【課題】本発明はデュアルダマシンパターンの形成方法に関する。
【解決手段】より詳しくは多機能ハードマスク組成物を用意する段階と、半導体基板の配線層上に窒化膜、第１の低誘電膜、食刻静止膜及び第２の低誘電膜が順次積層された積層構造を形成する段階と、前記配線層の一部が露出するよう積層構造を食刻してビアホールを形成する段階と、前記ビアホールを含む第２の誘電膜の上部に前記多機能ハードマスク組成物を塗布して多機能ハードマスク膜を形成する段階と、第１の誘電膜の一側が露出するよう前記結果構造物に対する食刻工程を行ない、ビアホールより広い幅のトレンチを形成する段階と、前記多機能ハードマスク膜を除去する洗浄工程を行なう段階とを含むことにより、工程段階を短縮することができるデュアルダマシンパターンの形成方法に関する。 （もっと読む）

【課題】光通信で使用される帯域での吸収及び偏波依存性が小さく、屈折率調整が可能でパターニング性、生産性、信頼性に優れた縮合生成物の提供。
【解決手段】式（１）で示す化合物（Ａ）、式（２）で示す化合物（Ｂ）、式（３）で示す化合物（Ｃ）、式（４）で示す化合物（Ｄ）のうち少なくとも（Ａ）（Ｃ）（Ｄ）を０≦ｂ×３＋ｃ×２＋ｄ×３−ａ×２≦０．４〔ａ〜ｄは（Ａ）〜（Ｄ）の総量に対する（Ａ）〜（Ｄ）のモル比率〕の範囲内で縮合させる。
Ｒ^１_２Ｓｉ（ＯＲ^２）_２ （１）〔Ｒ^１は少なくとも１個の芳香族基を有する基、Ｒ^２は、重水素ＤであってもよいＨ〕Ｒ^３Ｓｉ（ＯＲ^４）_４ （２）〔Ｒ^３は少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する基、Ｒ^４はアルキル基〕Ｒ^５Ｒ^６Ｓｉ（ＯＲ^７）_２ （３）〔Ｒ^５は少なくとも１個のＣ＝Ｃ二重結合を有する基、Ｒ^６，Ｒ^７はアルキル基〕Ｒ^８Ｓｉ（ＯＲ^９）_３ （４）〔Ｒ^８はフッ素含有基、Ｒ^９はアルキル基〕 （もっと読む）

【課題】十分な反射防止性を有しながら耐擦傷性・防汚性の向上した反射防止フィルムを提供すること、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する水酸基含有分岐ポリグリセロール変性シリコーンと、含フッ素共重合体とを含有する塗布液組成物を硬化させることによって形成された低屈折率層を含む反射防止フィルム、そのような反射防止フィルムが、偏光板における偏光膜の２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられている偏光板、及びそのような反射防止フィルム又は偏光板がディスプレイの最表面に用いられている画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性に優れ、しかも液晶パネルの長期信頼性も十分に確保できる配向膜を提供する。また、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供するとともに、この配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向を制御する配向膜である。少なくとも有機ケイ素材料で形成され、この有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサンからなる。このポリシルセスキオキサンは、その分子内に液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有し、かつ、シラノール基中の水素が置換基により置換されて不活性化されている。 （もっと読む）

-Ｓｉ-Ｏ-単位を含有する骨格を有し、そのケイ素原子の少なくとも一部に発色団が直接結合していることを特徴とする有機-無機シリコーン材料である。膜成形組成物とその結果生じる被膜の性質は、特定の露光波長条件、デバイス製造条件及び設計条件に合わせて調整できる。異なる二つの発色団を用いることによって、屈折指数と吸収係数とを効果的に調整でき、反射防止被膜組成物の望ましいＳｉ含有量を得ることができる。高いＳｉ含有量は、良好な機械的性質及び熱的性質と、更に所要のウェットエッチング特性及びドライエッチング特性とを与えることになる。 （もっと読む）

ケイ素重合体骨格を有し、そのケイ素原子の少なくとも一部に発色団が直接結合し、更に該重合体がカルボシラン結合を示すことを特徴とするケイ素重合体材料である。膜成形組成物とその結果生じる被膜の性質は、特定の露光波長条件、デバイス製造条件及び設計条件に合わせて調整できる。異なる二つの発色団を用いることによって、屈折指数と吸収係数とを効果的に調整することができる。カルボシラン結合の割合を変えることによって、反射防止被膜組成物の指数と望ましいＳｉ含有量を得ることができる。 （もっと読む）

