【課題】溶剤に可溶なケイ素化合物の縮合体（以降、反応性ポリシロキサンと呼ぶ）の製造方法において、アルカリ触媒による加水分解縮合の後の中和工程で、中和に用いたときにゲル化が起き難く、安定な反応性ポリシロキサンを得ることのできる、硝酸以外の安全な酸を用いる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類のケイ素化合物をアルカリ性で共加水分解縮合した後、酸で中和する方法において、中和工程で有機酸を用いる製造方法、さらに好ましくは、５以下のｐＫａを有するカルボン酸で、中和後の中和液の液性がｐＨ値で７より小さく２以上である反応性ポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

硬化性オリゴマー及び／又はポリマーポリシラザンの調製プロセスは、（ａ）少なくとも１つのジハロシランを少なくとも１つの塩基と反応させることにより少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物を形成する工程と、（ｂ）所望により、少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物と少なくとも１つの有機ジハロシランを混ぜ合わせる工程と、（ｃ）少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物、又は得られた少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物と少なくとも１つの有機ジハロシランの混合物のアンモノリシスを行う工程と、を含み、ただし、塩基を、（１）ジハロシラン中のケイ素−ハロゲン結合の化学量論量の２倍以下の制限量でジハロシラン−塩基付加生成物の形成に用い、又は（２）この制限量より多い量でジハロシラン−塩基付加生成物の形成に用い、アンモノリシスに先立ち、得られた反応済み又は未反応の塩基の全量をこの制限量以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】 成形加工性に優れ、近赤外線吸収性を有するかつ硬化性組成物及びその硬化物を提供することである。さらにまた耐リフロー性を有することにより近赤外線吸収光学部品用として有用な硬化物となる。
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物、ヒドロシリル化触媒、ＳｉＨ基含有ケイ素化合物、およびクォタリレン系化合物とフタロシアニン系化合物あるいはナフタロシアニン系化合物から選ばれる化合物を少なくとも２種類を含有する近赤外線吸収能を有する硬化性組成物及びその硬化物が近赤外線吸収光学部品用の組成物及び硬化物となる。 （もっと読む）

【課題】高価な原料を用いることなく簡便な方法で、窒素雰囲気下、１，０００℃における加熱重量損失率が５％以下であり、極めて高い耐熱性を有する硬化物が得られる、新規なケイ素含有高分子化合物、そのヒドロシリル化重合体、その重合体を含有する耐熱性樹脂組成物及び耐熱性皮膜を提供することにある。
【解決手段】本発明のケイ素含有高分子化合物は、下記一般式（５）で表され、重量平均分子量が５００〜５００，０００である。
【化１】



〔式中、Ａ^２は炭素−炭素不飽和基を有する炭素数２〜１０の有機基、Ｒ^３は炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数６〜２０の２価の芳香族基もしくは炭素数３〜２０の２価の脂環式基、ｎは０又は１、Ｒ^４はＨ原子もしくは炭素数１〜１０のアルキル基（１分子中のＲ^４は同種でも２種以上の異種の組み合わせあってもよい。）、ｘ，ｙは正の数であり、ｗ，ｚは０又は正の数であって、０≦ｚ／（ｗ＋ｘ＋ｙ）≦２且つ０．０１≦ｙ／（ｗ＋ｘ）≦５である。〕 （もっと読む）

【課題】金属性不純物が少なくリーク電流の発生を十分に抑制できる絶縁被膜及びその製造方法、並びに、その絶縁被膜を有効に形成できるボラジン系樹脂組成物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】主鎖又は側鎖にボラジン骨格を有する重合体と、該重合体を溶解可能な溶剤とを含んでおり、重合体が有機ケイ素ボラジン系ポリマーであり、固形分濃度が０．５質量％以上であり、且つ、金属不純物含有量が３０ｐｐｍ以下である、ボラジン系樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 透明性に優れた硬化物の製造方法および硬化物を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、を必須成分として含有する硬化性組成物であって、前記（Ａ）成分がイソシアヌレート環状を有する有機化合物であり、前記（Ｂ）成分が、（α）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に１個以上含有する有機化合物と、（β）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンとをヒドロシリル化反応して得ることができる化合物である両末端にＳｉＨ基を有する直鎖状ポリオルガノシロキサンである硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、かつ、常温で固体、常温以上に融点を示す熱可塑性シリコーン樹脂であって、合成、精製が容易な熱可塑性シリコーン樹脂を提供することができる樹脂用組成物を提供すること。
【解決手段】式(I)：


(式中、Ｒ^１は置換又は非置換のアルケニル基、Ｒ^２は一価の炭化水素基を示し、但し、全てのＲ^２は同一でも異なっていてもよい)
で表わされるアルケニル基含有籠型オクタシルセスキオキサン、オルガノハイドロジェンシロキサン、及びヒドロシリル化触媒を含有してなる、熱可塑性シリコーン樹脂用組成物。 （もっと読む）

【課題】幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造する。
【解決手段】式（１）で示される繰り返し単位を有するエポキシ基含有高分子化合物。


［ａ、ｂ、ｃ、ｄは０又は正数、０＜（ｃ＋ｄ）／（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）≦１．０ （もっと読む）

