【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性に優れ、しかも液晶パネルの長期信頼性も十分に確保できる配向膜を提供する。また、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供するとともに、この配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供する。
【解決手段】液晶分子の配向を制御する配向膜である。少なくとも有機ケイ素材料で形成され、この有機ケイ素材料は、籠形構造または部分開裂籠形構造を有するポリシルセスキオキサンからなる。このポリシルセスキオキサンは、その分子内に液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有し、かつ、シラノール基中の水素が置換基により置換されて不活性化されている。 （もっと読む）

【課題】２６０℃のハンダリフロー工程を必要とする固体撮像素子や電子部品一体型製品の製造用として有用な耐熱性、密着性、伸度、高温でもクラックや剥がれが生じないという耐温度衝撃性に優れた特性を有する感光性樹脂を提供する。
【解決手段】特定の組合せの少なくとも２元素からなる有機シランを含む化合物を、触媒存在下で４０℃〜１５０℃以下の温度で０．１〜１０時間重縮合して液体樹脂を得るステップを含むプロセスによって得られる感光性樹脂。 （もっと読む）

【課題】光加工プロセスに用い、光硬化性と耐光性のある感光性重合体組成物の提供。
【解決手段】下記式の化合物を用いて得られるかご型ケイ素化合物、金属錯体、および有機溶媒を配合して、感光性重合体組成物を得る。
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【課題】光酸発生剤などの酸を使用することなく、十分なコントラストで感光性を発現し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる感光性かご状シルセスキオキサン化合物を提供すること。
【解決手段】本発明は、キノンジアジド構造を有することを特徴とするかご状シルセスキオキサン化合物である。これにより、光酸発生剤などの酸を使用することなく、十分なコントラストで感光性を発現し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる。 （もっと読む）

【課題】成膜性が良好であり、感光性を有し、かつ成膜後に焼成することにより容易に耐熱性が高い膜が得られる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】かご状シルセスキオキサン構造が平均１箇所を超えて他のかご状シルセスキオキサン構造と結合してなるシルセスキオキサン重合体であって、該かご状シルセスキオキサン構造が平均１個以上の感光性付与基を含むシルセスキオキサン重合体と、感光剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、液体状の、ナノ粒子状の、官能化された、疎水性の、ケイ酸テトラアルキルエステルと、式Ｐ−（ＣＨ₂）_n−Ｓｉ（ＯＲ）₃［式中、Ｐ、Ｒおよびｎは相互に独立して以下の意味を有する：Ｐは１の重合可能なＣＨ₂＝ＣＨ基、ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｏ基、スチリル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、または１の重付加可能なＳＨ基を表し、Ｒはメチル、エチル、またはプロピルを意味し、かつｎ＝３〜１５である］の官能化されたトリアルコキシシランとの共縮合体を含む歯科材料に関し、ケイ酸テトラアルキルエステルと、ω位で官能化されたアルキルトリアルコキシシランとの共縮合によって、および引き続いたトリメチルシリル基による末端基の官能化によって製造可能である。さらに本発明は、充填複合材料、固定セメント、または被覆用の材料のための、歯科材料の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く機械的強度が高い多孔質の絶縁膜を有する半導体装置の製造方法、並びにこのような多孔質絶縁膜の形成に好適な絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】基板１０上に、多孔質の第１の絶縁膜３８を形成する工程と、第１の絶縁膜３８上にＳｉ−ＣＨ_３結合を３０〜９０％の割合で含有するシリコン化合物を含む第２の絶縁膜４０を形成する工程と、第１の絶縁膜３８上に第２の絶縁膜４０が形成された状態で紫外線を照射し、第１の絶縁膜３８を硬化させる工程とを有する。これにより、ＣＨ_３基を脱離する波長域を有する紫外線が第２の絶縁膜により十分に吸収され、第１の絶縁膜では紫外線キュアによる高強度化が優先的に進行するので、第２の絶縁膜の誘電率を増加することなく膜密度を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】比誘電率が低く、かつ、ＣＭＰ耐性および薬液耐性に優れた絶縁膜を形成することができるポリマーおよびその製造方法、絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物と、（Ｂ）下記一般式（２）で表される化合物および下記一般式（３）で表される化合物から選ばれた少なくとも１種のシラン化合物を、（Ｃ）塩基性化合物の存在下で共縮合することを含む。
【化１】


