【課題】 輸送コストや環境負荷の小さいイオン性の水溶性高分子とその製造法を提供することであり、凝集剤用途さらに詳しくは汚泥の脱水処理用途、製紙スラッジの脱水処理用途と製紙原料に添加して抄紙する方法に対して優れた機能を発揮するイオン性の水溶性高分子を提供する。
【解決手段】 水に非混和性有機液体を連続相、カチオン性単量体および多官能性単量体を必須として含む単量体混合物水溶液を分散相となるよう界面活性剤により乳化し重合した後、得られる油中水滴型エマルジョン状液体を乾燥し造粒した水溶性高分子であって、特定のイオン性を発現する粉末からなる水溶性高分子と、分散重合によって得た粒状物あるいは水性ゲル状物を乾燥し粒状化した粉末品などとを混合したイオン性水溶性高分子を提供することで本課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】離型性に優れ、エポキシ樹脂硬化物表面への経時的な染み出しが抑制されたエポキシ樹脂用内添型離型剤の提供。
【解決手段】（メタ）アクリル酸グリシジルと炭素数１６〜２２の直鎖アルキル（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体であって、エポキシ当量が１，０００〜４，０００ｇ／ｅｑ．であり、かつ、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００である共重合体からなるエポキシ樹脂用内添型離型剤。 （もっと読む）

【課題】ヘイズ値を抑制しつつ可撓性に優れ、かつ、フィルムの脆さが改善された光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルムは、一般式（１）で表わされるスチレン−マレイン酸共重合体、


スチレン・ブタジエン・アクリレート共重合ゴム成分、メタクリル酸エステル系の分散剤を含有し、屈折率楕円体がｎｚ≧ｎｘ＞ｎｙの関係を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた改質効果を有する改質天然ゴム、および、改質効率の高い改質天然ゴムの製造方法を提供する。
【解決手段】リン含有量が２００ｐｐｍ以下の天然ゴムに、不飽和結合を有する有機化合物のグラフト共重合処理を施して改質したことを特徴とする改質天然ゴムに関する。 （もっと読む）

【課題】加工性を損なうことなく、低発熱性、低温特性、及び耐摩耗性等に優れたゴム製品を製造可能な変性共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ビニル含量が１０％未満、シス１，４−結合含量が７５％以上、重量平均分子量（Ｍｗ）が２５万〜８０万である、第一の共役ジエン系重合体の活性末端に、第一のアルコキシシリル基を導入して（Ａ）成分を得る工程と、別途、ビニル含量が１０％未満、シス１，４−結合含量が７５％以上、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が１万〜１５万である、第二の共役ジエン系重合体の活性末端に、第二のアルコキシシリル基を導入して（Ｂ）成分を得る工程と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を混合した後、第一のアルコキシシリル基と、第二のアルコキシシリル基を縮合する工程と、を含む変性共役ジエン系重合体の製造方法である。 （もっと読む）

集光式太陽電池モジュールが少なくとも１つの太陽電池と少なくとも１つの集光器とを含む。この少なくとも１つの集光器は、約１．０２〜約２０００ｓｕｎに等価の太陽エネルギーを太陽電池上に集光する能力を有し、かつ、アイオノマー組成物を含む。このアイオノマー組成物は、そのクリープ開始温度がそのピーク融解温度よりかなり高いアイオノマーを含む、あるいはそのようなアイオノマーから製造される。 （もっと読む）

染料もしくは発色団要素及び架橋性官能基を有するポリマー、任意選択の架橋性成分、及び次式を有する一種またはそれ以上の光活性化合物を含む反射防止コーティング組成物。
Ｗ−（Ｌ−（Ｇ））_ｐ
式中、ＷはＰＡＧまたはＱであり、ここでＰＡＧは光酸発生体であり、そしてＱはクエンチャであり； 各Ｌは直接結合または連結基であり； 各Ｇは独立してＧ１またはＧ２であり； Ｇ１はＯＨであり； Ｇ２はＯＣＨ＝ＣＨ_２であり； ｐは１〜１２である。 （もっと読む）

【課題】グリップ性能、燃費性能（転がり抵抗性能）及び摩耗性能をバランスよく改善すると同時に、優れた耐熱性及び耐候性も得られるタイヤ用ゴム組成物、並びに該組成物を用いて作製したタイヤを提供する。
【解決手段】エポキシ化天然ゴムの水素添加物を含有するタイヤ用ゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】ピクセルサイズが微細になっても、現像残膜、残渣がない良好なパターン形状の形成が可能な染料含有ネガ型硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）有機溶剤可溶性染料と、（Ｂ）光重合開始剤と、（Ｃ）重合性化合物と、下記一般式（１）で表される構造を側鎖に有する（Ｄ）アミノ基含有アルカリ可溶性樹脂と、（Ｅ）有機溶剤と、を少なくとも含む染料含有ネガ型硬化性組成物。