ヒドロシロキサンと式Ｉの構造単位を含むポリフルオレンとの反応から導かれるポリマー組成物を含んでなる光電子デバイス。式中、Ｒ¹及びＲ²は独立にアルキル、置換アルキル、アルケニル、アルキニル、置換アルケニル、置換アルキニル、アルキルオキシ、置換アルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、置換アルケノキシ、置換アルキノキシ又はこれらの組合せであり、Ａｒ¹及びＡｒ²は独立にアリール又は置換アリールであり、ｍ及びｎは独立に０又は１であり、Ｒ¹及びＲ²の少なくとも一方はアルケニル、アルキニル、置換アルケニル又は置換アルキニルである。
【化１】
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【課題】容易且つ安価に製造可能で、発光色の制御が容易な発光性シリコンポリマーを提供する。
【解決手段】発光性シリコンポリマーは、組成式Ｓｉ_xＨ_yＲ_z（ここで、Ｒは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−ヘプタデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−ノナデシル、ｎ−エイコシル、ｉ−プロピル、ｉ−ブチル、ｉ−ヘキシル、ｓｅｃ−ブチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、β−フェネチル、γ−フェニルプロピル、又はδ−フェニルブチルを表し、ｘ≧ｙ＋ｚ、０．０００１≦ｙ、０．０００１≦ｚであり、各Ｈ及びＲは、それぞれ異なるＳｉに直接結合している）で表される。 （もっと読む）

【課題】（１）多孔質及び／又は内部に空隙を有する無機酸化物微粒子（Ａ）の存在下に、
（２）下記ビスシラン化合物（Ｂ）を含む有機ケイ素化合物を加水分解・縮合させることにより得られる、（１）成分と（２）成分の加水分解・縮合物が一体化した複合樹脂。
Ｘ_nＲ_3-nＳｉ−Ｙ−ＳｉＲ_3-nＸ_n （Ｂ）
（式中、Ｙはフッ素原子で置換されてもよい２価の有機基又は芳香環を含んでもよい２価の有機基であり、Ｒは１価の有機基であり、ＸはＯＨ基又は加水分解性基であり、ｎ＝１、２又は３である。）
【解決手段】本発明の複合樹脂は、多孔質及び／又は内部に空隙を有する無機酸化物微粒子を含有するため、樹脂中に空隙を有する。屈折率が最も低い空気を含むため、硬化物或いは硬化被膜とすると、屈折率を低くすることができる。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下での屈折率の変動を低減することが光学樹脂材料を得る。
【解決手段】分子中に少なくとも１つの水酸基を有する金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物と、揮発性の低分子成分と、有機重合体を含む光学樹脂材料であって、揮発性の低分子成分が、金属アルコキシドの加水分解・重縮合生成物の水酸基と、結合可能な極性基（例えば、カルボン酸基、カルボニル基、及び水酸基など）を有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】高い反射防止性を有すると共に、耐薬品性、防汚性に優れたコーティング材組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｂ）の加水分解性オルガノシランとシリカ系金属酸化物微粒子とを混合した状態で、（Ａ）及び（Ｂ）の加水分解性オルガノシランを加水分解した第一の加水分解物と、（Ａ）の加水分解性オルガノシランと（Ｃ）の加水分解性オルガノシランとを共重合した、一方の末端にフッ素置換アルキル基を有する第二の加水分解物と、を含有する。
（Ａ）一般式がＳｉＸ_４（Ｘは加水分解基）
で表わされる加水分解性オルガノシラン、
（Ｂ）撥水基を直鎖部に備えると共にアルコキシ基が結合したシリカ原子を分子内に２個以上有する加水分解性オルガノシラン、
（Ｃ）フッ素置換アルキル基を有する加水分解性オルガノシラン （もっと読む）

【課題】 レーザー発光量が十分に高く且つ十分に長寿命の色素レーザーを提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）：
【化１】


［式中、Ｘは蛍光又は燐光を示す有機分子を示し、Ｒ^１は低級アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリル基、エステル基及びハロゲン原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、Ｒ^２は低級アルキル基及び水素原子からなる群から選択される少なくとも一つを示し、ｎは１〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
で表される有機ケイ素化合物の重合体からなる発光材料を含有する色素レーザー素子と、励起用光源と、共振機とを備えることを特徴とする色素レーザー。 （もっと読む）

本発明は、（Ａ）少なくとも１種のホスホン酸ジエステルおよび／または少なくとも１種のジホスホン酸ジエステルと、（Ｂ）少なくとも２つの縮合性シラン基を有する少なくとも１種の化合物とを含むシラン基含有混合物中でのホスホン酸ジエステルおよびジホスホン酸ジエステル（Ａ）の使用に関する。また、本発明は、硬化材料、特に塗膜の製造のためのシラン基含有混合物の使用に関する。 （もっと読む）

シリコーン系液晶またはベシクルが、まず、（Ａ）三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン；および、（Ｂ）モノ−アルケニルポリエーテルを、白金触媒の存在下、ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）が形成されるまで反応させる。ポリエーテル基を有する三Ｓｉ−Ｈ含有ポリシロキサン（Ｃ）を、ついで、（Ｄ）不飽和炭化水素、たとえば、α，ω−ジエン；および、（Ｅ）水を、白金触媒の存在下、シリコーン系液晶またはベシクルが形成されるまで反応させる。シリコーン系液晶またはベシクルはまた、硬質な液晶ゲルまたはベシクルペーストが形成されるまで、加熱することも可能である。 （もっと読む）

