本発明は、低収縮多官能基化シルセスキオキサン（ＳＳＱ）誘導体、これらのＳＳＱを含むナノコンポジット材料、及び生体適合材料における重合性樹脂としての該ナノコンポジット材料の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】 層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜がクラック耐性、耐熱性及び解像性に優れる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 （ａ）成分：下記一般式（１）で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：上記（ａ）成分が溶解する溶媒と、（ｃ）成分：ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと、（ｄ）成分：微粒子と、を含有し、上記（ａ）成分の配合割合が、組成物の固形分全体を基準として５〜８０質量％であり、上記（ｄ）成分の配合割合が、組成物の固形分全体を基準として５〜５０質量％である、感光性樹脂組成物。



［式（１）中、Ｒ^１は有機基を示し、Ａは２価の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のＸは同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

シロキサン組成物及びその製造方法である。該組成物は，塩基性水溶液中で脱プロトン化可能な官能基を示す骨格を有するシロキサンプレポリマーを含む。更に，熱又は放射線で開始される硬化工程中に反応可能な反応性官能基がある。シロキサンは，重合中にその分子量が増加するよう架橋する。該組成物は，リソグラフィー製法の現像工程に水系現像システムを適用する高分解能ネガティブトーンリソグラフィー加工工程に使用可能である。 （もっと読む）

シロキサン組成物及びその製造方法である。該組成物は，塩基性水溶液中で脱プロトン化可能な官能基を示す骨格を有するシロキサンプレポリマーを含む。更に，熱又は放射線で開始される硬化工程中に反応可能な反応性官能基がある。また，光反応性化合物をも含む溶媒中に，シロキサンポリマーを提供する。該組成物は，リソグラフィー製法の現像工程に水系現像剤システムを適用するネガティブトーンリソグラフィー加工工程に使用可能である。 （もっと読む）

【課題】シリコウエハーまたは有機薄膜上での塗布時の濡れ性、ＵＶ−ｉ線での感光特性に優れるポリオルガノシロキサン組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターン、及び半導体装置の提供。
【解決手段】 下記（ａ）〜（ｃ）の各成分を含むポリオルガノシロキサン組成物。
（ａ）少なくとも１種の特定のシラノール化合物、及び少なくとも１種の特定のアルコキシシラン化合物を混合し、触媒の存在下、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる、ポリオルガノシロキサン１００質量部。
（ｂ）光重合開始剤０．２〜２０質量部。
（ｃ）非イオン性界面活性剤０．０１〜１０質量部。 （もっと読む）

【課題】電気・電子材料、例えば、半導体デバイス、多層配線基板の製造用として有用なポリオルガノシロキサン及びそれを用いた感光性樹脂組成物で、優れたキュア残膜率を有し、アルカリ現像可能な樹脂膜を形成することが可能なポリオルガノシロキサン及び感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定シラノール化合物（ａ）、特定アルコキシシラン（ｂ）、及び特定酸無水物構造を含むアルコキシシラン（ｃ）を触媒の存在下、積極的に水を添加することなく縮合させる方法で得られるポリオルガノシロキサン、及びこれを含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】２５０℃未満の焼成条件にて、層間絶縁膜の形成に用いる場合にあっては高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率、低誘電率の層間絶縁膜を形成でき、またマイクロレンズの形成に用いる場合にあっては高い透過率と良好なメルト形状を有するマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】上記感放射線性樹脂組成物は、
［Ａ］オキシラニル基およびオキセタニル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の基と、オキシラニル基またはオキセタニル基に付加反応しうる官能基とを有するポリシロキサン、ならびに
［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】 優れた電子写真特性としての高感度を維持しつつ、スジ、ポチ、ゴースト等の画像欠陥のない良好な画像を長期にわたって得ることのできるプロセスカートリッジ、画像形成装置及び帯電部材を提供する。
【解決手段】 導電性弾性層及び該導電性弾性層上に形成された表面層を有する帯電部材の表面層が、オキシアルキレン基を有するポリシロキサンを含有し、その表面硬度Hが
10≦H≦180N/mm²あり、同一条件で測定した導電部材の表面硬度と感光体の表面硬度の比が1/80≦該帯電部材の表面硬度/該感光体の表面硬度≦9/10とする。 （もっと読む）

【課題】耐イオンエッチング性および耐熱性を改善したポリシルセスキオキサンならびに該ポリシルセスキオキサンからなる硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式（１ａ）で表されるケイ素化合物Ｒ^1aＳｉ（ＯＲ²）₃または、式（１ｂ）で表されるケイ素化合物Ｒ^1bＳｉ（ＯＲ³）₃と、式（１ｂ）で表されるケイ素化合物Ｒ^1bＳｉ（ＯＲ³）₃および式（１ｃ）で表されるケイ素化合物Ｒ^1cＲ^1dＳｉ（ＯＲ⁴）₂からなる群から選択される１種以上のケイ素化合物とを含む混合物を加水分解後、縮合させて得られる芳香環およびビニル基を有するケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩチップのバッファコート材料や再配線層として好適な、キュア前後での膜減りが少なく、２．７以下という低誘電率で、製膜に適した粘度で、通常の光重合開始剤を用いても空気中で硬化可能な感光性シリコーン化合物を含む樹脂組成物、並びにそれを用いた樹脂絶縁膜を提供すること。
【解決手段】特定の構造を有する感光性シリコーン化合物１００質量部、及び光重合開始剤０．１〜２０質量部を含有する感光性樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】新規なポリシラン化合物及びその合成方法の提供、並びに上記化合物を用いた、硬化（重合）速度が高く、保存安定性に優れる紫外線硬化型のインク組成物の提供。上記インクを用いたインクジェット記録方法、上記インクが収容されてなる容器及び記録装置の提供。
【解決手段】下記式１で表される構造を有する紫外線硬化型インク組成物。
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【課題】低硬化収縮性でかつ、熱硬化後の透明性に優れ、アルカリ溶剤に含浸後のクラック発生が抑えられ、基板との接着性に優れる硬化膜を得ることができる感光性シロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表されるイミド基含有シラン化合物とオルガノシラン化合物の１種以上を反応させて得られるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、を含有する感光性シロキサン組成物。