（一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は互いに独立して、水素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ_１とＲ_２は互いに連結して環構造を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れる、レジスト組成物、及びこれらレジスト組成物を用いるレジストパターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】（ａ１）酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、（ａ２）ラクトン単位を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、並びに（ａ４）多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ（ａ０）（ａ０−１）ジカルボン酸の無水物含有構成単位及び（ａ０−２）フェノール性水酸基含有構成単位を有さない、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を溶解する有機溶剤（Ｃ）と、含窒素有機化合物（Ｄ）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の形成工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）［式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子または直鎖もしくは分岐鎖の炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２は置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を表す。］で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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基材に対して撥水撥油性、防汚性および風合いを付与できる表面処理剤が、
（Ａ）（ａ）式：
ＣＨ_２＝Ｃ(−Ｘ)−Ｃ(＝Ｏ)−Ｙ−Ｚ−Ｒｆ
［式中、Ｘは、水素原子、一価の有機基またはハロゲン原子であり、
Ｙは、−Ｏ−または−ＮＨ−であり、
Ｚは、直接結合または二価の有機基であり、
Ｒｆは、炭素数８〜１２のフルオロアルキル基である。］
で示される含フッ素単量体を含んでなる単量体、および
（Ｂ）メルカプト官能性オルガノポリシロキサン、ビニル官能性オルガノポリシロキサン、（メタ）アクリルアミド官能性オルガノポリシロキサンおよび（メタ）アクリレート官能性オルガノポリシロキサンからなる群から選択された少なくとも１種の官能性オルガノポリシロキサン
を含んでなる含フッ素重合体から得られる。 （もっと読む）

【課題】本発明は優れた耐湿熱性を有するα−シアノアクリレート系接着剤組成物を提供する。
【解決手段】必須成分として（Ａ）α−シアノアクリレート、（Ｂ）（メタ）アクリロイル基を有する多官能性化合物、（Ｃ）クメン（１−メチル１−エチルベンゼン）の含有量が５重量％未満のクメンハイドロパーオキサイド、を含有するシアノアクリレート系接着剤組成物である。本発明は前記（Ｂ）成分が（Ｂｌ）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、であるとさらに好ましいものとなる。 （もっと読む）

【課題】感度、低現像欠陥、そして露光量依存性（ＥＬ）と、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、形状、マスクエラーエンハンスメントファクター（ＭＥＥＦ）性能、更に解像力、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有する繰り返し単位と、ヒドロキシスチレン由来の繰り返し単位とを少なくとも含む、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物並びにそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好なパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型フォトレジスト組成物を与える酸発生剤を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。


［Ｒ^１は、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数５〜１０のアリール基等を表す。Ｗ^１は、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ_２−等を表す。Ｑ^１及びＱ^２は、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基等を表す。Ａは、式（Ｉ−１）で表される基を表す。Ａ^１は、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ_２−を表す。］ （もっと読む）

本発明の態様は、量子ドット、複数の量子ドットなどを製造する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】スタックド構造のＭＣＰ製造時における作業性の欠点である接着剤の塗布などの工程を改善し接着剤を使用することなく半導体チップを積層することができ、かつ各種の信頼性に優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）と光酸発生剤（Ｂ）を含む感光性樹脂組成物の樹脂層３を半導体チップ２の回路素子形成面上に有し、かつ半導体チップ上に積層する別の半導体チップ６の裏面が樹脂層に直接接触していることを特徴とするスタックド構造のＭＣＰの樹脂封止型半導体装置。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性およびドライエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）芳香族基とフロロアルキル基を有する重合性単量体（Ａｘ）少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

低残存モノマー含有量の超吸収剤を製造するため、尿素塩及び無機酸を、重合前若しくは重合中モノマー混合物に、又は重合後で重合後の熱処理前ポリマーに添加する。 （もっと読む）

【解決手段】 多孔質不活性支持体からなる親水性多孔質膜。その上にイオノマーが堆積し、該膜はそれらが１Ｌ／（ｈ・ｍ²・ａｔｍ）より高い透水性を有することを特徴とする。 （もっと読む）