【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】
揮発性成分が少なく、各種処理剤の成分として使用してもアルコール発生量が少ないβ−ケトエステル構造を有する有機ケイ素化合物として新規なオルガノポリシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】平均組成式：
Ｙ_ａＲ^１_ｂＲ^２_ｃＳｉ（ＯＲ³）_ｄ（ＯＨ）_eＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ−ｄ−ｅ）／２}
（式中、Ｙは少なくとも一部がエノール化していてもよいβ-ケトエステル基を有する有機基、Ｒ^１はメルカプト基、エポキシ基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の官能基を含んでもよい一価炭化水素基であり、Ｒ^２は官能基を含まない一価炭化水素基、Ｒ³は一価炭化水素基、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，及びｅは、それぞれ、０．０１≦ａ≦１、０≦ｂ＜１、０≦ｃ≦２、０≦ｄ≦２、及び０≦ｅ≦１で示される数であって、かつ２≦ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＋ｅ≦３を満たす。）
で表されるオルガノポリシロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】耐アルカリ溶剤性を持つ硬化膜を作成する事が出来るポジ型感光性組成物を提供する。また、本発明の別の目的は、上記のポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】（ａ）珪素原子に結合する水素原子を含まないポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、および（ｃ）溶剤を含有し、さらに（ｄ）下記一般式（１）で表されるイソシアヌレート基を有する化合物、もしくは（ｅ）イソシアヌレート基を有して珪素原子に結合する水素原子を含まないポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素、または置換、無置換の炭素数１〜１０価の基を表す。） （もっと読む）

本発明は、以下の構成単位： (Ph(CH₂)_rSiO_(3-x)/2(OR')_x)_m、(HSiO_(3-x)/2(OR')_x)_n、(MeSiO_(3-x)/2(OR')_x)_o、(RSiO_(3-x)/2(OR')_x)_p、(R¹SiO_(3-x)/2(OR')_x)_qを備え、ここでPhがフェニル基、Meがメチル基、R'が水素原子または１〜４個の炭素原子を有する炭化水素基、Rがカルボン酸基、カルボン酸形成基又はその混合物から選択され、R¹が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値であり、前記樹脂では、mが0〜0.90の値、nが0.05〜0.99の値、oが0〜0.95の値、pが0.01〜0.5の値、qが0〜0.5の値、m＋n＋o＋p＋q≒1である、反射防止膜用のシルセスキオキサン樹脂に関連する。 （もっと読む）

【課題】 成膜温度が１２０℃〜２００℃でリーク電流値が１０^−８Ａ／ｃｍ^２以下の塗布膜が形成できるとともに、高誘電体膜との積層により低リーク電流及び高比誘電率がシリコン窒化膜と同等以上の特性が得られる誘電体層形成用塗布液及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の誘電体層形成用塗布液は、一般式Ｓｉ（ＯＲ^１）_ａ、及びＲ^２_ｂＳｉ（ＯＲ^３）_ｃで表されるＳｉアルコキシド、これらの部分加水分解物及び縮合物から選ばれる一種以上のＳｉアルコキシド誘導体を主成分として有機溶剤に溶解してなる。ここで、Ｒ^１及びＲ^３はそれぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基であり、Ｒ^２は炭素数２以上の置換基である。ａはＳｉの価数であり、ｂ、ｃはそれぞれ１以上の整数でｂ＋ｃがＳｉの価数である。 （もっと読む）

【課題】塗布性に優れ、かつ感光特性等の感光性層間絶縁膜材料としての基本的性能が十分に高い感光性樹脂組成物、この組成物を用いたシリカ系被膜の形成方法、並びにこの方法により形成されるシリカ系被膜を備える半導体装置、平面表示装置及び電子デバイス用部材を提供する。
【解決手段】（ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物と、（ｄ）成分：界面活性剤とを含有する感光性樹脂組成物。


