【課題】塗布性に優れ、層間絶縁膜として用いることのできるシリカ系被膜の形成が比較的容易であり、かつ形成されるシリカ系被膜が耐熱性、解像性及び透明性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いたシリカ系被膜の形成方法を提供すること。
【手段】（ａ）成分：第１のシラン化合物を加水分解縮合して得られる第１のシロキサン樹脂と第２のシラン化合物との混合物を加水分解縮合し、更に加熱処理して得られる第２のシロキサン樹脂と、（ｂ）成分：フェノール類又はアルコール類とナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化合物とを含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低比誘電率であり且つ高弾性率な層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。
【解決手段】本発明のネガ型感放射線性組成物は、（Ａ）下式（１）で表される有機ケイ素化合物（ａ１）と、下式（２）で表される有機ケイ素化合物（ａ２）と、を含む加水分解性シラン化合物を加水分解縮合させて得られるポリシロキサン、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、（Ｃ）酸拡散抑制剤、及び（Ｄ）溶剤を含有する。


〔式中、Ｒ^１は炭素数２〜６のアルケニル基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ａは１〜３の整数である。Ｒ^３は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、シアノ基、シアノアルキル基又はアルキルカルボニルオキシ基を表し、Ｒ^４は１価の有機基を表し、ｂは１〜３の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】本発明は、光重合性・リソグラフィー性を有し、さらには、絶縁性に優れるポリシロキサン系の光硬化性組成物を提供すること。薄膜トランジスタのパッシベーション膜、ゲート絶縁膜として有用である。
【解決手段】同一分子中に光重合性官能基およびＳｉＨ基を有し、かつ、６〜２４個のＳｉ原子から形成される多面体骨格を有するポリシロキサン構造を含有するポリシロキサン系化合物、アルケニル基を有する化合物、光重合開始剤、ヒドロシリル化触媒を含む光硬化可能な組成物。 （もっと読む）

【課題】所定のリタデーション値を有し、高透明であり、位相差の耐熱性に優れた位相差フィルムを提供する。
【解決手段】（１）所定のシリコーン樹脂と、（２）光重合開始剤及び／又は（３）熱重合開始剤とを含む樹脂組成物を硬化させて、１００℃で１０時間の加熱処理をした後の位相差フィルムの位相差値変化量が０〜２０ｎｍである位相差フィルムであり、また、樹脂組成物における上記（１）成分の不飽和基を０．１％〜５０％減少させる一次硬化により樹脂成形体を得た後、この樹脂成形体を所定の形状に切り出して延伸治具に固定し、任意方向に延伸倍率５〜７００％の範囲で延伸させて延伸樹脂成形体を得て、この延伸樹脂成形体を延伸治具に固定した状態で更に加熱及び／又はエネルギー線を照射して二次硬化させ、その後、室温まで冷却する位相差フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】
表面が内部より高い硬度を有するポリシロキサン系の有機無機複合体において、高い表面硬度とアンチグレア性やアンチニュートンリング性とを両立する有機無機複合体を提供すること。
【解決手段】
ａ）式（Ｉ）：Ｒ_ｎＳｉＸ_４−ｎ（式中、ＲはＳｉに炭素原子が直接結合する有機基を表し、Ｘは水酸基等を表す。ｎは１又は２を表し、ｎが２のとき各Ｒは同一でも異なっていてもよく、（４−ｎ）が２以上のとき各Ｘは同一でも異なっていてもよい。）で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、
ｂ）金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物等からなる群より選ばれる少なくとも１種の３５０ｎｍ以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び／又はそれから誘導される化合物
ｃ）紫外線硬化性化合物の硬化物、及び
ｄ）金属酸化物粒子
を含有することを特徴とする有機無機複合体。 （もっと読む）

【課題】光配向法によっても良好な液晶配向能を示し、且つ良好なプレチルト角発現性およびプレチルト角の経時的安定性を示す液晶配向膜を与える液晶配向剤に含有されるための放射線性ポリオルガノシロキサンの製造方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、特定の（メタ）アクリロキシ基を有するポリオルガノシロキサンと、下記式（２−９−１）


で表される化合物に代表される特定の化合物とを、重金属化合物または重金属錯体の存在下に反応させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光硬化性と接着性に優れる感光性組成物、それを含むコーティング剤、その塗膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂と、下記一般式（１）の化合物とを共加水分解縮合させた樹脂組成物であって、


