紫外線および可視光線を用いて硬化することができる組成物が開示される。さらに、開示されている組成物は、以下に限定されないが、紙製品および天然繊維織物など繊維質基材への塗布に適する。さらに、該組成物を繊維質基材または繊維質基材の少なくとも一部に塗布し、その塗布した組成物を硬化して部分的または完全に硬化した組成物を得るための方法が開示される。その上、完全に硬化した組成物を組み込む、例えば紙を含む製造物品が開示され、かかる製造物品は、長期間浸水した際の、構造的完全性、印刷物および明るさの保持を含めた水への耐性を示す。これらの硬化性組成物を組み込む方法、プロセス、製造ライン、組立て、および工場もまた開示される。 （もっと読む）

【課題】 ジェットグラウト工法によって、超高圧で圧縮空気とセメントミルクを地盤中に回転しながら噴射して、短時間で地盤を切削し混合するプロセスにおいて、１）スライムの流動性を向上させて十分な作業性を確保すること、２）注入率を下げることによって建設汚泥の発生量を大幅に減らこと、３）必要とされる所定の早期強度を確保すること、を同時に充足させる地盤改良添加剤及びそれを用いた地盤改良セメント組成物を提供する。
【解決手段】 下記のＡ成分及びＢ成分を含有し、Ａ成分１０〜９５質量％、Ｂ成分５〜９０質量％の割合（合計１００質量％）から成ることを特徴とするジェットグラウト工法用地盤改良添加剤。
Ａ成分：炭素数３〜８のオレフィンと無水マレイン酸との共重合物をアルカリ加水分解した質量平均分子量２０００〜５００００の水溶性ビニル共重合体
Ｂ成分：ケイ酸アルカリ金属塩 （もっと読む）

【課題】 常温以上の工業的に有利な条件で末端に酸無水物基を有するポリマーの製造方法、該製造方法により得られる末端に酸無水物基を有するポリマー、該ポリマーからなる樹脂改質剤、及び該ポリマーと他の熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 リビングポリマーとアルミニウム等の典型金属元素を含有する化合物とからなるアート錯体にマレイン酸ジｔ−アルキル等のジエステル化合物を反応させることにより、末端にジエステル基を有するポリマーを製造した後、該ジエステル基を酸無水物基に変換することによる、末端に酸無水物基を有するポリマーの製造方法、該製造方法により得られる末端に酸無水物基を有するポリマー、該ポリマーからなる樹脂改質剤、及び該ポリマーと他の熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、Ｅ／Ｘ／Ｍランダムコポリマーより本質的になる組成物を開示している。ここで、ＸはＥ／Ｘ／Ｍコポリマーの０．１〜２０モル％であり、かつ４−ビニルフェニルエステル、好ましくは４−アセトキシスチレンであり、ＭはＥ／Ｘ／Ｍコポリマーの０〜４０モル％であり、かつ１つもしくはそれ以上のエチレン系不飽和モノマーであり、Ｅはエチレンである。本発明は、新規ポリマーを生成するための高圧ラジカル重合プロセスおよびＥ／Ｙ／ＭコポリマーへのＥ／Ｘ／Ｍコポリマーの転化のための塩基触媒エステル交換プロセスを更に包含する。ここで、Ｙは４−ヒドロキシスチレンから誘導される。本発明のもう１つの実施形態は、Ｅ／Ｙ／Ｍランダムコポリマーより本質的になる組成物である。ここで、ＹはＥ／Ｙ／Ｍコポリマーの１．０超〜約２０モル％、かつ４−ヒドロキシスチレンであり、ＭはＥ／Ｙ／Ｍコポリマーの０〜４０モル％であり、かつ１つもしくはそれ以上のエチレン系不飽和モノマーであり、Ｅはエチレンである。 （もっと読む）

【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造する。
【解決手段】表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシートＷに凹凸型を密着させ、この凹凸型表面の凹凸形状をシートの表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される放射線硬化性組成物である。この放射線硬化性組成物は、所定の構造をもつアクリレート又はメタアクリレート、及び光重合開始剤を含む。 （もっと読む）

