光ディスク
【課題】高温高湿環境下における反射率変化や反り変化が少なく、耐摩耗性に優れた光透過層を与える紫外線硬化型組成物、及び高温高湿環境下においても特性変化が少なく耐摩耗性に優れた光ディスクを提供する。
【解決手段】エポキシ（メタ）アクリレートと、ウレタン（メタ）アクリレートと、式（１）
（式中、Ｘは式（２））
で表される紫外線硬化型組成物。
【解決手段】エポキシ（メタ）アクリレートと、ウレタン（メタ）アクリレートと、式（１）
（式中、Ｘは式（２））
で表される紫外線硬化型組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有するブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術や情報網の発展により大容量の情報記録の伝達が頻繁に行われるようになっている。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザーの光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。
【０００３】
この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。
【０００４】
ブルーレーザーを使用した光ディスクは長期に安定した記録再生特性を保持する必要がある。このため、光透過層には形状安定性に優れるものが望まれ、また最外層として使用する場合には優れた耐磨耗性を有することが求められる。ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物としては、例えば、エポキシアクリレートとウレタンアクリレートとを併用し、重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを使用した紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献１参照）。当該紫外線硬化型組成物は、耐久性と高光透過率とを有する硬化被膜を与えるものであるが、高温高湿環境下における反り変化の更なる低減が望まれていた。
【０００５】
初期および耐久時の光ディスクの反りを抑制可能な硬化物層を形成し得る光硬化型組成物として、ポリエーテル骨格のウレタン（メタ）アクリレートを含有する組成物が開示されている（特許文献２参照）。しかし当該組成物の硬化物は耐摩耗性が十分でなく、光ディスクの最外層の光透過層として適用すると傷つきが生じる場合があった。また、耐久試験における反り変化は好適であるが、反射率の変化が生じる場合があり、更なる改善が求められていた。
【０００６】
また、防汚性に優れるハードコート用の紫外線硬化型組成物として、光硬化性化合物と反応する構造を側鎖構造として有する特定構造のシリコーン化合物を含有する紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献３参照）。しかし当該紫外線硬化型組成物は、光ディスクの最外層の光透過層として厚膜を形成した場合には、高温高湿環境下での反りや、外部環境変化による膜の反りが大きく、光透過層への適用は困難であった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１０９７８５号公報
【特許文献２】特開２００７−４２２４１号公報
【特許文献３】特開２００７−４６０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、高温高湿環境下における反射率変化や反り変化が少なく、耐摩耗性に優れた光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明においては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートおよび特定のシラン化合物を併用する紫外線硬化型組成物により、光を好適に透過し、磨耗に強く、かつ反りを生じにくい硬化被膜を形成でき、耐摩耗性に優れた光透過層を形成できる。
【００１０】
すなわち本発明においては、エポキシ（メタ）アクリレートと、ウレタン（メタ）アクリレートと、式（１）
【００１１】
【化１】
（式中、Ｘは式（２）
【００１２】
【化２】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１８のアルキレン基、及び、炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結された構造を有する２価の基から選択される１種又は２種以上の基を連結させた２価の基を表し、Ｒ１はＳｉと直結していてもよいし、酸素原子を介して結合していてもよく、Ｒ２は水素原子又はメチル基を表す。）
で表されるｎ個の構造単位、
及び、式（３）
【００１３】
【化３】
で表されるｍ個の構造単位が、ランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。また、式（２）及び式（３）で表される構造単位は、これらの構造単位同士で、又は分子内の他の構造部分と酸素−酸素結合により連結することはない。）
で表されるシリコーン化合物、とを含有することにより、高温高湿環境下における反射率変化や反り変化が少なく、耐摩耗性に優れた光ディスクを実現する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物は、高温高湿環境下においても反射率変化や反り変化が少ない光透過層を形成することができるため、高温高湿環境下においても、特性劣化の少ない光ディスクを実現できる。また、当該組成物の硬化膜は耐摩耗性に優れることから、光透過層を最外層として適用できるため、その表層にハードコート層を設けなくとも傷つきの少ない光ディスクを実現できる。このような組成物の硬化膜を光透過層とする光ディスクは、高温高湿環境下においても特性の低下が生じにくく、傷つきが少ないため、信号特性の劣化が少なく、短波長のブルーレーザーによっても好適に情報の記録・再生が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
［シリコーン化合物］