（式（１）中、ｎ＝０〜３であり、Ｒ^１は水素原子又は有機基を示す。また、複数のＲ^２は異なってもよい水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）前記化合物は（Ｂ）ｎ＝１〜２であり、Ｒ^１として、環状エーテル基を有する、少なくとも１種のアルコキシシラン化合物と、（Ｃ）ｎ＝１〜２であり、Ｒ^１として、アリール基を有する、アルコキシシラン化合物とを含み、かつ（２）で表される（Ｂ）及び（Ｃ）の混合指標αが、０．００１〜１９である組成物と、光酸発生剤とを含有する感光性組成物；混合指標α＝（αｃ）／（αｂ）（２）（式（２）中、αｂ：前記（Ｂ）成分の含有量（ｍｏｌ％）、αｃ：前記（Ｃ）成分の含有量（ｍｏｌ％））。 （もっと読む）

【課題】ディスクリネーション等の表示不良の発生を防止しつつ、真空成膜装置を用いることなく配向膜を形成することによりコストを削減することができる配向膜材料および液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】配向膜材料が下記の式（１）により表される高分子を含むことを特徴とする。
[化１]
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【課題】放射線によって硬化し、高硬度、耐擦傷性、密着性、透明性に優れ、マジック拭取り性、指紋拭取り性が良く、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有する反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₁）₃ （１）
（式中Ｒ_eは、エポキシ基を有する置換基を示す。Ｒ₁はC₁〜C₄のアルキル基を示す。）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物を、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるケイ素化合物（Ａ）、平均粒子径が１〜２００ナノメートルのナノポーラス構造を有するコロイダルシリカ（Ｂ）、分子内に感光性基を有するフッ素化合物（Ｃ）、分子内に少なくとも３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能（メタ）アクリレート（Ｄ）、光カチオン重合開始剤（Ｅ）、及び光ラジカル重合開始剤（Ｆ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】より強固な架橋構造を構築することに伴う脆性化や硬化収縮率の増加といった問題を解決することができる硬化物の製造方法を提供する。
【解決手段】分子中にラジカル重合可能な炭素−炭素二重結合を含んだ有機基とヒドロシリル基とを有した化合物ａを、ラジカル重合させてヒドロシリル基を有した状態で一次硬化させ、得られた一次硬化物を塩基性水溶液と接触させてヒドロシリル基を脱水素縮合させることを特徴とする硬化物の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性、耐摩耗性および接着性に優れ、良好な光硬化性を有し、更には経時によっても安定であり、光照射後に熱処理を施すことなく良好な光硬化性を示すポリオルガノシロキサン構造を有するグラフト重合体およびこれを利用した光重合性樹脂組成物を与える。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン構造ユニットと、側鎖に重合性二重結合を有する繰り返し単位を有する構造ユニットが硫黄原子を介して結合したポリオルガノシロキサングラフト重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、表面硬度、屈折率、透明性、ガスバリアー性が高く、熱膨張率が低い特性を満足し、熱および紫外線によって硬化し、半硬化状態で成型加工性を有し、その後完全硬化させることができる透明シートの提供。
【解決手段】Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３のチオール基含有アルコキシシランを加水分解、縮合して得られる縮合物（Ａ）、炭素−炭素二重結合を有する化合物（Ｂ）、および、イソシアネート基を有する化合物（Ｃ）を［｛（Ｂ）成分中に含まれる二重結合の数｝／｛（Ａ）成分中のチオール基の数｝］が０．１〜０．８、［｛（Ｃ）成分中に含まれるイソシアネート基の数｝／｛（Ａ）成分中のチオール基の数｝］が０．１〜０．８、［｛（Ｂ）成分中に含まれる炭素−炭素二重結合の数＋（Ｃ）成分中のイソシアネート基の数｝／｛（Ａ）成分中のチオール基の数｝］が０．９〜１．１なる割合で含有する樹脂組成物（Ｄ）を熱および紫外線で二段階硬化する。 （もっと読む）

【課題】耐アルカリ溶剤性を持つ硬化膜を作成する事が出来るポジ型感光性組成物を提供する。また、本発明の別の目的は、上記のポジ型感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、固体撮像素子、光導波路などの素子を提供する。
【解決手段】（ａ）珪素原子に結合する水素原子を含まないポリシロキサン、（ｂ）ナフトキノンジアジド化合物、および（ｃ）溶剤を含有し、さらに（ｄ）下記一般式（１）で表されるイソシアヌレート基を有する化合物、もしくは（ｅ）イソシアヌレート基を有して珪素原子に結合する水素原子を含まないポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


