【課題】 特に弾性率が低く、応力緩和特性に優れる半導体用ダイアタッチペースト又は放熱部材接着用材料、及び特に耐半田クラック性等の信頼性に優れた半導体装置を提供することである。
【解決手段】 本発明は、一般式（１）に示される構造と少なくとも一つの重合可能な不飽和結合とを有する化合物（Ａ）、重合開始剤（Ｂ）、及び充填材（Ｃ）を含むことを特徴とする樹脂組成物であり、好ましくは、一般式（１）に芳香族を含まない構造である。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性、塗工性及び耐久性に優れ、かつ、より高屈折率の硬化物を与える、フッ素含有率の高いエチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体、及びその製造方法、並びにそれを用いた硬化性樹脂組成物及び反射防止膜の提供。
【解決手段】パーフルオロプロピルビニルエーテル等のパーフルオロアルキルビニルエーテルと、ヒドロキシアルキルビニルエーテルと、パーフルオロアルキル基含有アルキルビニルエーテルから水酸基含有含フッ素共重合体（Ａ）を合成する。アゾ基含有ポリシロキサンを共存させ、共重合体（Ａ）にポリシロキサン構造を導入した共重合体（Ｂ）は耐擦傷性が向上する。共重合体（Ａ）または（Ｂ）とアクリル酸（ハロゲン塩）を反応させエチレン性不飽和基含有含フッ素共重合体（Ｃ）を合成する。共重合体（Ｃ）はその溶液を塗布した後、紫外線硬化させることにより低屈折率の反射防止膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 多層の追記型光ディスクの半透明反射層と色素記録層の間で使用され、信号の書き込み時にレーザー光により加熱された場合であっても、信号の読み取りエラーを発生させることのない樹脂層を形成することが可能な光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供する。
【解決手段】
ラジカル重合性化合物を含有する光ディスク用紫外線硬化型組成物であって、（１）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合と多環式構造を有する化合物Ａ、（２）同一分子内にラジカル重合性の不飽和二重結合とイソシアヌレート環の３価の部分構造を有する化合物Ｂ、及び（３）３以上の（メタ）アクリロイル基を有し、且つ該（メタ）アクリロイル基１個当たりの分子量が２５０以下である化合物Ｃを含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。 （もっと読む）

本発明は、ポリマーの質量に対して、１種以上の式（Ｉ）［式中、Ｒは、水素又はメチルであり、Ｒ^１は、７〜３０個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表わし、Ｒ^２及びＲ^３は、独立して、水素又は式 −ＣＯＯＲ’ の基であり、ここで、Ｒ’は、水素又は７〜３０個の炭素原子を有するアルキル基を表わす］のエチレン系不飽和エステル化合物から誘導される繰返し単位５０〜１００質量％を包含するポリマーに関し、この際、ポリマーは、３〜２１個のアームを有するスターポリマーであり、かつアームの少なくとも３個は、アームの質量に対して、１種以上の式（Ｉ）［式中、Ｒは、水素又はメチルであり、Ｒ^１は、７〜３０個の炭素原子を有する直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表わし、Ｒ^２及びＲ^３は、独立して、水素又は式 −ＣＯＯＲ’ の基であり、ここで、Ｒ’は、水素又は７〜３０個の炭素原子を有するアルキル基を表わす］のエチレン系不飽和エステル化合物から誘導される繰返し単位少なくとも４０質量％を包含する。更に、本発明は、本発明によるポリマーを包含する油組成物に関する。高粘稠化作用の本発明によるポリマーは、殊に、粘性変性剤、流動点改善剤、分散剤及び／又は摩擦変性剤として使用され得る。
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【課題】親水性のシェルと疎水性のコア構造を有する単分散粒子を、簡易かつ再現性よく、短時間でしかも高い収率性で得ることができる、コア−シェル型ポリマー粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の製造方法は、ポリエチレングリコール鎖又はホスホリルコリン基を有する親水性モノマーと、それらと共重合可能な疎水性モノマーとからなる重合性材料を、溶媒に溶解又は分散させ、濃度１〜４０質量％の重合性溶液を調製する工程(A)、該重合性溶液にマイクロ波を照射して共重合させる工程(B)、及び得られた共重合物から平均粒径０．０５〜１０μｍの単分散のコア−シェル型ポリマー粒子を精製する工程(C)とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

