【課題】保存安定性に優れるとともに、レジスト下層膜としての硬化膜がレジスト被膜との高い密着性、レジスト被膜及び被加工基板に対する優れたエッチング選択比並びに低反射性等を備えることで、優れたパターン形成性を発揮することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］ポリシロキサン、［Ｂ］下記式（１）で表される化合物、
［Ｃ］有機酸、及び［Ｄ］有機溶媒を含むレジスト下層膜形成用組成物である。


（式（１）中、Ｒ^１は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数１〜８のヒドロキシアルキル基である。Ａ^ｂ−は、ｂ価の有機酸アニオンである。ｂは、１又は２である。） （もっと読む）

【課題】本発明の課題は吐出ノズル式塗布法に好適であって、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性（膜厚均一性）及び高速塗布を達成でき、かつ透明性、耐擦傷性に優れる保護膜及び層間絶縁膜としての硬化膜を形成可能なシロキサンポリマー組成物を提供することである。
【解決手段】［Ａ］ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、［Ｂ］ラジカル重合開始剤、及び［Ｃ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が５質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含むシロキサンポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】キチン又はキトサンのナノファイバーを補強繊維として用いた透明複合材であって、広い範囲の樹脂屈折率において高い透明性を発揮でき、フレキシブルであり、機械強度、軽量性、表面平滑性、耐熱性、耐ＵＶ性等を発揮する新規複合材を提供する。
【解決手段】少なくとも３官能のものを含むアルコキシシラン又は少なくとも３官能のものを含むクロロシランを酸性又はアルカリ性条件下で加水分解、縮合し、得られた反応混合物から得られるラダー型又はランダム型を主とする硬化性シリコン樹脂混合物を、キチンナノファイバー及びキトサンナノファイバーから選択される少なくとも１種のナノファイバーに含浸させてなるナノファイバー補強透明複合材。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性、ＵＶ遮蔽性、耐候性を兼ね備え、更に硬度、透明性、密着性に優れ、且つ長期間の屋外暴露後においても劣化が少ない耐候性に優れる自動車グレージング用プラスチック基材を提供する。
【解決手段】アルコキシシリル基を有するベンゾフェノンの反応生成物及び／又はその（部分）加水分解物を含有する耐候性に優れたハードコート剤と、紫外線吸収性の官能基を共重合したポリマーからなるプライマー層を組み合わせた、プラスチック基材上に塗工され、加熱硬化されることにより、耐候性、耐摩耗性、密着性に優れた塗膜を形成する組成物を被覆した自動車グレージング用プラスチック基材。 （もっと読む）

【課題】湿熱環境下における接着耐久性に優れる太陽電池保護シートの提供。
【解決手段】表面処理を施されたポリマー基材と、前記ポリマー基材上に設けられた厚みが０．８μｍ〜１２μｍであり、かつ、複合ポリマーを含む少なくとも一層のポリマー層を有し、前記複合ポリマーが分子中に下記式で表されるポリシロキサン構造単位と非ポリシロキサン系構造単位とを含む太陽電池保護シート（式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または１価の有機基を表し、ｎは１以上の整数を表す。Ｒ^１およびＲ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。複数のＲ^１は互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＲ^２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）。
（もっと読む）

【課題】シロキサンブロック間に新たな官能基が導入された構造を有し、目的とする共重合体中に分散させると、前記共重合体の物性調節が可能となるビスヒドロキシアリールシロキサンおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるビスヒドロキシアリールシロキサン。


（前記式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ａ、Ｚ、Ｙ、およびｎは明細書中で定義した通りである。） （もっと読む）

【課題】硬化前は適度な粘度であり、硬化後は耐熱性及び耐光性に優れ、厚膜でもクラック耐性が良好な光硬化型樹脂硬化物を与える樹脂組成物及び該樹脂組成物の材料を提供する。
【解決手段】ポリシロキサン化合物（ａ）とシリカ粒子（ｂ）とを含む反応成分が縮合されてなる構造を有し、メタクリロイル基、アクリロイル基及びスチリル基からなる群から選択される光ラジカル重合可能な不飽和炭素二重結合基を有する、シリカ粒子含有縮合反応物。 （もっと読む）

