本発明は、ホウ素、アルミニウムおよび／またはチタニウム、およびケイ素結合分岐状アルコキシ基を含有するシリコーン樹脂；同シリコーン樹脂を含有するシリコーン組成物；シリコーン組成物を基板に塗布して膜を形成し、膜のシリコーン樹脂を熱分解することからなる被覆基板の製造方法に関する。前記シリコーン樹脂は、（ＥＯ_ｓ／２）_ｔ（ＨＳｉＯ_３／２）_ｖ（（Ｒ^１Ｏ）_３ＳｉＯ_１／２）_ｗ（（Ｒ^１Ｏ）_２ＳｉＯ_２／２）_ｘ（Ｒ^１ＯＳｉＯ_３／２）_ｙ（ＳｉＯ_４／２）_ｚ（各Ｅは独立してホウ素、アルミニウム、およびチタニウムから選択される原子であり；Ｒ^１はＣ_１からＣ_１０の分岐状アルキルであり；Ｅがホウ素またはアルミニウムであるときは、ｓ＝３で、Ｅがチタニウムであるときは、ｓ＝４であり；ｔは０．０１から０．８であり；ｖは０から０．９９であり；ｗは０から０．９９であり；ｘは０から０．９９であり；ｙは０から０．９９であり；ｚは０から０．８であり；ｗ＋ｘ＋ｙ＝０．０１から０．９９；かつ、ｔ＋ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で表される。 （もっと読む）

【課題】大気中における硬化性にすぐれ、その硬化物は、種々の基材に対する接着性や低硬化収縮性に優れ、且つ金属基材を腐食させることがない熱硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、テトラアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物、（ｂ）アルミニウム錯体、（ｃ）フェノール樹脂、からなる熱硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性に優れ、しかも液晶パネルの長期信頼性も十分に確保できる配向膜を提供する。また、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供するとともに、この配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向を制御する配向膜である。少なくとも有機ケイ素材料で形成され、この有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサンからなる。このポリシルセスキオキサンは、その分子内に液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有し、かつ、シラノール基中の水素が置換基により置換されて不活性化されている。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の枝分れポリヒドロキシ官能性アリルポリエーテルとＳｉ−Ｈ−官能性アルキルポリシロキサンとの付加反応により調製されるポリヒドロキシ官能性ポリシロキサン、それらの製造法、コーティング組成物、ポリマー成型化合物または熱可塑性樹脂における添加物としての使用、およびそれらを含有してなるコーティング組成物、ポリマー成型化合物および熱可塑性樹脂に関する。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光劣化よる透光性・絶縁性低下を防ぐ太陽電池用硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】下記平均組成式：Ｒ¹_a(ＯＸ)_bＳｉＯ_(4-a-b)/2（式中、Ｒ¹は独立に、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルケニル基又はアリール基であり、Ｘは式：−ＳｉＲ²Ｒ³Ｒ⁴（ここで、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は独立に、非置換又は置換の１価炭化水素基である。）で表される基と、炭素原子数１〜６のアルキル基、アルケニル基、アルコキシアルキル基もしくはアシル基又はこれらの二種以上の基との組み合わせであり、ａは1.00〜1.5の数であり、ｂは０＜ｂ＜２を満たす数であり、但し、ａ＋ｂは1.00＜ａ＋ｂ＜２である。）で表される、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５×10⁴以上であるシリル化オルガノポリシロキサンと、縮合触媒と、を含有することを特徴とする太陽電池用硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

シリコーンアクリレートハイブリッド組成物は、シリコーン含有感圧性接着組成物と、エチレン性不飽和モノマーと開始剤との反応生成物を含む。シリコーン含有感圧性接着組成物は、アクリレート官能性またはメタクリレート官能性を含む。このハイブリッド組成物を製造する方法は、開始剤の存在下、エチレン性不飽和モノマーとシリコーン含有感圧性接着組成物とを重合化させることを含む。 （もっと読む）

【課題】抗菌性酸及びそれらの塩を提供すること。
【解決手段】本発明は、新規な酸性シロキサン誘導体、特に物品及び／又は材料の保護のための抗菌、防腐及び／又は抗付着効果をもたらすためのこの種のシロキサン誘導体の使用、使用の方法又は使用するプロセス、及び新規な化合物の製造プロセスに関する。
前記シロキサン酸（塩形態でもあり得る）は、式Ｉ
【化１】