［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】優れた反射防止効果と透明性を兼ね備えた透明被膜を形成することが可能な透明被膜塗形成用布液を提供する。
【解決手段】有機基を持つトリアルコキシシランを主原料とするシリコーン系中空粒子、反応性基を持つシリコーン化合物、アクリロイル基またはメタクリロイル基を持つ硬化性バインダーを含有する透明被膜形成用塗布液で、前記反応性基を持つシリコーン化合物の官能基当量が１０００ｇ/モル以下であり、反応性基がアクリロイル基またはメタクリロイル基である透明被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】優れた熱伝導性を有する熱伝導性組成物およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシラン、無機粒子および水を含むゾルを調製し、ゾルをゲル化させてゲルを調製し、ゲルを加熱により硬化させるゾル・ゲル法により、熱伝導性組成物を得る。この熱伝導性組成物は、無機粒子が、ポリシロキサンからなるマトリクス中に分散されており、無機粒子とポリシロキサンとが、互いに化学結合されている。そのため、無機粒子間において、それらが有する熱を、ポリシロキサンを介して分散させることができ、優れた熱伝導性を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、且つ、レジスト膜との密着性及びレジストパターンの再現性に優れると共に、現像等に用いられる現像液に対して十分な耐性を有し、レジスト除去時の酸素アッシングに対して十分なマスク性（エッチング耐性）を有するシリコン含有膜を形成できる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物等を提供する。
【解決手段】本組成物は、式（１）の化合物（ａ１）３０〜８０質量部、式（２）の化合物（ａ２）５〜６０質量部、並びに、式（３）の化合物（ａ３）及び式（４）の化合物（ａ４）のうちの少なくとも一方５〜５０質量部〔但し、化合物（ａ１）〜（ａ４）の合計を１００質量部とする。〕に由来するポリシロキサンと、溶媒と、を含有する。
（もっと読む）

【課題】 ポリシロキサンはＳｉ−Ｏ結合に起因する高透明性及び高耐熱性を活かし、更に高屈折率を示す臭素化又は塩素化ベンゼンを有機基として持った加水分解性シランを提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


〔式（１）中、Ｒ^１は式（２）：
【化２】


（式（２）中、Ｒ^４〜Ｒ^８は臭素原子、塩素原子、水素原子、又は１価の有機基である。）で表され、Ｒ^２は１価の有機基であり、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれＳｉ−Ｃ結合でケイ素原子と結合している。Ｒ^３はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示す。ａは１〜２の整数を、ｂは０〜１の整数を、ａ＋ｂは１〜２の整数を示す。〕で示される加水分解性シランであり、その加水分解物、又はその加水分解縮合物を用いることができる。 （もっと読む）

液体洗浄製品用の織物、繊維、毛髪または皮膚コンディショニング添加剤をケイ素含有ポリマーネットワークからなるシェル内にカプセル化する。 （もっと読む）

【解決手段】式（Ｉ）のオルガノポリシロキサン及び／又は式（ＩＩ）のオルガノポリシロキサンと、化学式（ＩＩＩ）の化合物を酸触媒存在下で反応させて得られる皮膜形成性オルガノポリシロキサン。
ＨＯ−［Ｒ¹₂ＳｉＯ］_n−Ｈ （Ｉ）
［Ｒ¹₂ＳｉＯ］_m （ＩＩ）
（Ｒ¹は１価炭化水素基、ｎは２〜５，０００、ｍは３〜１０。）


（ＸはＲ¹_a（Ｒ²Ｏ）_bＳｉ−Ｒ³−、１価炭化水素基、水素原子のいずれかであり、少なくとも１つはＲ¹_a（Ｒ²Ｏ）_bＳｉ−Ｒ³−である。Ｒ²は１価炭化水素基、Ｒ³は２価炭化水素基、ａは０又は１、ｂは２又は３、ａ＋ｂ＝３である。）
【効果】本発明によれば、アルコキシシランのような架橋剤を使用することなく、乾燥するだけでシリコーン皮膜を得ることができ、更にコロイダルシリカのような皮膜補強剤と硬化触媒を併用するとゴム強度、弾性のあるシリコーン皮膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】表面を結合／コーティングするための有用な組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物の構成成分として、エポキシド基に対して反応性である鎖末端当り１個超のアルコキシシリル官能基を有するプレポリマー、および、また任意選択により発泡性である接着結合およびコーティング組成物を製造するためのそれらの使用、およびそれらから製造されるポリマー性材料。 （もっと読む）

【課題】太陽電池モジュールにおける太陽電池素子の封止、光通信用の受光部の封止、発光ダイオード（ＬＥＤ）等の封止に使用されている透明封止材において、様々な被着体に対して密着性に優れ、吸湿試験、はんだリフロー試験、冷熱サイクル試験後に剥離やクラック等が発生せず、かつ外使いに問題ない程度の表面硬度を有する透明な接着・封止材料が求められている。
【解決手段】ハロゲン元素を含有する有機基で修飾され、さらに芳香環を含む炭化水素基または飽和炭化水素基のうち一つ以上で修飾されたシロキサン重合体を含む主剤と硬化剤を混合し、プラスチック基板および金属電極からなる被着体表面に塗布し、加熱硬化させる有機無機ハイブリッド透明封止材およびその製造方法。後工程および使用時の温度変化に伴う被着体からの剥離・クラックが発生せず、かつ外使いに問題ない程度の表面硬度を有する透明封止材が得られる。 （もっと読む）