【課題】
耐熱性、透明性に優れ、高い接着力を有する硬化物が得られる光素子固定材用組成物、その使用方法及び光素子封止体を提供する。
【解決手段】
（Ａ）式：ＣＨ（Ｒ^１）（Ｘ^０）−Ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^２）_ｐ（Ｘ^１）_３−ｐで表されるシラン化合物（１）、式：Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_ｑ（Ｘ^２）_３−ｑで表されるシラン化合物（２）、及び、式：Ｓｉ（ＯＲ^５）_ｒ（Ｘ^３）_４−ｒで表されるシラン化合物（３）、を含むシラン化合物混合物〔式中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｘ^０はハロゲン原子、シアノ基又は式：ＯＧで表される基（Ｇは水酸基の保護基）を、Ｄは単結合又は連結基を、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５は炭素数１〜６のアルキル基を、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３はハロゲン原子を、ｐ、ｑは０〜３の整数を、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を、ｒは０〜４の整数を表す。〕であって、前記シラン化合物（１）〜（３）を、モル比で［シラン化合物（１）＋シラン化合物（２）］：［シラン化合物（３）］＝１００：１５〜１００：８５となる割合で含有するものを縮合させて得られるシラン化合物共重合体、（Ｂ）エポキシ化合物、（Ｃ）硬化剤、並びに（Ｄ）硬化触媒を含有する光素子固定材用組成物；その使用方法；並びに光素子封止体。 （もっと読む）

【課題】 レジスト下層膜形成用に適し、レジスト膜との密着性に優れるシリコン含有膜を形成することができると共に、耐レジスト現像液性及び耐酸素アッシング性を有し、かつ現像時にレジスト残りが少なく、レジストパターンの形状が良好で倒れが少ないポリシロキサン組成物と、レジストパターンの形状が良好で倒れが少なく、微細化が可能なパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ポリシロキサン、並びに（Ｂ）窒素含有複素環構造と、極性基及びエステル基から選ばれる少なくとも一種とを有する化合物を含むことを特徴とするポリシロキサン組成物と、酸拡散制御剤を有するポリシロキサン組成物から得られるレジスト下層膜を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性（耐熱透明性）、感度、屈折率、表面硬度及び耐擦傷性が優れると共に、ＩＴＯ透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適に用いられ、かつ十分な解像性を有するポリシロキサン系ネガ型感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びにその保護膜及び層間絶縁膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】
［Ａ］（ａ１）式（１）で示される加水分解性シラン化合物及び式（２）で示される加水分解性シラン化合物を反応させて得られる加水分解縮合物
［Ｂ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤
［Ｃ］アルコール系溶剤を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】 形成した被覆物が耐温水性、耐候性、耐光性及び光沢性に優れ、特に紫外線による変色がほぼ完全に抑制され、且つ光活性によるクラックの発生がほぼ完全に抑制されたコーティング組成物及び光学部材を提供する。
【解決手段】２〜５０ｎｍの１次粒子径を有する酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子又は五酸化アンチモン−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性された酸化チタン−酸化ジルコニウム−酸化スズ複合コロイド粒子、又は酸化第二スズ−二酸化珪素複合コロイド粒子又は五酸化アンチモン−二酸化珪素複合コロイド粒子で変性された酸化チタン−酸化スズ−酸化ジルコニウム−酸化タングステン複合コロイド粒子及びオキシカルボン酸を含有するコーティング組成物による。 （もっと読む）

【課題】発光効率および耐久性が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子１０は、基板１１と、第１電極１３と、発光層１５と、第２電極１７と、粒子含有層１８を備えている。粒子含有層１８は、シロキサン系重合体、チタノキサン系重合体およびこれらの共重合体から選ばれる少なくとも一種の重合体、および、金属酸化物粒子を含有する組成物の硬化物である。粒子含有層１８は、基板１１と第１電極１３の間に形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】仮接着が容易であり、且つ、剥離も容易で、生産性を高めることができる仮接着材及びこれを使用する薄型ウエハの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）
（Ｉ）Ｒ¹ＳｉＯ_3/2で表されるシロキサン単位（Ｔ単位）を４０〜９９モル％、
（ＩＩ）Ｒ²Ｒ³ＳｉＯ_2/2で表されるシロキサン単位（Ｄ単位）を０〜４９モル％、
（ＩＩＩ）Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ⁶ＳｉＯ_1/2で表されるシロキサン単位（Ｍ単位）を１〜２５モル％
（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は非置換又は置換の炭素原子数１〜１０の１価炭化水素基を表す）
含有し、且つ重量平均分子量が２０００を超えるオルガノポリシロキサン、
（Ｂ）沸点２２０℃以下の有機溶剤、
を含有してなる仮接着材組成物。 （もっと読む）

