【課題】本発明の課題は吐出ノズル式塗布法に好適であって、塗布ムラがなく外観に優れ、また高度な平坦性（膜厚均一性）及び高速塗布を達成でき、かつ透明性、耐擦傷性に優れる保護膜及び層間絶縁膜としての硬化膜を形成可能なシロキサンポリマー組成物を提供することである。
【解決手段】［Ａ］ラジカル反応性官能基を有するシロキサンポリマー、［Ｂ］ラジカル重合開始剤、及び［Ｃ］有機溶媒を含有し、固形分濃度が５質量％以上３０質量％以下であり、２５℃における粘度が２．０ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ［Ｃ］有機溶媒として、少なくとも（Ｃ１）２０℃における蒸気圧が０．１ｍｍＨｇ以上１ｍｍＨｇ未満の有機溶媒を含むシロキサンポリマー組成物。 （もっと読む）

【課題】キチン又はキトサンのナノファイバーを補強繊維として用いた透明複合材であって、広い範囲の樹脂屈折率において高い透明性を発揮でき、フレキシブルであり、機械強度、軽量性、表面平滑性、耐熱性、耐ＵＶ性等を発揮する新規複合材を提供する。
【解決手段】少なくとも３官能のものを含むアルコキシシラン又は少なくとも３官能のものを含むクロロシランを酸性又はアルカリ性条件下で加水分解、縮合し、得られた反応混合物から得られるラダー型又はランダム型を主とする硬化性シリコン樹脂混合物を、キチンナノファイバー及びキトサンナノファイバーから選択される少なくとも１種のナノファイバーに含浸させてなるナノファイバー補強透明複合材。 （もっと読む）

【課題】表面に５０ｎｍ以上の深さの微細凹凸構造を有し、耐溶剤性にも優れたフィルムを提供すること。
【解決手段】光の作用により変形を誘起する光応答性部位を含む３官能のシラン化合物（Ａ）１〜２５モル％と、芳香環を１つ以上有し且つ前記光応答性部位を含まない３官能のシラン化合物（Ｂ）７０〜９８モル％と、４官能のシラン化合物（Ｃ）１〜２５モル％とを混合して調製したゾル溶液を用いて前駆体フィルムを作製し、該前駆体フィルムの表面に微細凹凸構造を形成し、該微細凹凸構造を有する前駆体フィルムに加熱処理を施すことによって得られるフィルムであり、
前記加熱処理後のフィルムの微細凹凸構造の深さが５０ｎｍ以上であり、
前記加熱処理後のフィルムをアセトンに室温で５分間浸漬した場合に、波長４８０ｎｍにおける、前記加熱処理を施す前の前駆体フィルムの吸光度に対する浸漬後のフィルムの吸光度の残存率が９０％以上である、
ことを特徴とする表面に微細な凹凸構造を有するフィルム。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性（耐熱透明性）、感度、屈折率、表面硬度及び耐擦傷性が優れると共に、ＩＴＯ透明導電膜に対する密着性及び耐クラック性が高い保護膜及び層間絶縁膜を形成するために好適に用いられ、かつ十分な解像性を有するポリシロキサン系ネガ型感放射線性組成物、その組成物から形成された保護膜及び層間絶縁膜、並びにその保護膜及び層間絶縁膜の形成方法を提供することである。
【解決手段】
［Ａ］（ａ１）式（１）で示される加水分解性シラン化合物及び式（２）で示される加水分解性シラン化合物を反応させて得られる加水分解縮合物
［Ｂ］感放射線性酸発生剤又は感放射線性塩基発生剤
［Ｃ］アルコール系溶剤を含有する感放射線性組成物である。 （もっと読む）

【課題】長期の室温放置安定性に優れ、さらに露光量が比較的少なくても、精度よくパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で表される化合物を含むシロキサン化合物を加水分解縮合して得られる重量平均分子量５０００以上のシロキサン樹脂と、光酸発生剤及び光塩基発生剤からなる群より選択される少なくとも１種と、上記シロキサン樹脂を溶解可能な溶媒と、を含有する。