ニトロキシル媒介制御フリーラジカル重合により得られ、それによって過剰量のアクリレートが存在する、式（Ｉ）：Ｉｎ−[(Ａ)_x−(Ｂ)_y−(Ａ′)_x′−(Ｅ)_z]_n〔式中、Ｉｎは、重合反応を開始する開始剤フラグメントであり：Ａ及びＡ′は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルエステル、アクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）ヒドロキシアルキルエステル、メタクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルエステル、メタクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）ヒドロキシアルキルエステル、アミノ、（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルアミノ、（Ｃ_１〜Ｃ_２２）ジアルキルアミノ、−ＳＯ_３Ｈ、エポキシ、フルオロ、ペルフルオロ若しくはシロキサン基で置換されているアクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルエステル又はメタクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルエステル、スチレン、置換スチレン、アクリルアミド及びメタクリルアミド、Ｎ−モノ（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルアクリルアミドからなる群より選択される同一又は異なるモノマーであるが、但し、非置換アクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルエステル及び／又はメタクリル酸（Ｃ_１〜Ｃ_２２）アルキルエステルの量は、モノマー混合物全体の重量に基づいて３０重量％を越えており；Ｂは、２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する少なくとも１つの多官能モノマーであるが、但し、これらのエチレン性不飽和結合の少なくとも一方は、高反応性二重結合であり、他方は、低反応性二重又は三重結合であり；Ｅは、酸素原子を介してポリマー若しくはコポリマーに結合している少なくとも１つの安定したフリーニトロキシルラジカルを担持する基、又は結合している安定したフリーニトロキシルラジカルの置換若しくは脱離反応によりもたらされる基であり；ｘ及びｘ′は、独立して０又は５〜５０００の数であり；ｙは、５〜５０００の数であり；ｚは、モノマー配列（Ａ）_ｘ−（Ｂ）_ｙに結合している末端基Ｅの平均数を示す、１又は１を越える数であり、好ましくは、ｚは１であり；ｎは、１〜２０の数、好ましくは１である〕で示されるポリマー。 （もっと読む）

環境に敏感なデバイスをカプセル化する方法である。本方法は、基板を提供すること；少なくとも１個の環境に敏感なデバイスを該基板に隣接させて配置すること；および、少なくとも１つの積重ね遮断物を該環境に敏感なデバイスに隣接させて付着させることを含み、ここで、該積重ね遮断物の少なくとも１つは、少なくとも１つの遮断層、および、少なくとも１つの減結合ポリマー層を含み、ここで、該減結合ポリマー層の少なくとも１つは、少なくとも１種のポリマー前駆体から作製され、ここで、該減結合ポリマー層は、以下のうち少なくとも１つ：極性領域の数が少ないこと；充填密度が高いこと；Ｃ−Ｃ共有結合よりも弱い結合エネルギーを有する領域の数が少ないこと；エステル部分の数が少ないこと；該ポリマー前駆体の少なくとも１種のＭｗが大きいこと；該ポリマー前駆体の少なくとも１種の鎖長が長いこと；または、Ｃ＝Ｃ結合の変換が少ないことを有する。またカプセル化された環境に敏感なデバイスも説明される。
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【課題】 新規な、耐熱性に優れた多孔性強塩基性アニオン交換体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 スチレン系重合体において、４級アンモニウム塩基を有する構造単位及び不飽和炭化水素基含有架橋性モノマーから誘導される構造単位を含有し、比表面積が１〜５００ｍ^２／ｇであることを特徴とする多孔性強塩基性アニオン交換体。 （もっと読む）