従来相反する物性である通液性と液吸い上げ特性とを両立させ、且つ液吸い上げ特性の低下が少ない吸水剤組成物を実現する。本発明の吸水剤組成物は、酸基含有不飽和単量体を重合して得られる架橋構造を有するポリカルボン酸系吸水剤を主成分とし、水不溶性の有機若しくは無機微粒子を含有する吸水剤組成物であって、（ａ）液拡散速度（ＬＤＶ）低下率が３０％以下、（ｂ）食塩水流れ誘導性（ＳＦＣ）が６０（単位：１０^−７ｃｍ^３・ｓ／ｇ）以上、（ｃ）質量平均粒子径（Ｄ５０）が２００〜４２０μｍ、（ｄ）粒度分布の対数標準偏差（σζ）が０．２５〜０．４０、（ｅ）粒子径１５０μｍ未満の粒子の割合が全体の３質量％以下、の条件を満たす。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、液浸露光によるパターン形成において、表面ラフネスの劣化が改良され、発生酸の液浸液への溶出が低減されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）少なくとも１つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有するレジスト組成物であって、（Ｂ）成分の樹脂が、その主鎖末端にパーフルオロアルキル基又はＳｉ原子を有する基を有する樹脂であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、ディスプレイデバイス性能の向上のためのディスプレイセル構造物（２０）および電極保護層を構成する組成物に関する。該組成物は、ガラス転移温度が約１００℃より低い極性オリゴマーまたはポリマー材料を含んで成り、得られるディスプレイセル構造物または電極保護層は８０ダルトン分子量当たり約１より小さい架橋点の平均架橋密度を有する。
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【課題】高感度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性と高回復率、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】
（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、
（ａ２）分子内に１つの水酸基を有する水酸基含有不飽和化合物
（ａ３）（ａ１）及び（ａ２）以外の他の不飽和化合物の共重合体に、イソシアネート化合物を反応させて得られる重合体を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】極性基を有する耐熱性に優れた重合体およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】下式（１）で表される重合体。


（Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は元素の周期表第１６族の原子を表し、Ｒ¹およびＲ²は水素原子または炭化水素基を表し、Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴、Ａ⁵、Ａ⁶、Ａ⁷、Ａ⁸、Ａ⁹およびＡ¹⁰は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、２置換アミノ基、または炭化水素チオ基を表す。） （もっと読む）

【課題】 ラテックス状態のポリマーをニトロキシドフリーラジカルを有する化合物により変性する。
【解決手段】 ラテックス状態のポリマーに、常温で酸素の存在下に安定なニトロキシドフリーラジカルを分子中に有する化合物を反応させることによって得られる、ポリマー分散質に前記フリーラジカルに由来する有機基が導入された、ラテックス状態の変性ポリマー及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 光照射により配向規制力を発現させることが可能な光配向膜と、液晶性化合物を含んでなる光学機能層を備えた光学素子であって、光配向膜と光学機能層との間の密着性を高めるとともに各層の耐久性を向上させることができる光学素子を提供する。
【解決手段】 少なくとも支持体、光照射により配向規制力を発現させることが可能な光配向膜、及び液晶性化合物を含んでなる光学機能層を含む光学素子である。該光配向膜は、エポキシ基、オキセタニル基、及び、ビニルオキシ基から選ばれた１種以上の基を有する化合物を含む光配向膜形成用組成物から形成されたものであり、該光学機能層は、エポキシ基、オキセタニル基、及び、ビニルオキシ基から選ばれた１種以上の基を有する化合物を含む光学機能層形成用組成物から形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】高純度の（メタ）アクリル酸系水溶性重合体を工業的に容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸系水溶性単量体を水溶液重合して（メタ）アクリル酸系重合体を製造するに際し、重合後の反応液中の重合体の単量体換算濃度が３８〜７２重量％となるのに必要な（メタ）アクリル酸系水溶性単量体、重合開始剤及び次亜リン酸（塩）を水性媒体中に逐次導入して重合した後、中和する。このとき、上記（メタ）アクリル酸系水溶性単量体に加えて、全単量体に対して３０モル％未満である、不飽和スルホン酸系単量体を除く、（メタ）アクリル酸系水溶性単量体以外の他の単量体を用いる。 （もっと読む）