式ＩＩ
【化２】


及び／又は式ＩＩＩ
【化３】


（式中、記号は明細書において与えられる意味を有する。）を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として好適に用いることができる絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびに前記絶縁膜形成用組成物を用いたシリカ系絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、（Ａ）成分；下記一般式（１）で表される化合物および下記一般式（２）で表される化合物の群から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）成分；下記一般式（３）で表される構造を有するカルボシランとを加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒と、を含む。Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_４−ａ ・・・・・（１） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（ＯＲ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・・（２）


・・・・・（３） （もっと読む）

【課題】 室温で固体であり、加熱により溶融し、トランスファー成形またはインジェクション成形することができ、硬化して、高強度で、紫外線や熱による変色の少ない硬化物を形成することができる硬化性シリコーンレジン組成物、およびその組成物を硬化して得られる、高強度で、紫外線や熱による変色の少ない硬化物を提供する。
【解決手段】 軟化点が５０℃以上であり、１５０℃における溶融粘度が５,０００ｍＰａ・ｓ以上であるヒドロシリル化反応硬化性シリコーンレジン組成物であって、リン含有ヒドロシリル化反応遅延剤を含有することを特徴とする硬化性シリコーンレジン組成物、およびそれを硬化してなる硬化物。 （もっと読む）

【課題】従来技術を改善し、特に簡単でかつできる限り水素を発生せずにシリコーン樹脂の製造を実施できる方法を提供する。
【解決手段】１成分のＨ−シロキサン含有の付加架橋可能なシリコーン樹脂の製造方法において、反応器で完全脱塩水と芳香族溶剤及びアルキルエステルの溶剤混合物とを装入し、前記装入物に撹拌しながらクロロシラン混合物を添加し、温度は５０℃を超過せず、シリコーン樹脂を含有する反応混合物の水相を分離し、シリコーン樹脂を含有する相を１ないし複数の洗浄工程で洗浄して、残留ＨＣｌ含量を減らし、シリコーン樹脂の最後の洗浄工程に、ｐＨ値７．００〜８．５０にある塩基の０．０１〜１．０％水溶液を添加し、かつ洗浄を温度２０〜５０℃で実施する。 （もっと読む）

本発明は、ａモル％のジメチルシロキサン、−Ｋ−ＲＩＭで置換されたｂモル％のシロキサン、−Ｋ−ＲＩＭ−Ｚで置換されたｃモル％のシロキサン及び−Ｌ−Ｚで置換されたｄモル％のシロキサンを有するポリジメチルシロキサン主鎖を有するマクロモノマーに関し、そこでは、末端シロキサン基が、Ｒで３置換され、ＲＩＭは、屈折率調整基であり；Ｚはラジカル重合性基であり；Ｋはスペーサー基であり；Ｌは選択的であり、そしてスペーサー基であり；各Ｒは、ＲＩＭ、低級アルキル基、水素又はＺから独立して選択され；そしてａは０〜９５モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；ｂは５〜９９モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；ｃは０〜２モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であり；そしてｄは０〜２モル％の範囲にある上記マクロモノマーのモル％であるが；ただし、ｃ及びｄは同時に０モル％ではない。 （もっと読む）

【課題】層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能な、しかも低屈折率で誘電率、ヤング率等の膜特性に優れた組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ｍ個のＲＳｉ(Ｏ_0.5)₃ユニット（ｍは８〜１６の整数を表し、Ｒはそれぞれ独立して非加水分解性基を表し、Ｒのうち、少なくとも２つはビニル基またはエチニル基を含む基である）を有し、各ユニットが、各ユニットにおける酸素原子を共有して他のユニットに連結しカゴ構造を形成している化合物（Ｉ）の重合物を含む組成物。
ただし、組成物に含まれる固形分のうち、化合物（Ｉ）のビニル基同士が反応した重合物が６０質量％以上である。 （もっと読む）

【課題】ポリマーを構成するＳｉ原子にシリルメチル基が結合した新規なポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるシラン化合物を縮合して得られるポリマー。
【化１】


（式中、Ｘ_１〜Ｘ_３は、同一または異なり、それぞれハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、またはヒドロキシ基を示し、Ｙ_１〜Ｙ_３は、同一または異なり、アルキル基、アルケニル基、またはアリール基を示す） （もっと読む）