超低汚損スルホベタインおよびカルボキシベタイン材料、スルホベタインおよびカルボキシベタイン材料で被覆した超低汚損表面および表面を作製する方法、および超低汚損表面を有する装置。１つの実施形態において、本発明は、スルホベタインまたはカルボキシベタイン材料の単分子層を含む表面を有する基材を提供する。この基材は、前記表面が約１ｎｍ^２より大きな欠陥を有さず、約３０ｎｇ／ｃｍ^２未満のフィブリノゲン吸着を有する。別の実施形態において、本発明は、低汚損表面を作製するための方法を提供する。この方法は、（ａ）基材表面にラジカル開始剤を末端に持つ単分子層を形成すること；および（ｂ）ラジカル開始剤を末端に持つ単分子層上で、スルホベタインまたはカルボキシベタインであるモノマーを重合することを含む。
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本発明は、メルトブローンプロセスにより製造されたプロピレンベースの不織層、およびそのような層を組み込んだ積層品に関する。本発明のメルトブローン層は、５０パーセント未満の結晶化度を有することを特徴とするプロピレンコポリマーを含む。本発明のメルトブローン層は、伸展性および引張強さの改善された組み合わせ特性を示す。本発明の積層構造は、低い曲げ係数と高い剥離強度との組み合わせ特性により特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂組成物の樹脂成分として用いた場合、レジスト性能に悪影響を及ぼさないような高分子化合物を得る。
【解決手段】 本発明のフォトレジスト用高分子化合物は、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物であって、ポリマー中の不純物としてのモノマー含有量が２重量％以下であることを特徴とする。このようなフォトレジスト用高分子化合物は、例えば、酸の作用によりアルカリ可溶性となるフォトレジスト用高分子化合物の溶液を、口径６ｍｍφ以下のノズルから貧溶媒中に供給して沈殿又は再沈殿させることにより製造できる。 （もっと読む）

【課題】 指紋等の汚れが付着しにくく、また、汚れが付着した場合でも容易に除去することが可能な、優れた汚れ防止機能や汚れ払拭性を有する表面保護層を形成できる紫外線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 本発明は、光硬化性化合物と適度な相溶性を有し、且つ、光硬化性化合物と反応する構造を側鎖構造として有する特定構造のシリコーン化合物を含有する紫外線硬化型樹脂組成物により、硬化被膜表面全体にわたってシロキサン構造を高い存在確率で、強固に固定化された硬化皮膜を形成できる。これにより、本発明の紫外線硬化型組成物は、優れた防汚性や汚れの払拭性を実現でき、また、長期間経過後や、高温高湿環境下で放置された際にも安定した防汚性を発現することができる。 （もっと読む）

エチレン、アルキル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、および任意のコモノマーに由来するモノマー単位を含む高メルトインデックス・エチレン酸コポリマーを含むかまたは本質的にそれからなる組成物が開示される。ポリアミン、多価金属塩、またはそれらの組み合わせで架橋されたエチレン酸コポリマーを含む組成物もまた開示される。基材への溶液塗布のために使用することができるエチレン酸コポリマーの溶液もまた開示される。 （もっと読む）

【課題】
実質的に均一な粒子径と均一な発色性を有し、微粒子中からのフォトクロミック染料の溶出が極めて低く、塗料やインキ等として好適に用いることの出来る単分散フォトクロミック染料内包既架橋微粒子を提供する。
【解決手段】
非架橋性エチレン性不飽和単量体（A）と架橋性エチレン性不飽和単量体（B）とを、前記単量体に溶解する染料存在下、溶剤中で、特定の構造を有する重合開始剤を用いて重合させてなる単分散フォトクロミック染料内包既架橋微粒子。 （もっと読む）

