ｂ）の開始時の活性を上回る、方法。この方法のため、第１重合反応後、反応器を空にする必要性がなく、第２触媒系で得られるポリマーの所望の品質を達成するのに必要な変移時間が、生成物の迅速で且つ信頼のある変更を可能にするのに足る程度に短い。 （もっと読む）

【課題】各種樹脂との相溶性、接着性に優れた酢酸アリルの共重合体を提供する。
【解決手段】式（１）


で示される構造と式（２）


（式中、Ｒは炭素数２〜２０の脂肪族炭化水素基を示し、分岐していても、環状構造を含んでいてもよい。）
で示される構造をモノマーユニットとして含む酢酸アリル共重合体。 （もっと読む）

エポキシ反応性液体改質剤には、アクリル酸官能化化合物、アクリルアミド官能化化合物、シュウ酸アミド官能化化合物、アセトアセトキシ官能化ウレタン、及びアセトアセトキシ官能化ポリアルケンが挙げられる。反応性液体改質剤は、硬化性エポキシ樹脂、アミン硬化剤、及び反応性液体改質剤を含むエポキシ樹脂組成物に組み込まれ、この反応性液体改質剤は、硬化性エポキシ樹脂との、相互貫入ポリマーネットワーク及び準相互貫入ポリマーネットワークのうちの少なくとも１つを形成するように重合される。
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【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ−１）で表される含フッ素化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物（式中、Ｒ^１は有機基であって、重合性基を含んでいてもよく；Ｘは酸解離性部位を有する二価の有機基であり；Ｒ^２はフッ素原子を有する有機基である。）；かかる液浸露光用レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
［化１］
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【課題】主鎖が脂肪族鎖からなり、該主鎖にオキソカーボン基が直接結合している高分子電解質を効率的に製造できる化合物、当該化合物を用いてなる高分子、当該高分子を用いてなる高分子電解質を提供する。
【解決手段】式（１’）で表される化合物、当該化合物を付加重合してなる式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子、及び当該高分子を用いてなる高分子電解質を提供する。かかる高分子電解質は、燃料電池用部材の製造に好適に使用できる。


上式中、Ｘ¹及びＸ²はともに−Ｏ−が好ましく、Ｚは−Ｃ（Ｏ）−（カルボニル基）が好ましい。 （もっと読む）

【課題】新規な含フッ素化合物、および該化合物をモノマー単位とし、液浸露光用レジスト組成物の成分として好適な高分子化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（ａ−ｉ）で表される化合物、及び当該化合物を重合して得られる高分子化合物。［式（ａ−ｉ）中、Ｒは水素原子、低級アルキル基、又はハロゲン化低級アルキル基であり；Ｘはアルキレン基または脂環を有する二価の有機基であり；Ｒ^１はフッ素原子を有する有機基である。］
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【課題】レジスト用溶媒への溶解性に優れた重合体；ディフェクトが少なく、ラインエッジラフネスが小さいレジストパターンを形成できるレジスト組成物；および、欠陥の少ない高精度の微細なパターンが形成された基板を製造できる方法を提供する。
【解決手段】極性基を有する構成単位および酸脱離性基を有する構成単位を含むｎ種（ｎ＝２以上）の構成単位からなる重合体（Ｐ）であって、重合体（Ｐ）における各構成単位（Ｕｉ）（ｉ＝１〜ｎ）の割合Ｘ_Ｕｉと、サイズ排除クロマトグラフィー法によって重合体（Ｐ）に含まれる質量平均分子量以上の分子量の重合体（ＰＨ）をｍ個（ｍ＝４以上）に分画した各フラクションに含まれる重合体（ＰＨｊ）（ｊ＝１〜ｍ）における各構成単位（Ｕｉ）の割合Ｘ_Ｕｉｊとが０．９５≦Ｘ_Ｕｉｊ／Ｘ_Ｕｉ≦１．０５を満足する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れたパターン状透明膜及びそれを提供するための技術を提供する。
【解決手段】シクロヘキシルを有する特定の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリレートを含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、前記シクロヘキシルを有する特定の（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリレートを含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。 （もっと読む）