ポリマー−エアロゲル複合コーティング、ポリマー−エアロゲル複合コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびにそのポリマー−エアロゲル複合材を調製する方法が提供される。例示的物品は、少なくとも１つの領域を含む表面と、その少なくとも１つの領域上に配置された、少なくとも約１４０°の水接触角および約１°未満の接触角ヒステリシスを有するポリマー−エアロゲル複合コーティングとを含むことができる。ポリマー−エアロゲル複合コーティングはポリマー、および超高水分含量触媒作用によるポリシリケートエアロゲルを含むことができ、このポリシリケートエアロゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】ＳｉＨ官能基を分解することなく分枝ヒドロシロキサンを製造するための簡単な１段階方法を提供する。
【解決手段】１以上の低分子量ＳｉＨ−官能性シロキサン、１以上の低分子量ＳｉＨ−のないシロキサン、１以上のテトラアルコキシシラン、及び任意選択により１以上のトリアルコキシシランの混合物を、水を添加し、かつ、ブレンステッド酸性イオン交換体の存在下で反応させることにより、液体状の分枝ＳｉＨ−官能性シロキサンを製造する方法（当該反応は１つのプロセス工程で行われることを特徴とする）による。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性が高い硬化物を与える熱硬化性組成物を提供する。
【解決手段】 下記式（１）で表される化合物と下記式（２）で表されるシラン化合物とを含む無機ポリマー構成成分を加水分解縮合させて得られた無機ポリマーと、水溶性多官能（メタ）アクリレートと、重合開始剤とを含む熱硬化性組成物。
Ｍ（Ｒ１）_ｎ（ＯＲ２）_４−ｎ ・・・式（１）
上記式（１）中、ＭはＳｉ、Ｔｉ又はＺｒであり、Ｒ１はフェニル基、炭素数１〜３０のアルキル基、又はエポキシ基を有する炭素数１〜３０の炭化水素基を表し、Ｒ２は炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｎは０〜２の整数を表す。
Ｓｉ（Ｒ３）_ｐ（ＯＲ４）_４−ｐ ・・・式（２）
上記式（２）中、Ｒ３は重合性二重結合を有する炭素数１〜３０の有機基を表し、Ｒ４は炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｐは１又は２を表す。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大きさが揃った薄片状物質を提供しやすい製法を提供することを課題とする。
【解決手段】薄片状金属酸化物の製法において、塗布液を微滴化する工程、微滴化された塗布液を基材に吹き付けて基材上に塗布液を塗着させる工程、塗着された塗布液を乾燥させて薄片状物質の前駆体を形成する工程、及び該前駆体を基材から剥離させる工程を有するものとし、微滴化される塗布液は、塗布液中に８〜４０重量％の固形分と残部の溶媒とを有し、該溶媒は沸点が１３０℃以上の有機溶媒と酸性水溶液とを含有し、前記固形分は金属酸化物オリゴマーを有し、該金属酸化物オリゴマーはポリスチレン換算の重量平均分子量で５００〜５００００とすること。 （もっと読む）

【課題】硬化性及び分散性に優れる複合微粒子およびその簡便な製造方法の提供。
【解決手段】この複合微粒子は、無機コア粒子と、この無機コア粒子の表面に結合した有機ポリマーとを備える。有機ポリマーは、側鎖に重合性官能基を有している。重合性官能基は、複合微粒子の表面に露出している。複合微粒子の単位質量に対する重合性官能基の量は、０．００５ｍｍｏｌ／ｇ以上０．１ｍｍｏｌ／ｇ未満である。好ましくは、複合微粒子では、上記有機ポリマーはアクリル系ポリマーであり、上記重合性官能基はエチレン性不飽和基である。複合微粒子は、（１）活性水素を有する官能基及びポリシロキサン基を側鎖に有する含珪素ポリマーと、重合性官能基及び活性水素と反応する官能基を有する化合物とを反応させる工程と、（２）その反応生成物と、加水分解により金属酸化物を生成しうる金属化合物とを反応させる工程とを含む製造方法で製造される。 （もっと読む）

本発明は、プロトン化したアミンの塩又は第４級アンモニウム化合物である界面活性剤と、塩酸水溶液と、加水分解物、Ｄ_５又はＤ_６であるシリコーンとを、接触及び加熱する工程を備える方法を用いた、環状及び線状ポリシロキサンの再配分に関する。本発明の方法がシリコーン加水分解物を用いて実施されるとき、再配分の前に、前記シリコーン加水分解物を、線状及び環状成分に分ける必要がない。 （もっと読む）