アルコール／水混合物及びシラン混合物用の別個の供給管、ガス状の反応生成物用の排出管が備わっている脱気容器、並びに液状の反応生成物用のオーバーフロー管を有する、クロロシランを部分的にアルコキシル化するための直立に配置された循環型反応器であって、その際、前記循環型反応器は、加熱装置、及び反応媒体中の温度を少なくとも５℃の精度で調節することができる、前記加熱装置に接続された循環流中の温度を調節するための調節装置を有し、その際、前記オーバーフロー管には、過剰のアルコール相を分離し、且つ循環型反応器に返送する付加的な相分離ユニットが接続されている。
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【課題】
低屈折率である組成物を供給すると伴に、常温・常圧にて低屈折率膜を形成でき、充分な機械強度を有する低屈折率膜及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】
ボラジン系ポリマー又はボラジン珪素系ポリマーを母材とし、粒子径が５０ｎｍ以下のフッ化マグネシウムが１乃至９０重量％含まれる事により上記課題を解決した低屈折率組成物が提供可能となる。また、常温・常圧にて低屈折率膜が形成可能であり、透明基板上に形成する事で充分な機械強度を有する反射防止膜が提供可能となる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）熱硬化性シリコーン樹脂、（Ｂ）トリアジン誘導体エポキシ樹脂組成物、（Ｃ）白色顔料、（Ｄ）無機充填剤（但し、白色顔料を除く）、（Ｅ）酸化防止剤を含有し、（Ｅ）成分の酸化防止剤が、一般式（１）
Ｐ（ＯＲ¹）（ＯＲ²）₂ （１）
（Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異種の炭素数６以上の有機基である。）
で表されるホスファイト化合物であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分との配合比率が質量比で５：９５〜９５：５である光半導体基板形成用白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物。
【効果】本発明の白色熱硬化性シリコーンエポキシ混成樹脂組成物は、硬化性に優れ、良好な強度を有すると共に、長期間にわたり耐熱性、耐光性を保持し、均一でかつ黄変の少ない硬化物を与えるものである。 （もっと読む）

シリコーン感圧接着剤（ＰＳＡ）組成物及びその調製方法を提供する。１つの実施形態では、ＰＳＡはシリコーンポリマー混合物から不活性溶媒及び／又はシリコーン流体における低粘度ポリオルガノシロキサンの縮合重合、及び任意で重合中のシリコーン樹脂（ＭＱ）の添加により形成される。形成されたシリコーンポリマー混合物はシリコーン樹脂（ＭＱ）及び増粘触媒と混合することもでき、増粘は所望の反応生成物が形成されるまで継続させる。
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【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂を基材樹脂として含むネガ型レジスト組成物において、オキセタン構造が構造中に含まれる化合物として、次式（５）で表わされるケイ素含有重合体：


（上式において、ｎは、正の整数である）が含まれるように構成する。 （もっと読む）

【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる付加硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該付加硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ない硬化物を与えるオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：


で表され、ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子中に少なくとも２個有するオルガノポリシルメチレン。 （もっと読む）

【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる縮合硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該縮合硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ないオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：


で表され、ケイ素原子に結合したアルコキシ基、水酸基、またはハロゲン原子を１分子中に少なくとも２個有するオルガノポリシルメチレン。 （もっと読む）

【課題】レジスト下層膜用芳香族環含有重合体、この重合体を含むレジスト下層膜組成物、および素子のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】前記重合体は、下記化学式（１）で表示される繰り返し単位を含む芳香族環含有重合体である。
【化１】


化学式（１）において、Ｒ１およびＲ２は互いに独立して、水素原子、置換の炭素数１〜１０のアルキル基、また炭素数６〜２０のアリール基であり、Ａはヘテロ原子を含む芳香族化合物またはヘテロ原子を含まない芳香族化合物から誘導された作用基であり、ｎは１〜１００の整数である。 （もっと読む）

【課題】硬化後の強度、白色性、耐熱性及び耐光性に優れた硬化物を与える光半導体装置用のシリコーン樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）下記平均組成式（１）のオルガノポリシロキサン１００質量部（ＣＨ_３）_aＳｉ（ＯＲ^１）_b（ＯＨ）_cＯ_(4-a-b-c)/2（１）（Ｒ^１は炭素数１〜４の一価炭化水素基、０．８≦ａ≦１.５、０≦ｂ≦０．３、０．００１≦ｃ≦０．５、及び０．８０１≦ａ＋ｂ＋ｃ＜２を満たす）（Ｂ）下記（C）以外の白色顔料３〜２００質量部（Ｃ）平均粒径０．２〜４０μｍの球状シリカ６０〜８０重量％と平均粒径５〜１０μｍの破砕状シリカ２０〜４０重量％からなる、平均粒径１０〜４０μｍの無機充填剤４００〜１０００重量部（Ｄ）縮合触媒０．０１〜１０質量部（Ｅ）−［−（Ｒ_２）Ｓｉ（Ｒ_３）−Ｏ−］−で表される直鎖状ジオルガノポリシロキサン残基を有する、オルガノポリシロキサン２〜５０質量部を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】シリコーンオイル、極性の高い成分及び粉体を含む化粧料における分散状態を安定に維持し、且つ、皮膚親和性に優れた化粧料を与えるオルガノポリシロキサン及び該オルガノポリシロキサンを含む化粧料の提供。
【解決手段】特定なオルガノハイドロジェンポリシロキサンに、無水アリルコハク酸をハイドロシリレーションした後、炭素数８から４０の長鎖のアルキル基、アリール基、アラルキル基含有アミンで開環さて得られる、側鎖又は末端にアミド基を含有する数平均分子量が３００から３００，０００のオルガノポリシロキサン及びこれを含む化粧料。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＨ／ＳｉＯＨ基を有する成分を含むシリコーン組成物であって、必要な活性化温度が低い三置換又は四置換非シリル化グアニジンタイプの非金属触媒の存在下で脱水素縮合反応によって重合／架橋させることができる前記シリコーン組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＨ／ＳｉＯＨ基を有する成分を含むシリコーン組成物であって、必要な活性化温度が低い亜鉛触媒の存在下で脱水素縮合反応によって重合／架橋させることができる前記シリコーン組成物に関する。 （もっと読む）