１つ以上の難燃剤添加物を使用することにより、スチレン系ポリマーフォーム、特に発泡および／または押出スチレン系ポリマーフォームが難燃化される。これらの添加物は、ｉ）エーテル基が臭素を含有せず、エーテル基の少なくとも１つがアリル基である、テトラブロモビスフェノール−Ｓのジエーテル；ｉｉ）エーテル基の少なくとも１つが臭素を含有する、テトラブロモビスフェノール−Ｓのジエーテル；ｉｉｉ）環上に合計６個の置換基を有し、置換基の少なくとも３個が臭素原子であり、置換基の少なくとも２個がＣ_１−４アルキル基である、置換ベンゼン；ｉｖ）トリブロモネオペンチルアルコール；ｖ）各ジブロモアルキル基が独立に３から８個の炭素原子を含有する、トリス（ジブロモアルキル）ベンゼントリカルボキシレート；ｖｉ）部分水素化および／またはアリール末端である臭素化ポリブタジエン；ｖｉｉ）少なくとも１つのノボラックの臭素化アリルエーテル；ｖｉｉｉ）臭素化ポリ（１，３−シクロアルカジエン）；ｉｘ）臭素化ポリ（４−ビニルフェノールアリルエーテル）；ｘ）臭素化Ｎ，Ｎ’−フェニレンビスマレイミド；ｘｉ）臭素化Ｎ，Ｎ’−（４，４’−メチレンジフェニル）ビスマレイミド；ｘｉｉ）臭素化Ｎ，Ｎ’−エチレンビス−マレイミド；ｘｉｉｉ）エチレンビス（ジブロモノルボルナン−ジカルボキシイミド）；ｘｉｖ）テトラブロモビスフェノール−Ａ；またはｘｖ）ｉ）からｘｉｖ）までの任意の２つ以上の組み合わせ物である。 （もっと読む）

【課題】貯蔵弾性率（Ｇ'）が高く且つ損失正接（tanδ）が小さいゴム組成物を提供する。
【解決手段】天然ゴム及び合成ジエン系ゴムの内の少なくとも一種からなるゴム成分（Ａ）100質量部に対して、芳香族ビニル化合物量が5〜80質量％で、共役ジエン化合物部分のビニル結合量が5〜80質量％で、ゲル浸透クロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算重量平均分子量が5,000〜500,000で且つ少なくとも一つの窒素含有官能基を有する低分子量芳香族ビニル化合物−共役ジエン化合物共重合体（Ｂ）2〜60質量部を配合して、ゴム組成物を構成する。 （もっと読む）

本発明は、光開始剤の存在下で、ＵＶ照射により少なくとも１種のアニオン性モノマーを硬化させることにより形成される多孔質膜であって、該膜が少なくとも０．１ｍｅｑ／ｍ²、好ましくは０．３〜５ｍｅｑ／ｍ²の負電荷を含む、多孔質膜に関する。本発明は、更にこれらの多孔質膜が使用された画像記録材料に関する。 （もっと読む）

本発明は、非フッ素化界面活性剤を用いた水性媒体中でのモノマー、特にフルオロモノマーの重合方法、及び生成されるフルオロポリマーに関する。特定的には、この重合方法は、ポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、ポリビニルスルホン酸及びそれらの塩より成る群から選択される１種以上の非フッ素化界面活性剤を用いる。追加的に、水性フリーラジカル重合における界面活性剤としてポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、ポリビニルスルホン酸を使用することもまた新規である。 （もっと読む）

好ましくはホスフェート官能基を有する官能化フルオロポリマーを金属酸化物含有ゴム基材上に被覆することが可能である。この被膜は、加熱後に、ゴムの劣化がなくてフルオロポリマーとゴムとの間の良好な粘着力を有するフルオロポリマー−ゴム基材積層物をもたらす。 （もっと読む）

【課題】 みずみずしさとコク感を併せ持つ優れた使用感を有し、皮膚への柔軟性付与効果にも優れ、しかも経時安定性に極めて優れた皮膚化粧料を提供すること。
【解決手段】 （ａ）有機溶媒若しくは油分を分散媒とし、水を分散相とする組成物において、水溶性エチレン性不飽和モノマーを分散相に溶解し、分散相中にてラジカル重合して得られるミクロゲルからなる増粘剤と、
（ｂ）硬化ヒマシ油と高級脂肪酸とのエステル
とを含有することを特徴とする皮膚化粧料。 （もっと読む）