（式中、Ｒ¹は水素、または置換、無置換の炭素数１〜１０価の基を表す。） （もっと読む）

【課題】プラスチック成型品の表面をコートするハードコート性塗料において、帯電防止性、防汚性、耐久性を全て満足できる性質を有するハードコート性塗料を得るため、これに用いられる新規な材料を提供する。
【解決手段】水酸基末端ポリシロキサンの水酸基をエチレンオキシドもしくはプロピレンオキシドを付加させ、各末端基に少なくとも１つのエチレンオキシドを有するポリアルキレンオキシド変性ポリシロキサンとし、前記ポリアルキレンオキシド変性ポリシロキサンの両末端をエステル化して（メタ）アクリロイル基を導入した新規なポリエーテル変性ポリシロキサン化合物を提供し、またこれを含んだ放射線硬化性組成物を提供すること。合成した化合物についての図１のＩＲチャートには、メタクリロイル基およびウレタン結合に起因する（−ＣＯ−）１７１５ｃｍ^−１のピークが見られる。 （もっと読む）

【課題】高温で長時間使用した場合にもコントラスト低下が小さい、耐熱性に優れたＳＰＤが得られる、偏光粒子を分散させるための分散樹脂組成物を提供する。前記分散樹脂組成物を含有する、コントラストの耐熱性低下が小さいＳＰＤが得られる硬化性組成物及びＳＰＤ用フィルムを提供する。
【解決手段】炭素原子数８〜１８のモノアルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（Ａ）とメタクリロイル基を有するｌｏｇＰ＝−５〜０の重合性モノマー（Ｂ）との共重合体（Ｘ）とを含有してなる懸濁粒子デバイス用分散樹脂組成物、（メタ）アクリロイル基を含有するシリコーン樹脂、偏光性粒子及び前記の懸濁粒子デバイス用分散樹脂組成物を含有する懸濁粒子デバイス用硬化性組成物、これら懸濁粒子デバイス用分散樹脂組成物または懸濁粒子デバイス用硬化性組成物を用いた懸濁粒子デバイス用フィルム。 （もっと読む）

【課題】低い光損失と共に高い屈折率値を有する改善されたゾル−ゲル組成物およびその調製法を提供すること。
【手段】本明細書では、光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法が記載される。ゾル−ゲル前駆体は、熱的に安定であり、高い屈折率および低い光損失値を有する組成物を形成する。該前駆体を使用して、通信波長の領域の光導波路用途に理想的に適したゾル−ゲル組成物を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】高集積化および多層化が望まれている半導体素子などにおいて好適に用いることができ、機械的強度および加工耐性に優れた低比誘電率の絶縁膜の形成に用いることができる絶縁膜形成用組成物、ならびに絶縁膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物１を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られた加水分解縮合物と、有機溶媒とを含む。
Ｒ^１_ｂ（Ｒ^２Ｏ）_３−ｂＳｉ−ＣＨ_２−Ｓｉ（ＯＲ^３）_３−ｃＲ^４_ｃ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は同一または異なり、それぞれ１価の有機基を示し、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜１の数を示す。） （もっと読む）

【課題】ハードコート層の物性を損なう分子を系中に発生させず、構造制御されたポリオルガノシロキサンを簡便に得ることが可能なポリオルガノシロキサンの製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシランを、該アルコキシシランの加水分解性基に対して１．０〜５．０モル倍の水を使用し、該アルコキシシラン及び水に不溶な塩基性固体触媒の存在下、加水分解縮合するポリオルガノシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨ官能基を分解することなく分枝ヒドロシロキサンを製造するための簡単な１段階方法を提供する。
【解決手段】１以上の低分子量ＳｉＨ−官能性シロキサン、１以上の低分子量ＳｉＨ−のないシロキサン、１以上のテトラアルコキシシラン、及び任意選択により１以上のトリアルコキシシランの混合物を、水を添加し、かつ、ブレンステッド酸性イオン交換体の存在下で反応させることにより、液体状の分枝ＳｉＨ−官能性シロキサンを製造する方法（当該反応は１つのプロセス工程で行われることを特徴とする）による。 （もっと読む）

【課題】高温高湿環境下における反射率変化や反り変化が少なく、耐摩耗性に優れた光透過層を与える紫外線硬化型組成物、及び高温高湿環境下においても特性変化が少なく耐摩耗性に優れた光ディスクを提供する。
【解決手段】エポキシ（メタ）アクリレートと、ウレタン（メタ）アクリレートと、式（１）


（式中、Ｘは式（２））


で表される紫外線硬化型組成物。 （もっと読む）