【課題】安価な汎用紫外線光源から得られる低エネルギー量の紫外線照射によって選択的に基体表面を疎水性から親水性に変換することができる有機薄膜を形成するシラン誘導体、並びに基体表面に該シラン誘導体を含有する有機薄膜形成体を得ること。
【解決手段】フェナシル基、及びハロゲン原子及び又はアルコキシ基を含有することを特徴とするシラン誘導体であり、得られる有機薄膜は疎水性であるが、安価な水銀灯光源から放射される波長２５０ｎｍ以上の紫外線を照射することにより、フェナシル基が光分解して親水性に変化することができ、しかも高感度である。このため、親水性と疎水性の差を利用して、基体表面に種々の物質のパターニング形成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度（ＤＯＦ）に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物、および当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】ポリシロキサンは、−（Ｓｉ（Ｒ）Ｏ_２）−〔Ｒは、−Ｒ^１ＮＨＳＯ_２Ｒ^２基であり、Ｒ¹ およびＲ² は置換されていてもよい直鎖状、分岐状もしくは環状の２価の炭化水素基（但し、Ｒ² はフッ素原子をもたない。）を示す。〕で表される構造単位を有し、好ましくはさらに−（Ｓｉ（Ｒ^３ＣＯＯＲ^４）Ｏ_２）−〔Ｒ^３は環状２価炭化水素基、Ｒ^４は１価の酸解離性基を示す〕で表される構造単位を有する。 （もっと読む）

本明細書で、我々は、式（ＨＳｉＯ_３／２）_ａ（ＳｉＯ_４／２）_ｂ（ＨＳｉＸ_３／２）_ｃ（ＳｉＸ_４／２）_ｄを持つシロキサン樹脂を含む組成物を開示する。ここで、各Ｘは独立に−Ｏ−、−ＯＨ、または−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｍ−Ｚ_ｎであり、各ｍは独立に１から約５の整数、Ｚは芳香族５個の部分、各ｎは独立に１から約６の整数、かつ０＜ａ＜１、０＜ｂ＜１、０＜ｃ＜１、０＜ｄ＜ｌ、並びにａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝１である。我々は、本シロキサン樹脂組成物の製造方法、および、基板上に反射防止被覆を製造する方法も開示する。この反射防止被覆は前記シロキサン樹脂組成物から誘導される。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置（ＬＣＤ）の偏光板用保護フィルム等として用いられる光学フィルムの製造に使用する金属アルコキシドの加水分解物、及び該加水分解物溶液の作製方法を提供する。金属アルコキシドの加水分解物を用いて、寸法特性に優れかつフィルム強度が高く、タフネス性がアップした光学フィルム、及びその製造方法を提供する。該光学フィルムを用いて、寸法安定性に優れ、ひいては液晶表示装置の品質（寸法安定性）の改善が可能である偏光板を提供する。
【解決手段】 光学フィルムとしてのセルロースエステルフィルムを作製するにあたり、有機溶剤、金属アルコキシドの加水分解物、セルロースエステルを混合して、セルロースエステルフィルムのドープを作製する際の金属アルコキシドの加水分解物を作製する時、セルロースエステルを溶解するドープ主溶剤を反応溶媒の一部として加えて、金属アルコキシドの加水分解を行なう。 （もっと読む）

【課題】耐汚染性と耐摩耗性に優れた架橋型ポリカーボネート−シロキサン共重合樹脂とその製造方法、ならびにこの共重合樹脂を用いた耐汚染性と耐久性に優れた電子写真感光体や導電性ゴムロール用コーティング材、導電性ゴムロール、フィルム、シートなどを提供する。
【解決手段】ポリカーボネート単位とシロキサン単位を有する共重合体であって、該シロキサン単位の部位において、他の重合体鎖のシロキサン単位と結合してなる新規な架橋型ポリカーボネート−シロキサン共重合樹脂と、その製造方法、該共重合樹脂を含有する感光層を導電性基体上に設けてなる電子写真感光体ならびに該共重合樹脂を含有する導電性ロール用コーティング材。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、任意の形状に賦形可能で、工業的に生産が容易な光、熱重合性のフラーレンを提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）で示されることを特徴とする重合性フラーレン。Ｃｎ［（ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｏ）_ｍ（ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｏ）_ｊＳｉＲ^５Ｒ^６−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ^７＝ＣＨ_２］ｋ （１）（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に水素または炭素数１から１２のアルキル基、アリールアルキル基、アリール基を表し、Ｘは炭素数３から１２のアルキレン基を、Ｒ^７は水素または炭素数１から１２のアルキル基を表し、Ｃ_ｎは炭素数ｎのフラーレンを表す。また、ｎは６０以上の正数を、ｍ、ｊは重合度を表わし１から１００の正数を、ｋは１から１１の正数を表す。） （もっと読む）