共通媒体中でのブチルゴムの溶液重合とそれに続くハロゲン化のための統合された方法を開示する。この方法は、少なくともイソオレフィンモノマー及びマルチオレフィンモノマーを含むモノマー混合物をモノマー混合物対媒体の質量比６１：３９から８０：２０で混ぜ合わせたＣ６媒体を収容した溶液重合反応器を準備するステップを含む。いったん重合されたら蒸留法を用いてゴム溶液から残留未反応モノマー混合物を分離する。次いでそれら残留モノマーを精製し、反応器中に戻すことができる。分離されたゴム溶液はその後ハロゲン化される。この方法は、重合後に媒体からゴムを分離し、次にそれをハロゲン化のための別の溶媒中に再溶解する必要性を取り除き、それによってエネルギーコストを減ずる。この方法は、任意選択でエネルギー消費をさらに低減するために反応器供給流用の熱交換器を使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】ブロック共重合体における制御された鎖長及び／又はブロック鎖長を有する両性イオン重合体並びにその重合プロセスを提供する。
【解決手段】基もしくは原子移動ラジカル重合等のリビング重合を用い、構造および分子量が制御された両性イオン単量体から、重合体が製造される。例えば重合体は、塩化銅触媒と、水溶性の配位子と、水溶性の第三アルキルハライド開始剤とを用いることで、１．５未満の多分散度を有する制御された単独重合体と他の親水性乃至疎水性単量体を備えたブロック共重合体とを形成できる。適切な両性イオン単量体は、２−メタクリロイルオキシ−２’−リン酸トリメチルアンモニウムエチル分子内塩である。上記ブロック共重合体は自発的にミセルを形成し得るが、外側表面にてはたとえばホスホリルコリンなどの両性イオン基を有すると確信され、優れた生体適合性を備えた薬剤投与系として有用である。 （もっと読む）

【課題】長期間保存した場合においても顔料の分散安定性に優れた顔料分散物、及び、該顔料分散物を用いてなるインク組成物の提供。
【解決手段】少なくとも、顔料と、式１で表される繰り返し単位を２〜５０質量％、及び式２で表される繰り返し単位を２〜４０質量％を有し、重量平均分子量が１００００〜５０００００の重合体とを含み、顔料濃度が２〜５０質量％である顔料分散物。


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【課題】片末端部位に官能基を有する重合体およびその製造方法、並びに該重合体を含む樹脂添加剤を提供する。
【解決手段】次の（ｉ）〜（ｉｉｉ）を同時に満たす一般式（Ｉ）の二重結合含有重合体と、一般式（ＩＩ）のチオール化合物とを、ラジカル開始剤の存在下で反応させて得られる末端官能基含有重合体。（ｉ）エチレン単位が８１〜１００ｍｏｌ％、炭素原子数３〜２０のα−オレフィン単位が０〜１９ｍｏｌ％の範囲、（ｉｉ）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．１〜３．０、且つＭｗが４００〜５０００００の範囲、（ｉｉｉ）末端ビニル基含有率（Ｌ）が５０ｍｏｌ％以上、且つ末端不飽和率（Ｍ）が７０ｍｏｌ％以上。


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【課題】感放射線感度と現像密着性の高い感光性重合体組成物と、これを用いて得られるパターン状透明膜と、該パターン状透明膜を有する表示素子を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物を含むモノマーのラジカル重合による共重合体と１，２−キノンジアジド化合物とを含有し、化合物（Ｉ）を含まないモノマーのラジカル重合による共重合体をさらに含有してもよいポジ型感光性重合体組成物を提供する。
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デュアルダマシンプロセスに使用される組成物が開示される。
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【課題】著しく水／セメント比が小さい領域でも優れた分散性を発揮できるとともに、練り返し抵抗が充分に小さく、超高強度コンクリートに特に有用なシリカフュームセメント組成物を提供する。
【解決手段】ポリカルボン酸系共重合体（Ａ）又はポリカルボン酸系共重合体混合物（Ｄ）、水、セメント及びシリカフュームを含むシリカフュームセメント組成物であって、上記ポリカルボン酸系共重合体（Ａ）は、ポリアルキレンイミン系不飽和単量体（ａ）、ポリアルキレングリコール系不飽和単量体（ｂ）及び不飽和カルボン酸系単量体（ｃ）を含む単量体成分を共重合して得られるものであり、上記ポリカルボン酸系共重合体混合物（Ｄ）は、ポリカルボン酸系共重合体（Ｂ）とポリアルキレンイミン系化合物（Ｃ）とを混合してなるものであるシリカフュームセメント組成物である。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用として用いた場合に優れた酸脱離性を示す高分子化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロアルキル基を示し、Ｒ^bは１位に水素原子を有する炭化水素基を示し、Ｒ^cは水素原子又は炭化水素基を示し、Ｒ^dは環式骨格を含む有機基を示す）で表される不飽和カルボン酸ヘミアセタールエステルに対応する繰り返し単位を含む高分子化合物。この高分子化合物は、さらに、ラクトン骨格含有単量体、環状ケトン骨格含有単量体、酸無水物基含有単量体及びイミド基含有単量体から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位、及び／又はヒドロキシル基含有単量体、メルカプト基含有単量体及びカルボキシル基含有単量体から選択された少なくとも１種の単量体に対応する繰り返し単位を含んでいてもよい。 （もっと読む）

【課題】紫外線吸収性ポリマーを含む組成物を提供すること。
【解決手段】紫外線吸収性部分を含む第１の側基と、少なくとも１つのシロキサン結合および／または中程度の長さの炭素鎖を含む第２の側基とを有する紫外線吸収性ポリマーが、開示されている。この紫外線吸収性ポリマーを包含するパーソナルケア組成物が、提供されている。 （もっと読む）