［式中、Ｒ^１は、Ｈ原子若しくはＦ原子、又はＢ原子、Ｎ原子、Ａｌ原子、Ｐ原子、Ｓｉ原子、Ｇｅ原子若しくはＴｉ原子を含む基、又は炭素数１〜２０の有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示し、４−ｎ個のＸは同一でも異なっていてもよく、ｎが２のとき、２個のＲ^１は同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】耐久性、耐候性を有するコーティング用硬化性樹脂組成物、これを使用した太陽電池用保護シート及び太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】Ｒ¹ＳｉＯ_3/2単位および／またはＲ²Ｒ³ＳｉＯ_2/2単位と、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、アルコール性水酸基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、下記一般式で表される結合により結合された複合樹脂（Ａ）、ポリイソシアネート（Ｂ）、及び金属酸化物（Ｃ）を含有し、前記（ａ１）の含有率が１０〜６０重量％であり、且つ、ポリイソシアネート（Ｂ）の含有率が５〜５０重量％である硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を保護層に有する太陽電池用保護シート、及び太陽電池モジュール。
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【課題】耐擦傷性や、耐クラック性、基材との密着性等に優れる硬化被膜を得るために、貯蔵安定性等の優れたオルガノシロキサンオリゴマーの製造方法を提供する。
【解決手段】実質的にイオン交換樹脂の非存在下で、オルガノシランを、該オルガノシランの加水分解に必要な理論水量に対してモル比で１．０以上５．０以下の量であって、且つ、必要に応じてｐＨ調整剤で調整されたｐＨが５．０以上８．０以下の水の存在下で、加水分解・縮合反応させた後、反応系のｐＨを３．０以上５．５以下の範囲に調整するオルガノシロキサンオリゴマー組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
低光量の紫外線発光ダイオード光源の照射により、良好な表面硬化性と深部硬化性を有する光ラジカル硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
下記式（３）で示されるシリコーン変性イソシアヌレート。
【化１】


（式中、Ｒ^１は互いに独立に、水素原子またはメチル基であり、Ｒは互いに独立に、メチル基またはフェニル基であり、ｎは２〜１０００の整数であり、ｋは０〜２の数である）
及び、
（Ａ）上記式（３）で示されるシリコーン変性イソシアヌレート、
（Ｂ）光ラジカル開始剤、及び
（Ｃ）ラジカル連鎖移動剤
を含有する光ラジカル硬化性樹脂組成物及び、該組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、常温硬化又は熱硬化性下塗り塗料組成物（Ｉ）を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つがウレタン結合及び１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（ａ）、及び光重合開始剤（ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物（II）を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】基材、特にプラスチック材料との付着性に優れ、しかも耐候性、耐擦り傷性に非常に優れた複層塗膜を形成しうる複層塗膜形成方法、及び該複層塗膜を有する塗装物品を提供する。
【解決手段】基材上に、光及び熱硬化性下塗り塗料組成物（Ｉ）を用いて下塗り塗膜を形成した後、その上に、ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つがウレタン結合及び１つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（ａ）、及び光重合開始剤（ｂ）を含有する活性エネルギー線硬化型上塗り塗料組成物（II）を用いて上塗り塗膜を形成することを特徴とする複層塗膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有し、透過率が高く透明で、尚且つ強靭性を有した成形体を得ることができる硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で示されるラジカル反応性基を有したかご開裂型構造を有する硬化性シリコーン樹脂、及びラジカル重合開始剤を含む硬化型樹脂組成物であり、式中、Ｒ^１はアルキル基、アリール基、又は不飽和結合を有する反応性官能基を示し、その少なくとも１つは反応性官能基であり、Ｒ^２は不飽和結合を有する反応性官能基を示し、Ｒ^３は炭素数アルキル基若しくはアルコキシ基又は炭素数アリール基若しくはアリールオキシ基を示し、Ｒ^４はＲ^２に由来する２価の基を示し、Ｒ^５は芳香環を含む２価の基を示し、ｍは１〜１０００の数であり、ｎは６〜１４の数であって、ｎが奇数のときａは２、ｎが偶数のときａは１である。


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【課題】透明性、耐熱性、および耐衝撃性に優れて、低熱膨張性の積層体フィルムを提供する。
【解決手段】一般式：［ＲＳｉＯ_3/2］_nで表される籠型シルセスキオキサン樹脂を含有した硬化性樹脂組成物からなる第一の層に、一般式：Ｙ−[Ｚ−(Ｏ_1/2−Ｒ²₂ＳｉＯ_1/2)_a−(Ｒ³ＳｉＯ_3/2)_k−(Ｏ_1/2)_b]_l−Ｚ−Ｙで表される構成単位を有する籠型シルセスキオキサン含有硬化性シリコーン共重合体を含有した硬化性樹脂組成物からなる第二の層を積層させることで、耐熱性、透明性、及び低熱膨張性に優れた第一の層に、耐熱性、透明性、及び耐衝撃性に優れた第二の層を積層して、耐熱性、透明性、耐衝撃性、及び低熱膨張性を併せ持つようにした積層体フィルムである。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐熱性、耐衝撃性、及び寸法安定性に優れたガスバリア性積層体フィルムを提供する。
【解決手段】籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が２０００MPa以上、線膨張係数が８０ppm/K以下、及びガラス転移温度が３００℃以上である第一の層と、籠型シルセスキオキサン構造を有した硬化性樹脂を含んだ硬化性樹脂組成物からなり、引張応力−ひずみ曲線における引張弾性率が１００MPa以上であって第一の層の引張弾性率未満であり、かつ、降伏点を有して塑性変形を示す第二の層とが積層され、この積層物の一方の面、又は両方の面には、ガスバリア層が設けられていることを特徴とするガスバリア性積層体フィルムである。 （もっと読む）

