高粘度シリコーンポリマーを含む水中シリコーン型エマルジョンを製造する方法および装置を提供する。種々の態様において、ポリオルガノシロキサンを高粘度シリコーンポリマーに重合し、次いで、連続方法で乳化させる。この場合において、本方法を、単一の装置を用いて実行する。ある態様では、提供する装置は、ポリオルガノシロキサンを高粘度シリコーンポリマーに重合し、次いでこのポリマーを乳化させる押出機である。
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【課題】 ハロゲン化合物（特に三フッ化ホウ素系触媒）を硬化触媒として使用した硬化性シリコーン系樹脂組成物において、硬化性を安定させ、硬化遅延を低減させること。
【解決手段】 分子内に架橋性シリル基を有する硬化性シリコーン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、表面処理された炭酸カルシウム粉（Ｂ）５．０〜３００質量部、分子内に架橋性シリル基及びアミノ基を有するアミノシラン化合物（Ｃ）０．１〜３０質量部、及び、三フッ化ホウ素系触媒（Ｄ）０．００１〜１０質量部を含有することを特徴とする硬化性シリコーン系樹脂組成物を用いる。硬化性シリコーン系樹脂（Ａ）としては、分子内にウレタン結合を有するもの、架橋性シリル基がトリアルコキシシリル基であるものが好ましく、炭酸カルシウム粉（Ｂ）における表面処理剤は、カルボン酸であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン化合物（特に三フッ化ホウ素系触媒）を硬化触媒として使用した硬化性シリコーン系樹脂組成物において、硬化性を安定させ、硬化遅延を低減させること。
【解決手段】 分子内に架橋性シリル基を有する硬化性シリコーン系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、平均粒子径が１００ｎｍ以上の炭酸カルシウム粉（Ｂ）５．０〜３００質量部、分子内に架橋性シリル基及びアミノ基を有するアミノシラン化合物（Ｃ）０．１〜３０質量部、及び、三フッ化ホウ素系触媒（Ｄ）０．００１〜１０質量部を含有することを特徴とする硬化性シリコーン系樹脂組成物を用いる。硬化性シリコーン系樹脂（Ａ）としては、分子内にウレタン結合を有するもの、架橋性シリル基がトリアルコキシシリル基であるものが好ましく、炭酸カルシウム粉（Ｂ）は、表面処理されたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】環境汚染や性能劣化をもたらすハロゲン系や燐系の難燃剤を使用することなく、これらの難燃剤を使用した場合と同等の厳しい難燃レベルを満たすことができる有機樹脂難燃化用添加剤と、機械的特性、成形性や外観に優れた難燃性ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形品を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接結合したフェニル基、及び炭化水素基（但し、ヘテロ原子を含んでいてもよい）を介してケイ素原子に結合したスルホン酸アルカリ金属塩基又はスルホン酸アルカリ土類金属塩基を有し、更にケイ素原子が酸素原子を介してリグニンと結合しているシリコーン変性リグニン化合物からなることを特徴とする有機樹脂難燃化用添加剤。 （もっと読む）

本発明は、ビニル水素ポリシロキサンを提供する。このビニル水素ポリシロキサンは、少なくとも２個のケイ素に結合した水素原子と、少なくとも２個のケイ素に結合したビニル基とを有するオルガノポリシロキサンとを含む。このビニル水素ポリシロキサンのケイ素原子の総数の割合として、ケイ素原子の約２５％から約９０％が水素原子と結合し、かつ約１０％から約４５％がビニル基と結合している。ケイ素に結合した水素基の数の、ケイ素に結合したビニル基の数に対する比は、約１．３から約６である。本発明は、少なくとも１種のビニル水素ポリシロキサンおよびヒドロシリル化触媒を含むシリコーン組成物；少なくとも１種のビニル水素ポリシロキサンの硬化生成物を含むシリコーン接着剤；および少なくとも１種の当該シリコーン接着剤を含む積層体も提供する。高温または直火に曝されると、これらのビニル水素ポリシロキサンは、チャーを形成し、種々の基材への接着を保持する。
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【課題】低比誘電率であり且つ高弾性率な層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、（Ａ）下式（１）で表される有機ケイ素化合物（ａ１）と、下式（２）で表される有機ケイ素化合物（ａ２）と、を含む加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られるポリシロキサン、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、（Ｃ）酸拡散抑制剤、及び（Ｄ）溶剤を含有する。