本発明の紫外線硬化型組成物において使用する、上記式（１）で表されるシリコーン化合物は、側鎖構造として、光硬化性化合物と適度な相溶性を有する部位と、光硬化性化合物と反応する部位とを特定の割合で有する。これを含有する紫外線硬化型組成物を膜状に塗付すると、その塗膜表面近傍では、相分離を生じやすい主鎖のシロキサン結合部位には光硬化性化合物と相分離しようとする力が働き、相溶性を有する側鎖部位は光硬化性化合物と相溶しようとする力が働くことにより、表層近傍にシロキサン構造部位の存在確率が高くなると考えられる。当該塗膜に紫外線を照射すると、光硬化性化合物が硬化する際に、シリコーン化合物の側鎖の反応性基とも反応し、硬化膜の表層にシロキサン構造が高い確率で存在することとなる。この際、一のシリコーン化合物に対して、複数の側鎖部位がアンカーとなるため、シリコーン化合物が硬化膜に強固に固定される。これにより本発明の紫外線硬化型組成物は、優れた防汚性や汚れの払拭性を有する硬化膜を形成でき、また、該硬化膜は長期間経過後や、高温高湿環境下で放置された際にも安定した防汚性を発現することができる。これに対し、本願発明のような構造を有さないシリコーン化合物では、複数のアンカー効果が得られずに固定化が充分でない場合や、相溶性の異なる部位を有さず表層近傍の存在確率を高くできない場合が生じるため、防汚性や汚れの払拭性に劣るものとなる。
【００１６】
前記式（１）中のＸは、前記式（２）で表されるｎ個の構造単位と前記式（３）で表されるｍ個の構造単位とがランダム状又はブロック状に連なった構造の基である。ランダム状とは、式（２）で表される構造単位と式（３）で表される構造単位とが順不同に、不規則な順で結合した構造を意味し、ブロック状とは、式（２）で表される構造単位が連続して結合した部分と式（３）で表される構造単位が連続して結合した部分とが交互に現れる構造を意味している。なお、前記ｎは１〜１５の整数であり、１〜１０の整数であることが好ましい。また、ｎに対するｍの比（ｎ／ｍ）は１／５〜１／２０であり、１／５〜１／１５であることが好ましい。なお、式（２）及び式（３）で表される構造単位は、これらの構造単位同士で、又は分子内の他の構造部分と酸素−酸素結合により連結することはない。
【００１７】
前記式（２）中のＲ１は、下記（I）及び（II）に記載した基の中から選択される２種以上の基が連結した構造の基である。
（I）炭素数１〜１８のアルキレン基
例えば、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）４ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２（ＣＨ２）１０ＣＨ２−、−ＣＨ２（ＣＨ２）１６ＣＨ２−等がある。
（II）炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結されたポリオキシアルキレン構造を有する２価の基
（II）の基を式で表すと、−（ＯＲ）Ｐ−（式中、Ｒは分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、ｐは１以上の整数である。）となる。例えば、−（ＯＣＨ２ＣＨ２）Ｐ−、−（ＯＣ３Ｈ６）Ｐ−、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）Ｐ−、−（ＯＣＨ２（ＣＨ２）１０ＣＨ２）Ｐ−等がある。また、分子鎖が異なる長さの−ＯＲ−がランダムに連なった構造を有する基、例えば、−ＯＣＨ２ＣＨ２−と−ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−がランダムに結合した基であっても良い。なお、Ｒ１として（ｉｉ）で表される基を用いる場合は、複数のエーテル結合を有するポリエーテル構造（ポリオキシアルキレン構造）の基を用いるのが好ましい。（ｉｉ）に記載した基は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキレンオキシド、テトラヒドロフラン、アルキル置換テトラヒドロフラン等の環状エーテルの重合体またはこれらの２種以上の共重合体から得ることができる。
【００１８】
上記の中でも、Ｒ１としては、炭素数１〜６のアルキレン基、−（ＯＲ）ｔ−（式中、Ｒはエチレン基又はプロピレン基を表し、ｔは２〜２０の整数を表す。）で表される２価の基及びエチレンオキシドとプロピレンオキシドをランダムに開環付加重合した２価の基から選択される１種の基、又はこれらから選択される２種以上の基が連結した基であることが好ましい。特に、それらの中でも、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）Ｐ−（式中、ｐは２以上の整数）、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｙ−（式中、Ｙは−ＯＣ２Ｈ４−と−ＯＣ３Ｈ６−がランダムに結合した基）であることが好ましい。（ｉｉ）に記載した基とＳｉ間の結合は、酸素原子を介していても構わないが、アルキレン基を介して結合した構造であることが好ましい。また、Ｒ１中の（ｉ）の基の一端は、Ｓｉと直結していてもよいし、酸素原子を介して結合していてもよいが、Ｓｉと直結していることが好ましい。また、前記式（２）中のＲ２は水素原子又はメチル基を表すが、水素原子であることが好ましい。
【００１９】
式（１）で表されるシリコーン化合物は市販品として入手可能であり、例えばｄｅｇｕｓｓａ社製のＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２００Ｎを例示できる。
【００２０】
また、式（１）で表されるシリコーン化合物としては、数平均分子量が２０００〜１２０００であることが好ましく、３０００〜８０００であることが更に好ましい。
【００２１】
紫外線硬化型組成物に含有させる式（１）で表されるシリコーン化合物の含有量は、紫外線硬化型組成物に対して、０．０５〜５質量部であり、好ましくは０．１〜２．０質量部である。上記範囲であると、本発明の光情報記録媒体の表面保護層は、表面に汚れが付着しにくく、また、付着した汚れを容易にふき取ることができ、優れた汚れ防止機能を長期にわたって安定に付与することができる。
【００２２】
［エポキシ（メタ）アクリレート］