【課題】メタクリロキシ基もしくはアクリロキシ基を有するポリオルガノシルセスキオキサンを含む半導体絶縁膜用組成物と、それを用いた薄膜の製造方法、及びそれによって有機溶媒に耐性を示す絶縁膜を提供する。
【解決手段】メタクリロキシ基もしくはアクリロキシ基を有するポリオルガノシルセスキオキサンに、ビニルモノマーおよび重合開始剤を加えて半導体絶縁膜用組成物とし、スピンコート法などで塗布した後、加熱または紫外線照射によってビニル基のラジカル重合を行ない、続いてアルコキシ基の縮合重合により複合的に硬化させてシリコーン系絶縁膜（ＰＳＱ膜）を製造する。 （もっと読む）

【課題】エポキシ樹脂の強靭性向上に有効な金属酸化物系微粒子を提供する。
【解決手段】金属酸化物系コア領域と、このコア領域の外周に形成されアルコキシオルガノシロキサンの縮合体構造を有する中間領域と、フェノール性水酸基を含む表面領域を有する金属酸化物系微粒子。 （もっと読む）

【課題】長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物を含むシロキサン化合物を加水分解縮合して得られる重量平均分子量５０００以上のシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、上記シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、を含有する。


［式中、Ｒ^１は、Ｈ原子若しくはＦ原子、又はＢ原子、Ｎ原子、Ａｌ原子、Ｐ原子、Ｓｉ原子、Ｇｅ原子若しくはＴｉ原子を含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、４−ｎ個のＸは同一でも異なっていてもよく、ｎが２のとき、２個のＲ^１は同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつ耐薬品性が良好な硬化膜を得ることができる感光性シロキサン組成物の提供、および、上記の感光性シロキサン組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、タッチパネル用絶縁膜などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子などの素子の提供。
【解決手段】（ａ）オルガノシランの１種以上を反応させることによって合成されるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、および（ｄ）一般式（２）で表されるフルオレン化合物を含有する感光性シロキサン組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２はエポキシ基、アクリル基、またはメタクリル基から選ばれるいずれかの基を有する有機基であって、Ｒ^１、Ｒ^２はそれぞれ同じであっても、異なっていても良い。） （もっと読む）

【課題】耐擦傷性や、耐クラック性、基材との密着性等に優れる硬化被膜を得るために、貯蔵安定性等の優れたオルガノシロキサンオリゴマーの製造方法を提供する。
【解決手段】実質的にイオン交換樹脂の非存在下で、オルガノシランを、該オルガノシランの加水分解に必要な理論水量に対してモル比で１．０以上５．０以下の量であって、且つ、必要に応じてｐＨ調整剤で調整されたｐＨが５．０以上８．０以下の水の存在下で、加水分解・縮合反応させた後、反応系のｐＨを３．０以上５．５以下の範囲に調整するオルガノシロキサンオリゴマー組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐久性、耐候性を有するコーティング用硬化性樹脂組成物、これを使用した太陽電池用保護シート及び太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】Ｒ¹ＳｉＯ_3/2単位および／またはＲ²Ｒ³ＳｉＯ_2/2単位と、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、アルコール性水酸基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、下記一般式で表される結合により結合された複合樹脂（Ａ）、ポリイソシアネート（Ｂ）、及び金属酸化物（Ｃ）を含有し、前記（ａ１）の含有率が１０〜６０重量％であり、且つ、ポリイソシアネート（Ｂ）の含有率が５〜５０重量％である硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を保護層に有する太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール。
（もっと読む）

【課題】高い電気伝導性を示す有機シリカ系材料を提供すること。
【解決手段】下記式（１）：
【化１】


（式（１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４のうちの少なくとも１つの基およびＲ^５〜Ｒ^８のうちの少なくとも１つの基は、下記式（２）：
−Ｚ−［Ｓｉ（ＯＲ^ａ）_ｎＲ^ｂ_３−ｎ］_ｋ （２）
（式（２）中、Ｒ^ａはアルキル基、Ｒ^ｂはアルキル基またはアリル基、Ｚはアルキレン基、アリーレン基、エテニレン基、エチニレン基、単結合などを表す。）
で表されるゾルゲル重縮合反応が可能なシリル基を含有する置換基であり、
Ｒ^１〜Ｒ^８のうちの残りの基は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基などである。）
で表される［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］［１］ベンゾチオフェン系有機シラン化合物の縮重合体により形成されたメソ構造体と界面活性剤とを備えることを特徴とする有機シリカ系材料。 （もっと読む）