〔式中、Ｒ^１は炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数である。Ｒ^３は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シアノ基、シアノアルキル基又はアルキルカルボニルオキシ基を表し、Ｒ^４は１価の有機基を表し、ｂは１〜３の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】 屈折率が低く、耐摩耗性に優れ、水に対して安定なシリカ多孔質体、および、それを用いた光学用途積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系組成物からシリカ多孔質体を製造する製造方法であって、該組成物が、下記（Ａ）〜（Ｅ）を含み、該組成物中の全アルコキシシラン類由来の珪素原子に対する水の割合（ｍｏｌ／ｍｏｌ）が１０以上５０以下であって、該組成物を膜厚が０．０５〜０．５μｍになるように膜化し、１００℃〜２００℃で加熱した後、更に３００℃〜７００℃で加熱する。
（Ａ）：下記（ａ）及び／又は（ｂ）
（ａ）少なくともテトラアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるテトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種、並びにテトラアルコキシシラン類以外のアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなる他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種
（ｂ）該テトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種及び他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種の部分縮合物
（Ｂ）：水
（Ｃ）：有機溶媒
（Ｄ）：触媒
（Ｅ）：有機ポリマー （もっと読む）

【課題】
モールドを離型した後にクラックが発生せず、当該モールドのパターン痕が残る膜が得られ、さらに高弾性率の膜を形成可能な、光インプリント用被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】
（Ａ）成分：少なくとも１種の所定の加水分解性シランの加水分解縮合物、又は前記加水分解性シランの加水分解物と前記加水分解縮合物との混合物、（Ｂ）成分：重合性基を少なくとも２個有する化合物、及び（Ｃ）成分：光重合開始剤を含み、必要に応じてさらにその他の成分を含む光インプリント用被膜形成用組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】シリコーン系組成物を硬化してなる硬化物が、高温高湿条件下においても白濁することなく、高い透明性を維持することが可能となる技術を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一分子中にアルケニル基を少なくとも２つ有するオルガノポリシロキサン（Ｂ）一分子中にヒドロシリル基を少なくとも２つ有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｃ）シリコーン系重合体粒子（Ｄ）ヒドロシリル化触媒、（Ｅ）一分子中にケイ素原子に直接結合したアルコキシ基を２つ有するシランカップリング剤、及び（Ｆ）ほう素系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤およびジルコニウム系カップリング剤から選ばれる少なくとも１種、を含有することを特徴とするシリコーン系組成物。 （もっと読む）

本発明は、本質的に有機溶剤不含で、かつ架橋の際にも本質的にアルコールを遊離しないトリス−シリル化アミノ官能性ケイ素化合物をベースとする水性組成物及びその製造法、及び金属表面、ガラス表面又は鉱物表面、例えば、コンクリート及び煉瓦を疎水化するための、定着剤としての又は特に岩石を固定するためのその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、ａ）少なくとも１つの無機相または有機金属相と、ｂ）有機ポリマー相とで構成されたナノ複合材料を製造するための方法に関する。前記方法は、金属または半金属Ｍを含む少なくとも１つの第１の重合性モノマー単位Ａと、共有化学結合を介して重合性単位Ａに結合された少なくとも１つの第２の重合性有機モノマー単位Ｂとを含む少なくとも１つのモノマーＭを、両重合性モノマー単位Ａおよび重合性単位Ｂが重合すると同時にＡとＢの結合が破壊される条件で重合させることを含む。重合されるモノマーＭは、第１のモノマーＭ１と、モノマーＭ１と異なる少なくとも１つの第２のモノマーＭ２とをモノマー単位ＡまたはＢの少なくとも一方に含む（実施形態１）。あるいは、重合されるモノマーは、少なくとも１つのモノマーＭに加えて、モノマー単位Ａを含まない従来のモノマーであり、モノマー単位Ｂと共重合可能な、モノマーＭと異なる少なくとも１つのモノマーＭ’を含む（実施形態２）。 （もっと読む）

本開示は、セルロースなどのグルコースポリマー、およびセロビオースなどのオリゴマーを、その後のエタノール生成のためにグルコースに加水分解するのに有用な方法および生体模倣触媒を記載する。

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ポリシロキサン含有ポリマーの生成方法について記載する。本方法はｉ）１分子当たり少なくとも２つの縮合性基を含むシロキサン含有モノマー及び／又はオリゴマーの、ａ）１つ以上の縮合触媒並びに選択的にｂ）希釈剤（可塑剤及び／又は増量剤）及び／若しくは末端ブロック剤の一方又は両方の存在下での重縮合によりポリシロキサン含有ポリマーを調製するステップ、並びにｉｉ）必要に応じて重合プロセスを抑制するステップを含む。希釈剤は、存在する場合、得られる希釈ポリシロキサン含有ポリマー中に実質的に保持され、プロセスは少なくとも７５×１０^５Ｐａ（０．７５ＭＰａ）の圧力で行われる。 （もっと読む）

