【課題】
【解決手段】本発明は、防汚塗料組成物におけるバインダーとして有用なシリルエステルコポリマーおよび当該シリルエステルコポリマーを含む防汚塗料組成物に関する。当該シリルエステルコポリマーは、モノマーＡ、モノマーＢ、および任意でモノマーＣの繰り返し単位を含む。Ａは、重合性エチレン性不飽和カルボン酸のトリオルガノシリルエステルからなる群から選ばれる１種以上のモノマーである。Ｂは、ラクトン変性（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルからなる群から選ばれる１種以上のモノマーであり、Ｃは、重合性エチレン性不飽和化合物からなる群から選ばれる１種以上のモノマーである。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率、高耐熱性及び高機械強度を兼ね備えた樹脂膜を得ることができる有用な有機絶縁材料を提供し、また、低誘電率、低密度、高耐熱性及び高機械強度を兼ね備えた樹脂膜を提供し、さらにそれを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】 本発明の有機絶縁材料は、重合性不飽和結合を含む基と、アダマンタン構造を最小単位とするかご型構造を有するかご型構造化合物のプレポリマーを含む有機絶縁材料であって、前記プレポリマーは、ＧＰＣ−ＲＡＬＬＳ法により測定される重量平均分子量及び慣性半径の両対数グラフにおける重量平均分子量が５０万以上２００万以下の範囲の直線の傾きが、０．３３以上０．４７以下である。本発明の樹脂膜は、前記有機絶縁材料を、加熱、活性エネルギー線照射、又は加熱と活性エネルギー線照射により、架橋反応させて得られる。本発明の半導体装置は、前記樹脂膜を具備する。 （もっと読む）

【課題】 押出ラミネートにより得られる得られる外観に優れ、かつ加工性が良好なポリエチレン樹脂組成物およびこれよりなる積層体を提供する。
【解決手段】 高圧ラジカル重合法で得られる密度が９１５〜９３５ｋｇ／ｍ^３であり、２．１６ｋｇ荷重（１９０℃）で測定したメルトマスフローレート（以下、ＭＦＲと言う。）が０．５〜５．０ｇ／１０分である低密度ポリエチレン（Ａ）１〜５０重量％と、下記（ａ）〜（ｃ）の要件を満たすポリエチレン系樹脂（Ｂ）９９〜５０重量％からなることを特徴とする押出ラミネート用ポリエチレン樹脂組成物。
（ａ）密度が９１０〜９６５ｋｇ／ｍ^３、
（ｂ）炭素数６以上の長鎖分岐数が１，０００個の炭素原子当たり０．０１〜３．０個、
（ｃ）１９０℃で測定した溶融張力（ＭＳ_１９０）（ｍＮ）と２．１６ｋｇ荷重のＭＦＲ（ｇ／１０分、１９０℃）が、下記式（１）
ＭＳ_１９０＞２２×ＭＦＲ^{−０．８８} （１）
を満たすと共に、１６０℃で測定した溶融張力（ＭＳ_１６０）（ｍＮ）と２．１６ｋｇ荷重のＭＦＲ（ｇ／１０分、１９０℃）が、下記式（２）を満たす。
ＭＳ_１６０＞１１０−１１０×ｌｏｇ（ＭＦＲ） （２） （もっと読む）

【課題】 基材に対する密着性に優れるとともに、耐熱性、耐薬品性、特に耐溶剤性試験後の基材への密着性に優れた硬化物の得られる共重合体を提供する。
【解決手段】 本発明の共重合体は、イソシアネート基又はブロックされたイソシアネート基を有するビニル単量体Ａに対応するモノマー単位、下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を示し、Ａは単結合又は２価の炭化水素基を示す。Ｒ^b、Ｒ^cは、同一又は異なって、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、Ｒ^dは炭素数１〜６のアルキル基を示す。ｘは０又は１であり、ｙは１〜１０の整数である）
で表されるアルコキシシリル基含有ビニル単量体Ｂに対応するモノマー単位、及び３〜５員の環状エーテル基を有するビニル単量体Ｃに対応するモノマー単位を少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】物性の改良のために当該ビニル重合体粉体が添加される熱可塑性樹脂の熱安定性及び耐加水分解性の低下を抑制できるビニル重合体粉体の製造方法、該製造方法により得られるビニル重合体粉体を含有する熱可塑性樹脂組成物及びその成形品の提供。
【解決手段】ポリオキシアルキレンアルキル硫酸塩の存在下でビニル単量体を乳化重合してビニル重合体（Ａ）のラテックスを得て、該ラテックスを噴霧乾燥することにより、前記ビニル重合体（Ａ）を粉体として回収するビニル重合体（Ａ）の粉体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造で表される構成単位（ａ０）と他の特定構造で表される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、前記高分子化合物（Ａ１）を構成する全構成単位に対し、前記構成単位（ａ０）の割合は、５〜５０モル％であり、前記構成単位（ａ１）の割合は１０モル％より大きく、前記構成単位（ａ０）および（ａ１）の割合の合計は９０モル％以下であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、低分子量臭素化アニオン性連鎖移動芳香族ビニルポリマー（以下、「ＡＣＴＶＡＰ」）を含む難燃性組成物に関する。組成物は、低い熱不安定性臭素含有量をさらに示しつつ、高い臭素含有量を提供することができる。組成物は、ＨＩＰＳおよびＡＢＳ系配合物基材において許容される溶融流動および熱変形温度（ＨＤＴ）が予測されるガラス転移温度、Ｔｇを有する。組成物は、熱可塑性配合物、たとえば、ポリスチレンおよびＡＢＳ配合物における使用に好適な難燃性の候補物質である。 （もっと読む）