【課題】極性基を有する耐熱性に優れた共重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下式で表される単位と、エチレン単位および／またはα−オレフィン単位とからなる共重合体およびその製造方法。


（Ｘ¹〜Ｘ⁴は周期表第１６族の原子を、Ｒ¹およびＲ²は水素原子または炭化水素基を、Ａ¹〜Ａ¹⁰は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、２置換アミノ基、または炭化水素チオ基を表す。） （もっと読む）

１種以上のビニル官能性カチオン性モノマー、１種以上の、炭素長４以下のアルキル側鎖を有する水不溶性又は疎水性ビニルモノマー、及び場合によっては、少量の、炭素原子数が４よりも大きい線状又は分岐鎖アルキル基、アルキルヒドロキシ、ポリオキシアルキレン、又は他の官能基を有する１種以上のビニルモノマーを溶液共重合することによるイオン誘発性カチオン性ポリマーの製造方法。溶液重合は、アセトンのような有機溶媒及び水の混合物中における遊離基重合によって行う。重合が完了したら、好ましくは有機溶媒を連続プロセスによって除去する。連続プロセスは、好ましくはプレート式蒸発器システムを用いて行う。 （もっと読む）

少なくとも滴下プレートの下面が少なくとも部分的に、滴下されるべき液体に対して少なくとも６０゜の接触角を有する、滴下プレートを用いた液体の滴下法。 （もっと読む）

本発明は、ａ）（ｉ）モノマーを（ｗ＋ｚ）モル当量；（ｉｉ）式（ＩＸ）の開始剤化合物を１モル当量、その中のＢ^３はハロゲンを表し、Ｂ^２はＨまたはハロゲンを表し、Ｙ^１は抗体またはその断片の残基を付着できるか、そのような基に転換できる基を表し、Ｌはリンカー基を表し、ｙは１，２か３、ｗは少なくとも１でｚは０以上；（ｉｉｉ）複数のモノマーの重合を触媒作用して櫛形ポリマーにすることができる触媒を供与し；そしてｂ）当該触媒につき当該開始剤との組合せで複数のモノマー（ｉ）の重合を触媒させ櫛形ポリマーを製造する工程を含んでいる、櫛形ポリマーを製造するための製造方法を提供する。
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【課題】電子デバイスなどに用いられる、誘電率、機械強度等の特性が良好であり、不溶物の析出がなく均一であり、面状が良好な塗膜を形成できる重合体および膜形成用組成物、該組成物を用いてい形成した絶縁膜及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される化合物を重合促進剤の存在下で重合して得られることを特徴とする重合体、該重合体を含有する膜形成用組成物、該組成物を用いて形成した絶縁膜及び電子デバイス。


式中、Ｒ¹及びＲ²は炭素-炭素三重結合を含む置換基、Ｘ¹及びＸ²は炭素-炭素三重結合を含む置換基以外の置換基、l及びｍは０〜１５、ｐ及びｎは０〜１４の整数を表す。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、第四級アンモニウムの繰り返し単位を有し且つポリマーを非晶質化して導電性を向上させるに十分な量の可塑化物質を含むイオン導電性固相ポリマーを提供する。好ましくは支持体を設け、その支持体内又は上にイオン導電性固相ポリマーを配置して構造体とする。更に好ましくは、支持体を多孔性膜とし、第四級アンモニウムのモノマーを支持体の孔内に浸漬又は吸収させてその位置で重合させることにより、イオン導電性膜を製造する。この導電性膜は様々な技術に応用できるが、例えば燃料電池において利用することができる。 （もっと読む）

【課題】 特に弾性率が低く、応力緩和特性に優れる半導体用ダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料、及び特に耐半田クラック性等の信頼性に優れた半導体装置を提供することである。
【解決手段】 本発明は、一般式（１）に示される構造と少なくとも一つの重合可能な不飽和結合とを有する化合物（Ａ）、重合開始剤（Ｂ）、及び充填材（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物であり、好ましくは、一般式（１）に芳香族を含まない構造である。 （もっと読む）