本発明に使用するエポキシ（メタ）アクリレートとしては、分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物とアクリル酸を反応させて得られるものであれば、特に制限がなく、ポリエステル、ポリエーテル、ゴムなどにより変性されていてもよい。残留する全塩素量は２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
なかでも、ビスフェノール骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートは耐久性能に優れるため好ましく、式（i）、（iii）、（viii）で表されるエポキシ（メタ）アクリレートを特に好ましく使用できる。なかでも式（iii）で表されるエポキシ（メタ）アクリレートは、上記式（１）で表されるシリコーン化合物との相分離を生じにくく、優れた相溶性を有するため、組成物とした際に良好な透明性を実現でき、好適な光透過性を有する光透過層を実現できるため特に好ましい。
【００２４】
【化４】
【００２５】
［式（i）中、Ａ１は式（ii）
【００２６】
【化５】
【００２７】
（式（ii）中、Ｅ１は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｉ１は０又は１以上の整数を表す。）
で表される基であり、Ｄ１はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。]
【００２８】
このようなビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートとしては、油化シェルエポキシ社製エピコート８０２、１００１、１００４等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びエピコート４００１Ｐ、４００２Ｐ、４００３Ｐ等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応によって得られるエポキシアクリレート等が挙げられ、ＵＮＩＤＩＣ Ｖ−５８１０（大日本インキ化学工業（株））などが挙げられる。
【００２９】
【化６】
【００３０】
［式（iii）中、Ａ２は、エステル基、エーテル基、芳香族炭化水素基、環式脂肪族基で置換されていてもよく、また、分岐鎖を有していてもよい重量平均分子量２５０〜１００００の長鎖アルキルジオール基であり、Ｂ１は式（iv）
【００３１】
【化７】
【００３２】
（式（iv）中、Ｅ２は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｉ２は０〜８の整数を表す。）
で表される基であり、Ｄ２はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。］
【００３３】
また、上記式（iii）中のＡ２は、式（v）〜（vii）で表される基であることが、シリコーン化合物との相溶性の観点から好ましい。
【００３４】
【化８】
【００３５】
（式（v）中、Ｊ１は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ１は、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基又は−（Ｒ２Ｏ）ｐ−Ｒ２−（Ｒ２は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数である。）で表される基であり、ｋ１は１〜２０の整数を表す。）
【００３６】
【化９】
【００３７】
（式（vi）中、Ｊ２は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ２は、数平均分子量が２５０〜１００００の長鎖アルキルジオール残基又はポリエーテルジオール残基を表す。）
【００３８】
【化１０】
【００３９】
（式（vii）中、Ｊ３は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ３、Ｌ４は各々独立して、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｋ２、ｋ３は各々独立して１〜２０の整数を表す。）
【００４０】
このようなエポキシ（メタ）アクリレートとしては、ＤＩＣＬＩＴＥ ＵＥ−８０８０（大日本インキ化学工業（株））等が挙げられる。
【００４１】
【化１１】
【００４２】
［式（viii）中、Ａ３は式（ix）
【００４３】
【化１２】
【００４４】
（式（ix）中、Ｅ３は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｎは０〜８の整数を表す。）
で表される基であり、Ｂ２は、式（x）
【００４５】
【化１３】
【００４６】
（式（x）中、Ｊ５は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基で表される基である。）
で表される基であり、Ｃ１は、式（ｘi）
【００４７】
【化１４】
【００４８】
（Ｌ５、Ｌ６は、各々独立して、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｋ４は各々独立して１〜２０の整数である。）
又は、式（ｘii）
【００４９】
【化１５】
【００５０】
（Ｌ７、Ｌ８は、各々独立して、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｋ５は各々独立して１〜２０の整数である。）
で表される基であり、Ｄ３はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。]
【００５１】
このようなエポキシ（メタ）アクリレートとしては、ＣＮＵＶＥ１５１（ＳＡＲＴＯＭＥＲ）、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０８（ダイセル・サイテック（株））等が挙げられる。
【００５２】
本発明の紫外線硬化型組成物中のエポキシ（メタ）アクリレートの含有量は、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の４５〜８０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量％であることが好ましく、６０〜７０質量％であることが特に好ましい。エポキシ（メタ）アクリレート含有量を当該範囲とすることで、高温高湿環境下において優れた耐久性に加え、硬化時や高温高湿環境下での反りの低減等の特性制御を好適に行うことができる。