・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】幅広い紫外線領域で硬化性、深部硬化性が良好な紫外線硬化型オルガノポリシロキサンゲル組成物及び光ピックアップ用ダンピング材を提供。
【解決手段】（Ａ）(A-1)式（Ｉ）：
【化１】


〔ここで、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｒ^２〜Ｒ^７は水素原子または非置換もしくは置換の一価炭化水素基であり、ａは１−３の整数、ｂは１または２の整数である〕
の基を有するオルガノポリシロキサン、または該オルガノポリシロキサンと(A-2)式（Ｉ）の基を有しないオルガノポリシロキサンとの混合物からなり、（Ａ）成分のオルガノポリシロキサン１分子当りの式（Ｉ）の基の平均数が０．３〜１．６個であるオルガノポリシロキサン １００質量部、および
（Ｂ） 光開始剤 ０．０１〜１０質量部
を含有してなることを特徴とする紫外線硬化型ゲル組成物、及びその硬化物からなる光ピックアップ用ダンピング材。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で表される含フッ素ケイ素化合物。


(Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜６の直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｙは二価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²はそれぞれ独立に水素原子、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状、環状又は多環状骨格を持つ一価の有機基を表す。Ｒ¹、Ｒ²は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に環を形成してもよい。)
【効果】本発明は、膨潤によるパターン崩壊を極力抑制して微細パターン形成を可能とする適度な酸性を有し、かつ、有機膜へのパターン転写の際のエッチング条件に対し優れたエッチング耐性を実現するために必要十分な数のフッ素置換によりこの適度な酸性を実現するケイ素化合物とシリコーン樹脂を提供し、このため、特にＡｒＦ露光における二層レジストの原料として好適である。 （もっと読む）

【課題】液晶の層間絶縁膜材料にはポジ型の感光特性が要求されるが、材料の安定性、脱ガス、焼成後の透明性などを両立可能な材料の開発が課題とされていた。
【解決手段】アルキルアミノ基を介して、シリコーン化合物にジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）を直接結合させた感放射線性化合物を用いる。高感度で、透明性、耐熱性にすぐれた層間絶縁膜形成用感放射線組成物が提供できる。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、経時による変色の少ない硬化物を与え、発光ダイオード素子の保護材料、レンズ材料等として適するシリコーン樹脂組成物を提供。
【解決手段】（Ａ）一般式：
【化１】


（式中、ｍは0、1又は2の整数、R¹は水素原子、フェニル基又はハロゲン化フェニル基、R²は水素原子又はメチル基、R³は１価の炭素原子数1〜10の有機基、Z¹は−R⁴−、−R⁴O−、又は、−R⁴(CH₃)₂SiO−（R⁴は２価の炭素原子数1〜10の有機基）で表される２価の基、Z²は酸素原子、又は、２価の炭素原子数1〜10の有機基である。）
で表される構造を分子中に少なくとも1つ有するオルガノポリシロキサン 100質量部、及び、
（Ｂ）光重合開始剤0.01〜10質量部
を含有する発光ダイオード素子用紫外線硬化型シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、ポリシロキサンに基づく良好な特性とレジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、現像欠陥を著しく低減し得る感放射線性樹脂組成物、及び当該感放射線性樹脂組成物の構成成分として有用なポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記の一般式（Ｉ）、及びＳｉＲ^４_３Ｈで表されるシラン化合物を、水の存在下、重縮合することにより得られるポリシロキサン、並びに当該ポリシロキサン、及び感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物。
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【課題】感光性を有し、架橋剤を含有させずとも、アルカリ現象可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表わされる構造を有し、Ｒ₁₁〜Ｒ_1nの内１つがＨであり、残りが有機基である１種のポリマー（Ａ１）を含むシリコン含有ポリマーと、活性光線もしくは放射線の放射により、酸または塩基を発生する化合物とを含むシリコン含有感光性組成物。
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【課題】硬化物が耐熱性に優れた、塗布性、重ね塗布性に優れた低屈折率感光性樹脂組成物を開発する。
【解決手段】一般式ＲｆＲ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_３−ａ（式中、Ｒｆはフッ素を含む有機基を表す。ａは０または１の整数である。）で示されるアルコキシケイ素化合物、一般式ＸＲ^３_ｂＳｉ（ＯＲ^４）_３−ｂ（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基を表す。ｂは０または１の整数である。Ｒ^４はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。）で示されるアルコキシケイ素化合物、及び一般式Ｙ_ｃＲ^５_ｄＳｉ（ＯＲ^６）_{４−ｃ−ｄ}（式中、Ｙは（メタ）アクリル基を含む有機基を表す。ｃは０または１の整数、ｄは０〜２の整数である。）で示されるアルコキシケイ素化合物を塩基性触媒の存在下、共加水分解縮合させることにより得られるフッ素含有ポリシロキサン。 （もっと読む）

