【課題】ジフルオロリン酸の量を減らし、工程が簡便で、全工程の時間が短縮可能なモノフルオロリン酸化高分子化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｉ）水酸基を有するアクリルアミド誘導体を含むモノマー混合物を、ジメチルスルホキシド、１，２−ジメトキシエタン、アセトニトリル、リン酸トリメチル及びリン酸トリフェニルから選ばれる溶媒（Ｃ−Ｉ）に溶解したモノマー溶液に、重合開始剤を添加して（共）重合反応させ、反応液中に水酸基を有するアクリルアミド誘導体を構成単位として含む（共）重合体（Ａ）を形成する工程、及び
（ＩＩ）上記（共）重合反応後の反応液に、ジフルオロリン酸又はその塩（Ｂ）を添加し、上記（共）重合体（Ａ）とジフルオロリン酸又はその塩（Ｂ）とを反応させる工程
を含むモノフルオロリン酸化高分子化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリカ微粒子を活性エネルギー線硬化型樹脂組成物中に分散させた分散体であって貯蔵安定性に優れたシリカ分散体を容易かつ簡便に製造する製造方法を提供すること。
【解決手段】（メタ）アクリロイル基と水酸基とを分子構造中に有し、かつ、（メタ）アクリロイル当量が２００〜６００ｇ／ｅｑの範囲であり、水酸基価が９０〜２８０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である（メタ）アクリル系重合体（Ｂ）にシリカ微粒子（Ｆ）を分散させた分散体の製造方法としてインペラタイプのセパレータ４を有する湿式ボールミル３を用い、該湿式ボールミル内部でメディアとスラリーとを攪拌混合させてスラリー中のシリカ微粒子（Ｆ）の粉砕と（メタ）アクリル系重合体（Ｂ）への分散を行うと共に、インペラタイプのセパレータ部で遠心力の作用によりスラリーとメディアとを分離して分散体を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】濁度成分と共に有機物をも除去し得る様に改良した水処理方法を提供する。
【解決手段】原水にアミジン構造を含有するカチオン性高分子を添加した後に長繊維濾過装置にて処理する。本発明の好ましい態様においては、塔内に長繊維束の濾材を収容し、下向流形式で原水を供給し且つ上向流形式で洗浄水を供給し、原水供給時には濾材が圧密状態を形成し且つ洗浄水供給時には圧密状態を解除し得る構造を有する長繊維濾過装置が使用される。 （もっと読む）

【課題】ホルムアルデヒドやアセトアルデヒドの発生量が少ない硬化方法の提供。
【解決手段】（ａ）（メタ）アクリレート、（ｂ）重合開始剤及び（ｃ）硬化促進剤を含有してなる硬化性組成物を、不活性気体雰囲気下で、硬化してなる硬化方法。（ａ）（メタ）アクリレート、（ｂ）重合開始剤及び（ｃ）硬化促進剤を含有してなる硬化性組成物を、不活性気体雰囲気下で、養生し、硬化してなる硬化方法。（ａ）（メタ）アクリレート、（ｂ）重合開始剤及び（ｃ）硬化促進剤を含有してなる硬化性組成物を、不活性気体でバブリングし、硬化してなる硬化方法。不活性気体が、窒素、ネオン、アルゴン、キセノン及び二酸化炭素からなる群のうちの１種又は２種以上である該硬化方法。（ｄ）酸性リン酸化合物を含有してなる該硬化方法。 （もっと読む）

【課題】優れた形状、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用によりカルボキシル基及びヒドロキシ基を生じかつラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−３）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物及び化学増幅型フォトレジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】所望の組成と性能を有する共重合体の製造法を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくとも１種のアセタール基を有する（メタ）アクリル系単量体から導かれる構成単位と、該単量体と共重合可能な少なくとも１種の他の（メタ）アクリル系単量体から導かれる構成単位とを含有するレジスト用重合体の製造方法であって、前記単量体原料中に含まれるハロゲン化合物の総量が、前記全単量体量に対して２００ｐｐｍ以下である単量体を重合原料として用いるレジスト用共重合体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】フィッシュアイが非常に少なく、寸法安定性、表面硬度に優れ、剥離力の制御と繰り出し性能が改良された、プロピレン系表面保護用フィルムの提供。
【解決手段】基材層の一方の面に粘着層が形成され、他方の面に剥離処理層が形成された表面保護用フィルムで、基材層がメタロセン触媒を用いて重合され、特定のＭＦＲ、融解ピーク温度、Ｍｗ／Ｍｎ、ＴＲＥＦ法の４０℃以下の可溶分を有するプロピレン系樹脂で形成され、粘着層がメタロセン触媒を用い、第１工程でプロピレン単独又はプロピレン−エチレンランダム共重合体と第２工程でプロピレン−エチレンランダム共重合体が逐次重合して得られ、特定のＭＦＲ、ＤＭＡ特性を有するプロピレン−エチレンブロック共重合体で形成され、剥離処理層が剥離処理層表面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）が特定の測定条件下において０．２〜１．５μｍの範囲内であることを特徴とする表面保護用フィルム。 （もっと読む）