【００５３】
本発明で使用するエポキシ（メタ）アクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）としては、５００〜２００００であることが好ましく、８００〜５０００であることがより好ましい。エポキシ（メタ）アクリレートの構造、分子量を上記の範囲とすることにより、本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。なお、ＧＰＣによる重量平均分子量は、例えば、東ソー（株）社製 ＨＬＣ−８０２０を用い、カラムはＧＭＨｘｌ−ＧＭＨｘｌ−Ｇ２００Ｈｘｌ−Ｇ１０００Ｈｘｌｗを使用し、溶媒はＴＨＦを用い、１．０ｍｌ／ｍｉｎの流量でカラム温度が４０℃、検出器温度が３０℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うことで特定される。
【００５４】
［ウレタン（メタ）アクリレート］
本発明の紫外線硬化型組成物は、ウレタン（メタ）アクリレートを含有する。ウレタン（メタ）アクリレートの有するウレタン結合により凝集性が向上し、凝集破壊が生じにくくなるため、得られる硬化物は好適な密着性を有する。また、酸素移動を抑制できることから、表面硬度の向上にも貢献する。
【００５５】
本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレートとしては、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とから得られるウレタン（メタ）アクリレートを好ましく使用できる。また、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個のイソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートは、上記式（１）で表されるシリコーン化合物との相溶性に特に優れるため好ましく使用できる。
【００５６】
分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート類が挙げられる。なかでも、分子内に２個のイソシアネート基を有するジイソシアネート化合物を好ましく使用でき、特にトリレンジイソシアネートは、色相の悪化が無く、かつ光線透過性も低下することがなく、また、シリコーン化合物との相溶性に貢献するため特に好ましい。
【００５７】
ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等があり、さらにこれらの（メタ）アクリレートと２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とを反応させて得られる化合物でも良い。あるいは２個以上のヒドロキシキル基を有する化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる化合物でも良く、例えばグリシジルエーテル化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応物、グリコール化合物のモノ（メタ）アクリレート体等が挙げられる。
【００５８】
２個以上のヒドロキシル基を有する化合物としては、ポリオール類が好ましく用いられ、その具体例としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、エオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，３，５−トリメチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−エチル−１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、１，２−ジメチロールシクロヘキサン、１，３−ジメチロールシクロヘキサン、１，４−ジメチロールシクロヘキサン等のアルキレンポリオール類等の多量体としての高分子ポリオールが挙げられる。
【００５９】
なかでも、エーテル結合を有するポリエーテルポリオール、多塩基酸との反応や環状エステルの開環重合により得られるエステル結合を有するポリエステルポリオール、又は、カーボネートとの反応により得られるカーボネート結合を有するポリカーボネートポリオールであることが好ましい。これらポリオール類の少なくとも一部、好ましくはポリオール類全量中の１５モル％以上、更に好ましくはポリオール類全量中の３０モル％以上は、分子量５００〜２５００であるのが好ましい。
【００６０】
ポリエーテルポリオールとしては、例えば、前記ポリオール類の多量体のほかに、テトラヒドロフラン等の環状エーテルの開環重合体としてのポリテトラメチレングリコール等、及び、前記ポリオール類の、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブチレンオキサイド、２，３−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、スチレンオキサイド、エピクロルヒドリン等のアルキレンオキサイドの付加物等が挙げられる。
【００６１】
ポリエステルポリオールとしては、例えば、前記ポリオール類と、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸等の多塩基酸との反応物、及び、カプロラクトン等の環状エステルの開環重合体としてのポリカプロラクトン等が挙げられる。
【００６２】
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、前記ポリオール類と、エチレンカーボネート、１，２−プロピレンカーボネート、１，２−ブチレンカーボネート等のアルキレンカーボネート、又は、ジフェニルカーボネート、４−メチルジフェニルカーボネート、４−エチルジフェニルカーボネート、４−プロピルジフェニルカーボネート、４，４’−ジメチルジフェニルカーボネート、２−トリル−４−トリルカーボネート、４，４’−ジエチルジフェニルカーボネート、４，４’−ジプロピルジフェニルカーボネート、フェニルトルイルカーボネート、ビスクロロフェニルカーボネート、フェニルクロロフェニルカーボネート、フェニルナフチルカーボネート、ジナフチルカーボネート等のジアリールカーボネート、あるいは、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−プロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジ−ｎ−ブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネート、ジ−ｔ−ブチルカーボネート、ジ−ｎ−アミルカーボネート、ジイソアミルカーボネート等のジアルキルカーボネート等との反応物等が挙げられる。