本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒とを含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 建築分野をはじめとする様々な分野において、塗料や接着剤等に適用可能な紫外線硬化性樹脂組成物や該紫外線硬化性樹脂組成物を含有する紫外線硬化型塗料及び該紫外線硬化型塗料を塗装した塗装物を提供すること。
【解決手段】 シラノール基および／または加水分解性シリル基、並びに重合性二重結合を有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、該ポリシロキサンセグメント（ａ１）以外の重合体セグメント（ａ２）とを有する複合樹脂（Ａ）及び光開始剤（Ｂ）を含有する紫外線硬化性樹脂組成物、該紫外線硬化性樹脂組成物を含有する紫外線硬化性塗料及び該紫外線硬化性塗料を塗装して得られる塗装物。 （もっと読む）

【解決手段】一般式(1)


(Yは官能基を有してもよい脂肪族有機基、又は官能基を有してもよい芳香族構造を含む有機基、X¹，X²，X³はH、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリーロキシ基を示す。)
で示される側鎖に嵩高い置換基を有する3官能性シランを含むシラン原料を酸又は塩基を触媒とする第1段の加水分解後、第2段として上記シラン原料に強塩基触媒の存在下、縮合による生成する水を反応系外に除去する操作を伴う脱水縮合反応を行う側鎖に嵩高い置換基を有する縮合度100％であるシルセスキオキサン型化合物高含量のシルセスキオキサン系化合物混合物の製造方法。
【効果】本発明によれば、嵩高い置換基を有する縮合度が実質的に100％であるシルセスキオキサン型化合物の存在比の高いシルセスキオキサン系化合物混合物を容易かつ確実に得ることができ、この混合物は、ポジ型レジスト組成物に好適な材料である。 （もっと読む）

【課題】耐光性に優れ、かつ、配向特性（液晶材料の配向状態を規制する機能）に優れた配向膜を提供すること、このような配向膜を効率良く製造することが可能な配向膜の形成方法を提供すること、前記配向膜を備える電子デバイス用基板、液晶パネルおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の配向膜は、液晶分子の配向を制御する配向膜であって、少なくとも有機ケイ素材料で構成され、有機ケイ素材料は、その分子内に、液晶分子との親和性を向上させる親和性付与基と、液晶分子の配向を制御する配向性付与基とを有することを特徴とする。親和性付与基は、ビニル基、アルキレン基、シアノアルキル基のうち、少なくとも１種である。配向性付与基は、フェニル基、置換フェニル基、フェニルアルキル基、置換フェニルアルキル基、炭素数が３〜１２の分岐アルキル基のうち、少なくとも１種である。 （もっと読む）

【課題】高硬度でかつシリコーンの特性を有する硬化物を形成可能な光カチオン硬化性樹脂組成物並びに耐汚染性塗料、コーティング材料、樹脂改質剤、レジスト材料及び光造型剤を提供する。
【解決手段】光カチオン硬化性樹脂組成物は、下記式（Ｉ）に示す構造式（Ｒ^０は下記式（ＩＶ）に示す構造式で表される有機官能基であり、Ｘは加水分解性基。）で表される化合物と、一分子中に一つ以上のシロキサン結合生成基を有する反応性シリコーンと、の混合物を加水分解して得られる。


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