【課題】光学性能、湿熱耐久性、引裂き強度に優れた光学フィルム及びそれを用いた偏光板、及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】セルロースエステルと、反応性乳化剤を用いた懸濁重合またはソープフリー乳化重合により単量体を重合して得られるアクリル系重合体を含有することを特徴とする光学フィルム、偏光板、及び液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】フリージングプロセスにおいて第一のレジストパターンに対して特別な化学処理を施すことなく、第二のレジストの溶剤及び現像液に対して実質的に溶解せず、且つ第二のレジストパターン形成後においても形状を悪化させずにラインエッジラフネスが良好な第一のパターンを形成することができる、新規なフリージング処理用のポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、樹脂（Ａ）が、（ａ１）酸の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を持つ繰り返し単位と、（ａ２）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する繰り返し単位、とを有する樹脂である、ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

本発明は、粒子状固体、有機媒質、およびポリウレタン分散剤を含む非水性組成物であって、そのポリウレタン分散剤が、アンカーセグメントから第３級アミン基が懸垂している実質的に直鎖のアンカーセグメントと、ポリエステル、ポリエーテルまたはポリアクリレートの末端に結合した溶媒可溶性末端鎖（そうした末端鎖の混合物を含む）を含む、非水性組成物を提供する。一実施形態では、その第３級アミンの窒素原子は、１〜２０個の介在原子によってアンカー骨格から隔てられていることが望ましい。一実施形態では、その本質的に直鎖のアンカー骨格セグメントは、ジイソシアネートがイソシアネートと反応性のある２個の基を有する化合物および三級および／または４級化アミン基と反応することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】分散粒子径が細かく安定で、ブリードアウトが抑制され、ポリオレフィン系基材に対する表面処理剤、接着剤あるいは塗料等として有用な、樹脂の水分散体を提供する。
【解決手段】プロピレンとプロピレン以外のα−オレフィンとの共重合体であるプロピレン−α−オレフィン共重合体（Ａ）に、親水性高分子（Ｂ）が結合してなるか又は酸性基が結合してなる重合体（Ｃ）を、５０％粒子径０．５μｍ以下で水に分散させてなる樹脂分散体であって、前記共重合体（Ａ）のプロピレン含量が５０モル％以上１００モル％未満であり、かつ共重合体（Ａ）の重量平均分子量Ｍｗが１００００以上で分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが３．５以下であり、樹脂分散体の界面活性剤含有量が重合体（Ｃ）１００重量部に対し１５重量部以下である樹脂分散体、及びこれを用いた塗料、積層体。 （もっと読む）

【課題】 焼成時の焼成残渣と、特に熱分解終盤に発生する難分解生成物量が少ない焼成ペースト用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される単量体に由来する構成単位を含む焼成ペースト用重合体、およびそれを含む焼成ペースト用樹脂組成物である。
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基またはアルコキシ基を表す。Ｒ^４、Ｒ^５はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜８のアルキル基もしくはアルコキシ基を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、精密電子部品の内部で発生する磨耗粉や塵埃を長期間、好適に捕捉することができ、かつ、部品内部に腐食が発生しない防塵用樹脂を提供することにある。また、当該防塵用樹脂を備えたカメラモジュールを提供することにある。
【解決手段】数平均分子量が４０００〜２００００であるマレイミド基を２個以上有する化合物（Ａ）を含む組成物を、活性エネルギー線により硬化したものであることを特徴とする防塵用樹脂。 （もっと読む）