ヒドロシロキサンと式Ｉの構造単位を含むポリフルオレンとの反応から導かれるポリマー組成物を含んでなる光電子デバイス。式中、Ｒ¹及びＲ²は独立にアルキル、置換アルキル、アルケニル、アルキニル、置換アルケニル、置換アルキニル、アルキルオキシ、置換アルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、置換アルケノキシ、置換アルキノキシ又はこれらの組合せであり、Ａｒ¹及びＡｒ²は独立にアリール又は置換アリールであり、ｍ及びｎは独立に０又は１であり、Ｒ¹及びＲ²の少なくとも一方はアルケニル、アルキニル、置換アルケニル又は置換アルキニルである。
【化１】
（もっと読む）

【課題】強靱性、耐クラック性、透明性、硬度、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性等が優れた硬化被膜を形成することができる硬化性シリコーン組成物とその製造方法およびコーティング剤を提供すること。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が５００〜１００，０００であり、フェニル基、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基と炭素数１〜３個のアルキル基、水素原子を有するポリオルガノシルセスキオキサンとフェニル基、直鎖状、分岐状又は環状の炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基と炭素数１〜３個のアルキル基、水素原子を有し、ｎが３〜８である環状オルガノシロキサンを含有することを特徴とする硬化性シリコーン組成物とその製造方法およびコーティング剤。 （もっと読む）

【課題】ギャップフィル性能に優れ、高圧を負荷せずともボイドの無い硬化物を与える組成物を提供する。
【解決手段】下記（ｉ）と（ｉｉ）とを、（ｉ）の（ｉｉ）に対する質量比３０／７０〜７０／３０で縮合反応に付して得られる混合物、（ｉ）分子中に少なくとも１個のアルケニル基を有する分子鎖末端に水酸基を有するオルガノポリシロキサン、（ｉｉ）（Ｒ^２_３ＳｉＯ_１／２）単位と（ＳｉＯ_２）単位を、（Ｒ^２_３ＳｉＯ_１／２）単位の（ＳｉＯ_２）単位に対するモル比０．５〜１．５で含み、但しＲ^２は炭素原子数１〜１０の置換もしくは非置換の一価炭化水素基である、オルガノポリシロキサンレジン、及びジアシルパーオキサイド及びジアルキルパーオキサイドから選ばれる少なくとも１種の有機過酸化物、を含み、温度１３０〜２５０℃で硬化することを特徴とする組成物。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

アリールホスホン酸で置換されたオリゴマー状およびポリマー状のシロキサン
本発明は、ホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、その製造方法、シリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、ポリ−ホスホン酸基及び／又は少なくとも一種のシリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンを含む少なくとも一種の本発明のオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンと、少なくとも一種の他のポリマーを含む混合物、少なくとも一種の本発明のホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン及び／又は少なくとも一種の本発明のシリルポリホスホネート基及び／又はアルキルポリホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサンまたは本発明に係る混合物を含む膜、フィルムまたは複合化物、ホスホン酸基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン及び／又はシリルホスホネート基及び／又はアルキルホスホネート基を含むオリゴマー状またはポリマー状のシロキサン、または本発明の混合物のいろいろな利用に関する。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ−ＬＥＤなどの高出力光源に用いられるシリコン樹脂にナノ粒子を分散させる際、ナノ粒子の分散性を向上させうる手段を提供する。
【解決手段】ナノ粒子との親和性を有する頭部と、シリコン樹脂との親和性を有する尾部と、を含むシロキサン系分散剤であり、シロキサン系分散剤、ナノ粒子、およびシリコン樹脂を含むナノ粒子ペースト組成物であり、また窒素含有基、カルボキシル基、メルカプト基、またはリン酸基を有する頭部と、シリコーン部分を有する尾部とを含むシロキサン系分散剤を用いて、ナノ粒子をシリコン樹脂に分散させ、さらにエポキシ基を有するシリコン樹脂を添加した後、熱処理して形成されるシリコンゴムである。 （もっと読む）

本発明は、特に光導波路に使用可能なケイ酸縮合生成物であって、（Ａ）一般式（１）：Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２〔式中、Ｒ^１は、少なくとも１個の芳香族基を有する炭素原子数が６〜２０個の基を表し、Ｒ^２は、Ｈ（Ｈは重水素Ｄであってよい）を表す。〕で示されるシランジオール化合物と、（Ｂ）一般式（２）：Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_３〔式中、Ｒ^３は、少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する有機基を表し、Ｒ^４は、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１（ｎ＝１または２の数である）を表す。〕で示される変性シラン化合物を、（Ａ）：（Ｂ）のモル比として１．１〜１．４：１の範囲内で縮合させることにより得られる縮合生成物及びその製造方法、並びに該生成物を使用してなる光導波路デバイスに関する。 （もっと読む）