【課題】高い耐擦傷性を有しかつ透明性に優れる硬化塗膜を得ることができる活性エネルギー線硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有し、該ケイ素原子に直接に結合した有機基のうち、一部又は全部が、少なくとも１つの（メタ）アクリロイルオキシ基と少なくとも１つのイソシアヌレート環構造との両者を有する有機基であるシルセスキオキサン化合物（Ａ）、並びにシリカ微粒子（ｂ−１）と、分子内に（メタ）アクリロイルオキシ基を有する加水分解性シラン（ｂ−２）とを反応させて得られる反応性粒子（Ｂ）を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ｉ）一般式(１)で表されて、１分子内にカルボン酸残基及び重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂、（ii）少なくとも１個以上のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、及び（iii）光重合開始剤を必須の成分として含有する感光性樹脂組成物である。


（Ｘは内部にヘテロ原子を含んでいても良い２価の置換基、Ｙはイソシアヌル環骨格に、重合性二重結合及びカルボキシル基を含んだ基が結合した置換基を示す。Ｚは水素原子、又はイソシアヌル環骨格に、重合性二重結合及びカルボキシル基を含んだ基が結合した置換基を示す。） （もっと読む）

【課題】塩基性水溶液で現像して、実用可能な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂を基材樹脂として含むネガ型レジスト組成物において、オキセタン構造が構造中に含まれる化合物として、次式（５）で表わされるケイ素含有重合体：


（上式において、ｎは、正の整数である）が含まれるように構成する。 （もっと読む）

以下の式によって表されるエポキシシランと、
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^３は、Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基を表し、Ｘは、少なくとも１つのオキシラン環を有する有機基を表す）；
以下の式によって表されるフッ素化シランと、
【化２】


（式中、Ｒ_ｆは、３〜５個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基を表し、Ｒ^４は、Ｈ又はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表し、Ｒ^５〜Ｒ^７はＣ_１〜Ｃ_４アルキル基を表す）；
光酸と、を含む、硬化性組成物。フォトツールをコーティングすることによって、前記フォトツール上に保護コーティングを提供するための硬化性組成物の使用も開示される。 （もっと読む）

シルセスキオキサン樹脂をパターン形成フォトレジストの上に塗布し、硬化して、パターン表面の上に硬化シルセスキオキサン樹脂を生成する。その後、ＣＦ_４を含有する反応性イオンエッチングレシピを用い、シリコン樹脂をフォトレジスト材料の上面まで「エッチングバック」し、有機系フォトレジストの上面全体を露出する。その後、Ｏ_２を含有する第２反応性イオンエッチングレシピを用い、有機フォトレジストをエッチング除去する。結果、フォトレジスト中にパターン形成したポストのサイズ及び形状のビアホールを有するシリコン樹脂膜が得られる。任意で、新規パターンを下層へ転写することができる。
（もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性、接着性及び応力緩和性に優れ、且つボイドやクラックといった欠陥のない硬化体を提供する。
【解決手段】（ｉ）Ｘ線小角散乱法（ＳＡＸＳ）を用いて測定される散乱プロファイルのギニエ（Ｇｕｉｎｅｒ）プロットにより求められる相分離構造のサイズ（Ｒｇ）が５０ｎｍ以下であること、（ｉｉ）下記式（１）：
緩和指標＝（２００℃におけるＴ２）／（２５℃におけるＴ２）・・・（１）
（式中、Ｔ２は固体^１Ｈ−ＮＭＲのソリッドエコー法によって得られる緩和時間である）で表される緩和指標が１．２〜１０であること、及び（ｉｉｉ）黄色度（ＹＩ）が３０以下であることを満足し、シリコーンを含有するハイブリッド硬化体である。 （もっと読む）

【課題】重合性官能基及び紫外線吸収性基を有し、得られる塗膜の耐熱性、耐擦傷性、耐候性に優れるシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素原子に直接に結合した有機基を有するシルセスキオキサン化合物であって、前記ケイ素原子に直接に結合した有機基の少なくとも１つが下記一般式（Ｉ）で表される有機基であることを特徴とするシルセスキオキサン化合物及び該シルセスキオキサン化合物の製造方法。
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