【課題】本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、前記フリージングプロセスにおいて第一のレジストパターンに対して特別な化学処理を施すことなく、第二のレジストの溶剤及び現像液に対して実質的に溶解せず、且つ第二のレジストパターン形成後においても形状を悪化させずにラインエッジラフネスが良好な第一のパターンを形成することができる、新規なフリージング処理用のポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 耐久性に悪影響を与えることなく、改良された高い初期光沢および改良された繰り返し可能な研磨応答性を示す新規なポリマーラテックスおよびポリッシュビヒクル組成物の提供。
【解決手段】 エチレン性不飽和モノマーの水不溶性ポリマーの水性サスペンジョンまたはディスパージョンを含むポリマー組成物であって、該ポリマーが少なくとも３５℃のガラス転移温度を有し、ＩＢＭＡおよびＢＭＡの単位を２５重量％から６５重量％含み、少なくとも１種の酸モノマーの単位を３重量％から５０重量％含む、ポリマー組成物 （もっと読む）

本発明の組成物は、エチレンと、炭素数が４〜１０の１種以上のα−オレフィンとのマルチモーダルコポリマーを含み、マルチモーダルコポリマーは、９２４〜９３５ｋｇ／ｍ^３の密度、０．５〜６．０ｇ／１０分のＭＦＲ_５、０．１〜２．０ｇ／１０分のＭＦＲ_２及び２〜５０の剪断減粘指数ＳＨＩ_{２．７／２１０}を有する。また、マルチモーダルコポリマーは、３０〜７０重量％のエチレンホモポリマー及びエチレンと、炭素数が４〜１０の１種以上のα−オレフィンとのコポリマーから選択され、５０００〜１００，０００ｇ／ｍｏｌのＭｗ及び９４５〜９７５ｋｇ／ｍ^３の密度を有する低分子量エチレンポリマーと、３０〜７０重量％の、エチレンと、炭素数が４〜１０の１種以上のα−オレフィンとからなり、１００，０００〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌのＭｗ及び８９０〜９２９ｋｇ／ｍ^３の密度を有する高分子量コポリマーと、を含む。 （もっと読む）

【課題】適度の貯蔵弾性率を有すると共に、耐摩耗性を低下させることなく、低発熱性を向上させたタイヤを与えるゴム組成物、及び該ゴム組成物を用いてなるタイヤを提供する。
【解決手段】分子内にプロトン性アミノ基及び／又は脱離可能基で保護されたアミノ基を有するアミン系官能基変性共役ジエン系重合体であって、変性前の重量平均分子量が１万〜２０万である変性低分子量共役ジエン系重合体、前期変性低分子量共役ジエン系重合体を含むゴム組成物及び該ゴム組成物をタイヤ部材に用いてなるタイヤである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、架橋性シリル基を少なくとも１個有するビニル系重合体を主成分とするシーリング材と各種基材を良好に接着させるためのプライマー組成物を提供することを目的とし、特にシリコーン系シーリング材（先打ち）にビニル系重合体を主成分とするシーリング材（後打ち）を打継ぐ際に接着性の良好なプライマー組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は、（Ａ）架橋性シリル基を少なくとも１個有するビニル系重合体、（Ｂ）シランカップリング剤、（Ｃ）シラノール縮合触媒、（Ｄ） シリコーン樹脂、及び（Ｅ）脂肪酸、樹脂酸または脂肪酸エステルで表面処理された炭酸カルシウムを含有するプライマー組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】一層で、高彩度カラーを現出し、かつ、下地隠蔽性に優れる塗膜及び塗料組成物を提供すること。
【解決手段】塗膜は、疎水基又は疎水基と親水基の双方を有するオリゴマーやオリゴマー複合体と、粒径の異なる複数種の顔料を含み、上記複数種の顔料のうち１種の顔料が、上記オリゴマー及び／又はオリゴマー複合体が集合したオリゴマー分子集合体に保持されて層状に局在化しており、他の顔料との間で、膜厚方向に顔料粒度分布を有する。 （もっと読む）

【課題】より感度が高いｄｅｅｐ−ＵＶレジスト材料を用いることで、より生産性の高い、より微細なノズル構造を形成できるインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。
【解決手段】（ｉ）インク吐出圧力発生素子が形成された基体上に特定の高分子化合物を含有するレジスト材料を含む層を形成した後、該層をパターニングしてインク流路パターンを形成する工程と（ii）常温にて固体状のエポキシ樹脂を含む液体を流路パターン上に塗布してインク流路壁となる被覆樹脂層を形成する工程と（iii）インク吐出圧力発生素子上に位置する被覆樹脂層を除去してインク吐出口を形成する工程と（iv）流路パターンを除去する工程とを有しており、工程（ii）において、インク流路パターン上に形成される被覆樹脂層の屈折率とインク流路パターンの屈折率との差が０．０３以下であるインクジェット記録ヘッドの製造方法。 （もっと読む）