【００６３】
使用するポリオールは、１種であっても２種以上を併用してもよいが、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールの２種以上を併用したウレタン（メタ）アクリレートが好ましく、２種を併用することがより好ましい。これらポリオールを併用することで、得られる硬化膜の高温高湿環境下における耐変形性や、表面硬度を好適に調整しやすくなる。２種の併用の例としては、表面硬度を高くする場合には、ポリエステルポリオールとポリカーボネートポリオールとの併用が好ましく、耐湿熱変形性を向上させる場合には、ポリエーテルポリオールとを併用させることが好ましい。これらの中間的な特性とする場合には、ポリエーテルポリオールとポリカーボネートポリオールとを併用することが好ましい。
【００６４】
ポリオール併用時における各ポリオールの含有量としては、使用するポリオールの全量に対して、ポリエーテルポリオールは２０〜９０質量％であることが好ましく３０〜８０質量％であることがより好ましい。ポリエステルポリオールの含有量としては、１０〜７０質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％とすることがより好ましい。ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールの含有量を当該範囲とすることで、硬化物の表面硬度や耐湿熱特性が得られやすい。
【００６５】
また、本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレートは、芳香環を有さない構造のものであると透明性が高くなるため好ましい。
【００６６】
本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレートとしては、ポリエーテル骨格のウレタンアクリレートとして、大日本インキ化学工業（株）社製ＦＡＵ−７４２ＴＰ、ＦＡＵ−３０６、ポリエステル骨格のウレタンアクリレートとして、コグニスジャパン（株）社製Ｐｈｏｔｏｍｅｒ−６８９２、ダイセルサイテック（株）社製Ｅｂｅｃｒｙｌ−８４０５等が好ましく例示できる。
【００６７】
本発明の紫外線硬化型組成物中のウレタン（メタ）アクリレートの含有量は、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の５〜２０質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることが特に好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート含有量を当該範囲とすることで硬化膜に適度な柔軟性を付与することが可能となり、特に湿度ショックを与えたときの反り変化が小さくなる。
【００６８】
本発明で使用するウレタン（メタ）アクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）としては、１０００〜２００００であることが好ましく、１５００〜１００００であることがより好ましい。これにより、本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。
【００６９】
［単官能、二官能又は多官能アクリレート］
本発明においては、エポキシ（メタ）アクリレートやウレタン（メタ）アクリレート等のオリゴマーと併用して、一分子中に一の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、単官能（メタ）アクリレートと略記する）や、一分子中に二個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、二官能の（メタ）アクリレートと略記する。）、更には一分子中に三以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、多官能の（メタ）アクリレートと略記する。）等の（メタ）アクリレートモノマーを使用することで、所望の粘度、硬化後の弾性率を有する組成物を得ることができる。
【００７０】
他の紫外線硬化性化合物としては、各種（メタ）アクリレートを使用でき、例えば単官能（メタ）アクリレートとしては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、などを使用できる。
【００７１】
中でも、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレートを用いた場合、膜厚変化量が少なく、反り変化量も少なくなるため、好ましい。
【００７２】
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートとしては、脂環式の二官能（メタ）アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００７３】
なかでもトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等が好ましく、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００７４】
また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合に、三官能以上の（メタ）アクリレートを使用することができる。例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００７５】
また、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等の紫外線硬化性化合物も必要に応じて使用できる。