（各Ｒ^１はそれぞれ同じでも異なっていても良く、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシル基、フェニル基、フェノキシ基及びそれらが置換された有機基を表す。またＲ^２は炭素数１〜１０の２価の有機基、Ｒ^３は、ケイ素原子を含まない炭素数５〜２０の有機基を表す。） （もっと読む）

【課題】 エン−チオール反応を利用した硬化物であって、紫外線によって容易に硬化し、低収縮性のため厚膜硬化が可能であり、保存安定性が良好で、しかも耐候性などの諸特性を満足しうる硬化物を実現するための紫外線硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）：
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（式中、Ｒ¹は少なくとも１つの炭素‐炭素二重結合を有する炭素数１〜８の有機基を表し、Ｒ²は水素原子、炭素数１〜８の炭化水素基、または芳香族炭化水素基を表す。）で示される炭素‐炭素二重結合を有するアルコキシシラン類（ａ１）を含有するアルコキシシラン類（ａ）を加水分解および縮合して得られる縮合物（Ａ）、ならびに二級チオール基を有する化合物（Ｂ）を含有することを特徴とする紫外線硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）の繰り返し単位を有するＭｗが３，０００〜５００，０００のシルフェニレン骨格含有高分子化合物。


［Ｒ¹〜Ｒ⁴は１価炭化水素基を示す。ｍは１〜１００、ａは正数、ｂは０又は正数、０．５≦ａ／（ａ＋ｂ）≦１．０、Ｘは脂肪族又は脂環族連結ジフェノール含有の二価の有機基。］
【効果】高分子化合物を使用することにより幅広い波長領域の光で１μｍに満たない薄膜から２０μｍを超えるような厚膜での幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】液相プロセスを用いて、安定かつ所望な膜厚の膜を形成することができる高次シラン組成物、かかる高次シラン組成物により製造される膜付基板の製造方法、膜付基板を備える電気光学装置および電子デバイスを提供すること。
に関するものである。
【解決手段】高次シラン組成物は、高次シラン化合物と、置換または無置換の炭化水素系溶媒を含む溶媒とを含有し、前記溶媒として、前記高次シラン化合物が溶解し得るように、屈折率が１．５３以上のものを選択する。また、炭化水素系溶媒は、比誘電率が１０以下であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】感光性組成物、特に、二層、あるいは多層レジストに好適な感光性組成物、感光性組成物に好適な樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して脱離する基を有する特定のシロキサン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、該樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、および該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】支持基体に対して、耐擦傷性、耐クラック性に優れた保護被膜を形成することができ、更に指紋汚れ等の汚染物質に対する防汚効果や帯電防止性、マジックインキの拭き取り性を付与させることができる無溶剤の光及び熱硬化性コーティング剤組成物、その硬化皮膜を有する物品を提供する。
【解決手段】
［Ａ］下記単位式（１）で表されるオルガノポリシロキサン化合物、［Ｃ］（ＣＦ₃（ＣＦ₂）_mＳＯ₂）₂ＮＬｉ（ｍ＝０〜７）、［Ｄ］ラジカル系光重合開始剤及び／又は熱縮合触媒、及び必要により［Ｂ］［Ａ］成分以外の（メタ）アクリル基含有化合物を含有してなる無溶剤の光及び熱硬化性コーティング剤組成物。
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少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物と、少なくとも一つのＯＲ基又は少なくとも一つのシラノール基を有するケイ素含有化合物（又は双方の基を有する化合物）とを、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、又は水酸化バリウム、及び有利には水、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、及び２−ブタノール、アセトン又はトルエン等の溶媒存在下で、互いに反応する段階を含むオルガノシリコン縮合物を調製する方法。 （もっと読む）

本発明は、基板上に重合可能な有機官能基を含有するオリゴ−シロキサンと、重合体形成の可能な光活性単量体または／および光照射の時に二量体を形成することによって重合を開始する光化学開始単量体を含有する写真現像型ハイブリッドコーティング層を形成する工程と、前記写真現像型ハイブリッドコーティング層に光を照射して望む形態の構造を有する微細光学素子を形成することを特徴とする微細光学素子の製造方法を提供する。
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【課題】熱硬化工程後において高解像度、高耐熱性、高透明性を有し、さらにアルカリ処理後にすぐれた接着性を有する感光性シロキサン組成物を提供することにある。
【解決手段】ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）１０時間半減期温度が９０℃〜１６０℃である熱ラジカル発生剤を含有する感光性シロキサン組成物。 （もっと読む）