【課題】可撓性と共に、耐熱分解性等に優れた硬化物を与えると共に、光硬化性やアルカリ現像性に優れるカルボキシル基含有ラジカル重合性共重合体および感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】多塩基酸無水物を用いることなく合成されたカルボキシル基含有ラジカル重合性共重合体であって、この共重合体は、主鎖に結合したカルボキシル基に５員環以上のラクトンが反応してなる鎖延長されたカルボキシル基を有すると共に、この鎖延長されたカルボキシル基の一部が、１分子中にカルボキシル基と反応し得る官能基１個とラジカル重合性二重結合１個とを有する単量体（ｉ）によって変性されていることを特徴とする。 （もっと読む）

ａ）下記構造式（Ｉ）（ここで、Ｒ^２は、直鎖状または分岐状のＣ６〜Ｃ２００飽和アルキル残基、または直鎖状または分岐状の１箇所または数箇所が不飽和のＣ６〜Ｃ２００アルケニル残基を意味し、Ｒ^１、Ｙ、ｎ、およびｍは、請求項１に示された意味を有する）の重合性物質に由来する１つまたは複数の構造単位を２０．０〜９９．９重量％、ｂ）重合性第四級アンモニウム化合物に由来する１つまたは複数の構造単位を０．１〜２０．０重量％、およびｃ）１つまたは複数のさらなる重合性物質に由来する１つまたは複数の非イオン性構造単位を０〜６０．０重量％含むコポリマーを記載する。このコポリマーは、例えば、化粧用、皮膚科用、または医薬用調剤の製造に有利に適している。
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【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、一般式（１）［式中、Ｐはａ価の有機基を表し、ａは２〜２０の整数を表し、Ｙはアリーレン基又は炭素原子数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｘは酸の作用により解裂され得る特定の結合基を表す。］で表されるコア部と、該コア部に結合し、かつ、アニオン重合法によって得られるポリマー鎖からなるアーム部とを有するポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】硫黄含有化合物、金属化合物およびハロゲン化合物を含まず、かつ、残存モノマー量も少ない、低分子量の（メタ）アクリル系ポリマー、該（メタ）アクリル系ポリマーの製造方法、ならびに該（メタ）アクリル系ポリマーの使用を提供する。
【解決手段】本発明の（メタ）アクリル系ポリマーは、直鎖状または分岐鎖状の脂肪鎖を有する（メタ）アクリル系化合物による、（メタ）アクリル系ポリマーである。（メタ）アクリル系化合物の脂肪鎖は、炭素数Ｃ_８以上で、任意で少なくとも１つのエチレン不飽和部を含む。（メタ）アクリル系ポリマーは、重量平均分子量Ｍｗが２０，０００ｇ／モル未満であり、硫黄含有化合物、金属化合物およびハロゲン化合物を含まず、かつ、ＧＰＣによって測定される残存モノマー量が、１０重量％以下、好ましくは７重量％以下である。 （もっと読む）

【課題】
高分子凝集剤の添加量増加によるコスト増を抑えるための一般的な処方は、無機凝集剤を併用することであるが、無機凝集剤を併用することは、脱水スラッジの増加、また環境や健康への懸念がある。本発明の課題は、繊維分の少ない汚泥を効率的に脱水する方法として、無機凝集剤を併用しなくても高分子凝集剤の添加量が増加することのない処方を提供するものである。
【解決手段】
ｐＨ値が５〜８である汚泥に対して、水溶性カチオン性高分子を添加した後、水溶性両性高分子を添加し、次いで脱水する汚泥の脱水方法であって、前記水溶性カチオン性高分子が、定義で表示される電荷内包率が５０％以上、９０％以下である水溶性カチオン性高分子を使用することによって達成できる。
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【目的】光照射によってラジカルを発生させると共に、カチオンである酸を発生させることができる官能基を分子内に持ち、かつ単独ないし各種ビニルモノマーとの共重合も可能なピリドン基含有(メタ)アクリレート、これを用いたピリドン基含有ポリマー、これらを利用した、優れた硬化性で、かつ未反応分残存や着色を抑えて光重合させることができる光重合開始剤、及びこれを含む光硬化性組成物、及び硬化物を提供すること。
【解決手段】本発明のピリドン基含有(メタ)アクリレートは、式(１)で表され、光重合開始剤、光硬化性組成物として利用できる。
【化１】