【００７６】
本発明における紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物全量中の単官能（メタ）アクリレートの含有量としては、３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが好ましい。二官能（メタ）アクリレートの含有量は３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３５質量％であることが好ましい。また、エポキシ（メタ）アクリレート以外の三官能以上の（メタ）アクリレートの含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることが好ましい。
【００７７】
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記紫外線硬化性化合物を調整し、粘度を８００〜３０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１０００〜２５００ｍＰａ・ｓとすることで、厚膜の光透過層を好適に形成できる。
【００７８】
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、１００〜２０００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも２００〜１５００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても反りの変化量が少ない光ディスクを得ることができる。耐磨耗性の向上に際し、硬化膜の弾性率を高くして硬い硬化膜としても反りが大きくなるため、光透過層、特に短波長のブルーレーザーにより信号の記録・再生を行う光ディスクにおける厚膜の光透過層として使用する際には、これら反りが生じない上記弾性率の範囲とすることで、好適に信号を記録・再生できる。
【００７９】
［開始剤、添加剤］
本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物中には、エポキシ（メタ）アクリレートおよび上記単官能、二官能又は多官能（メタ）アクリレートの以外に、公知の光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。
【００８０】
本発明に使用できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤等がある。
【００８１】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。
【００８２】
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、光透過層が、上記の紫外線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも、銀又は銀合金を反射膜として使用した場合に、優れた耐久性を得ることができるため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
【００８３】
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
【００８４】
本発明の光ディスクにおける光透過層の厚みは７０〜１１０μｍであることが好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。
【００８５】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。
【００８６】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。
【００８７】
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。
【００８８】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。
【００８９】
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層が積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。
【００９０】
また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよいが、光透過層を最表層とすることで工程が簡略化できるため好ましい。
【００９１】
本発明の光ディスクは、１００μｍ厚の光透過層を有する光ディスクを、８０℃８５％ＲＨ２４０時間の高温高湿環境下に曝露した後の反射率変化量が、４．０％以下であることが好ましく、２．０％以下であることが特に好ましい。
【００９２】
本発明の光ディスクは、１００μｍ厚の光透過層を有する光ディスクを、８０℃８５％ＲＨ２４０時間の高温高湿環境下に曝露した後の反り変化量が±１．０°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることが特に好ましい。さらに、２５℃８５％RHから２５℃３０％RHのように湿度のみを急激に変化させた場合の反り変化量のついても、±１．０°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることが特に好ましい。
【００９３】
また、光透過層を１０日間蛍光灯暴露した際の反射率変化量化が、４．０％以内であることが好ましく、２．０％以内であることが特に好ましい。
【００９４】
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。
【００９５】
光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。
【００９６】
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する紫外線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。
【００９７】
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。