【課題】酸化チタンを含有する水溶性複合材料及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式；ＮＨ₂（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＯＬ）₃（式中、Ｌは触媒となる酸性溶液中で容易にＯＬ基がＯＨ基に変化し得る基を示す）で表される３−アミノプロピルトリアルコキシシランと、一般式；Ｔｉ（ＯＬ）₄（式中、Ｌは触媒となる酸性溶液中で容易にＯＬ基がＯＨ基に変化し得る基を示す）で表されるチタンアルコキシドとの混合物を、酸性アルコール溶液で反応させる。次いで、前記混合物を水中で重合反応させる。 （もっと読む）

ナノシリカ粒子の表面が、アルデヒド官能基を含有するシロキサン置換基で修飾され、ポリマーコーティング組成物等の組成物に容易に組み込まれる粒子を提供し、引っかき抵抗性、吸塵抵抗性、非接着性を向上させる一方で、優れた膜形成特性を維持する。新規のシリカ粒子、それらを調製するための簡素で経済的なプロセス、ならびに防塵塗料およびそれらを含有するポリマー成形組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】基体に形成されたトレンチ内にシリコン酸化物を埋め込むために使用するのに好適な溶液の保存安定性が良く、埋め込み性が高く、厚膜化ができ、かつ良好なクラック耐性を有するトレンチ埋め込み用縮合反応物、及びトレンチ埋め込み膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】ポリシロキサン化合物とシリカ粒子との縮合反応物、並びに２０℃における蒸気圧が５３０Pａ以上であり、かつ、沸点が８０℃以上１３０℃未満である有機溶媒（Ａ）、及び２０℃における蒸気圧が５３０Pａ未満であり、かつ、沸点が１３０℃以上２００℃以下である有機溶媒（Ｂ）から成る混合溶媒、又は２０℃における蒸気圧が５３０Ｐａ以上であり、かつ、沸点が１３０℃以上２００℃以下である有機溶媒（Ｃ）を含むことを特徴とするトレンチ埋め込み用縮合反応物。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性、耐摩耗性および接着性に優れ、良好な光硬化性を有し、更には経時によっても安定であり、光照射後に熱処理を施すことなく良好な光硬化性を示すポリオルガノシロキサン構造を有するグラフト重合体およびこれを利用した光重合性樹脂組成物を与える。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン構造ユニットと、側鎖に重合性二重結合を有する繰り返し単位を有する構造ユニットが硫黄原子を介して結合したポリオルガノシロキサングラフト重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】塗布法や印刷法などによって簡便に成膜することができ、有機トランジスタ用絶縁体材料に求められる低表面エネルギー、高誘電率、良絶縁性、良表面平坦性などの特徴を有する優れた有機絶縁体材料を提供し、これを適用することで、低閾値電圧、高電界効果移動度の有機薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】少なくとも基板上にゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、絶縁体層及び有機半導体層を有する有機薄膜トランジスタであって、該絶縁体層が、鎖状炭化水素基含有アルコキシシランとテトラアルコキシシランとを共加水分解・縮重合して、あるいは、鎖状炭化水素基含有アルコキシシランを加水分解・縮重合して得られる両親媒性オリゴマーを、薄膜成膜して得られるシリカ系有機無機ハイブリッド膜であることを特徴とする有機薄膜トランジスタ、その製造方法及びそれを備える装置を提供する。 （もっと読む）

アミノアルコキシ変性シルセスキオキサン（アミノＡＭＳ）、及び／または、メルカプトシランまたはブロックメルカプトシランを含むアミノｃｏ−ＡＭＳ化合物は、めっき金属ワイヤまたはめっきされていない金属ワイヤのゴムストックへの接着性を向上させる優れた接着剤である。アミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ接着剤は、全ての種類のゴムについて使用でき、コバルト、樹脂、高濃度の硫黄など（これらに限定されない）の、特別な接着性添加剤をゴム加硫物に添加する必要がない。特に、ワイヤをゴムへ結合させる接着剤としてのアミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ化合物の使用は、強化材の接着性能を向上させ、時間の経過による分解、特に熱老化及び／又は熱−酸化老化の、特に水存在下での腐食に対して耐性を有する、十分な結合を得ることができる。また、アミノＡＭＳ及び／またはアミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ化合物を含有する加硫ゴム組成物は、埋め込まれた被覆されていないスチールの、湿度老化後の接着性を、アミノアルコキシ変性シルセスキオキサンを含有しない加硫ゴム組成物と比べて、向上させた。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）