(Ｒ¹：Ｈ、ＣＨ₃、Ｒ²：−(ＣＨ₂)ｎ−、ｎ：１〜４) （もっと読む）

コポリマーは、相互接続された細孔を画定し、重合済みのモノマーを含む。該モノマーは、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）よりも高い親水性を有する第１のモノマーと、ＨＥＭＡと同等の親水性又はＨＥＭＡよりも低い親水性を有する第２のモノマーとを含む。ポリマーを形成する方法では、水、界面活性剤、及び多孔性コポリマーを形成するための共重合可能なモノマーの組合せを含む両連続マイクロエマルションを用意する。モノマーの組合せは、第１と第２のモノマーを含む。両連続マイクロエマルションにおけるモノマーを、多孔性コポリマーを形成するために重合する。第１のモノマーは、Ｎ−ビニルピロリドン（ＮＶＰ）又はメタクリル酸（ＭＡＡ）を含むことができる。第２のモノマーは、ＨＥＭＡ又はメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ハロゲンを固定化することにより有機化合物の非共役炭素−炭素二重結合に対する異性化能が増大した組成式Al_２O_３で表わされる成分を含む無機固体処理剤の再生方法
【解決手段】組成式Al_２O_３で表わされる成分を含む無機固体処理剤を、アンモニアまたは有機アミン類に接触させ、該処理剤の前記異性化能を低下させることを特徴とする前記無機固体処理剤の再生方法 （もっと読む）

【課題】吸収した炭酸ガスを放出して回収する際に要するエネルギーを低減することができる炭酸ガス吸収剤及び回収方法を提供する。
【解決手段】（１）式に記載の含窒素化合物を繰り返し単位として有する、水溶性高分子化合物を含有する炭酸ガス吸収剤
【化１】


Ｒ１：−ＣｓＨｔ− (１≦ｓ≦１０、ｔ＝２ｓ−１)（直鎖、分岐含む）
Ｒ２：−Ｈ, −ＣｓＨｔＯｕＮｖ (１≦ｓ≦５、２ｓ≦ｔ≦２ｓ＋２、０≦ｕ≦３、０≦ｖ≦３) （直鎖、分岐含む）を含む水溶性高分子含有水溶液に対して炭酸ガスを含有する気体を接触させて前記炭酸ガスを吸収させ、その後、前記水溶性高分子含有水溶液を、疎水性の第１相と親水性の第２相とに分離する。次いで、前記水溶性高分子含有水溶液の、前記第１相から前記炭酸ガスを放出する。 （もっと読む）

【課題】酸の拡散が被パターン化樹脂膜の全面に均一に十分な精度をもって行うことができ、その結果、被パターン化樹脂膜の全面に均一優れた寸法安定性が得られる酸転写用膜を得ることができる酸転写用組成物、これを用いてなる酸転写用膜、及びこの酸転写用膜を用いて既存のフォトリソプロセスによりパターン形成できるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）感放射線性酸発生剤、（Ｂ）含窒素基を有する重合体、及び、（Ｃ）ケトン系溶剤、を含有する組成物。（Ｂ）重合体は特定の(メタ)アクリルアミド構成単位を有することが好ましい。この組成物を用いてなる酸転写用膜。酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、一般的に、アミノ化反応及びアミノ化反応生成物に関し、そして特に第三級アミンを利用するビニル芳香族ポリマーのアミノ化方法に関する。一つの態様に於いて、本発明は、第三級アミンと塩化ベンジル基を含有するビニル芳香族ポリマーとを組合せて反応混合物を形成し、その反応混合物のｐＨを、指定された範囲内に維持することによって、アミノ化反応を実施することを含む。別の態様に於いて、本発明はアミノ化ビニル芳香族ポリマーを含む。更に別の態様に於いて、本発明は第四級アンモニウム官能基を含有するイオン交換樹脂を含む。本発明は、種々の用途、例えば水源から過塩素酸塩イオンの除去及び採鉱濾過溶液からのシアン化金の回収のために適しているイオン交換樹脂を製造するのに有用である。
（もっと読む）

本発明は、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）から誘導された繰り返し単位と、ＴＦＥ、パーフルオロメチルビニルエーテル（ＭＶＥ）およびＥＶＥから誘導された合計繰り返し単位に対して２〜１７モル％の量のパーフルオロエチルビニルエーテル（ＥＶＥ）から誘導された繰り返し単位と、ＴＦＥ、パーフルオロメチルビニルエーテル（ＭＶＥ）およびＥＶＥから誘導された合計繰り返し単位に対して２３〜３５モル％の量のパーフルオロメチルビニルエーテル（ＭＶＥ）から誘導された繰り返し単位とを含む過酸化物硬化性パーフルオロエラストマー、その製造方法および硬化物品の製造のためのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性（保存安定性）に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。
【解決手段】樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、有機溶剤（Ｃ）とを含むホトレジスト組成物を、臨界表面張力が７０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上の第１の膜を備えた第１のフィルタを通過させる工程を有し、且つ前記第１のフィルタを通過させる工程の前後の一方又は両方に、さらに、該ホトレジスト組成物を、ポリオレフィン樹脂またはフッ素樹脂製の第２の膜を備えた第２のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）