【００９８】
本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００９９】
図２は図１に示した構成の最表層にハードコート層４を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましく、３〜５μｍであることがより好ましい
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図３に示したように、基板１上に、光反射層５と、光透過層６とが積層され、さらにその上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層３側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層３及び光透過層６は、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層３の厚さと光透過層６の厚さの和が１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【０１００】
当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック（グルーブ）が、光透過層６の表面にも形成されるため、光透過層６は、接着性に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。
【０１０１】
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜する。この上に本発明の紫外線硬化型組成物を塗布し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層３を形成し、図１の光ディスクを作製する。図２の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層４を形成する。
【０１０２】
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に、基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層６を成膜する。
【０１０３】
この上に、本発明の紫外線硬化型組成物又は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層５を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）を転写する。記録トラック（グルーブ）を転写する工程は次の通りである。基板１に形成された光反射層６上に紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層５の記録トラック（グルーブ）を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜し、この上に、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層３を形成することで、図３の光ディスクを作製できる。また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。
【実施例】
【０１０４】
次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。
【０１０５】
下記表１に示した組成（表中の組成の数値は質量部を表す）により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１〜５及び比較例１〜５の各実施例及び比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行い、得られた結果を表１〜２に示す。
【０１０６】
＜粘度の測定方法＞
紫外線硬化型組成物について、２５℃における粘度をＢ型粘度計（（株）東京計器製、ＢＭ型）を用いて測定した。
【０１０７】
＜透明性評価＞
紫外線硬化型組成物について、調整した組成物の透明性を外観目視により観察した。
【０１０８】
＜弾性率の測定方法＞
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。
【０１０９】
＜光ディスクの作成条件＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、該金属反射膜上に、表２の各紫外線硬化型組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて照射量５００ｍＪ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を２回照射、硬化して試験用ディスクサンプルを得た。
【０１１０】
＜光ディスクの耐久試験＞
各サンプルについて環境試験器「ＰＲ−２ＰＫ」（エスペック（株））を使用して、８０℃８５％ＲＨ２４０時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。
【０１１１】
試験前後のサンプルについて、光透過層の側から、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）で４０５ｎｍにおける正反射率を測定し、下記基準に基づき評価を行った。
○：試験前後の反射率の変化が１．０％以内
×：試験前後の反射率の変化が１．０％を越える
【０１１２】
同様の試験前後のサンプルについて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い、反りの変化量を測定した。半径位置が４０ｍｍから４５ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から反り変化量を測定し、下記基準に基づき評価を行った。
○：試験前後の反りの変化が±１．０°以内
×：試験前後の反りの変化が±１．０°を越える
【０１１３】
＜光ディスクの湿度ショック試験＞
各サンプルについて環境試験器「ＰＲ−２ＰＫ」（エスペック（株））を使用して、２５℃８５％ＲＨ４８時間経過した後、２５℃３０％ＲＨまで急速に湿度のみを下げた。（湿度ショック試験）。環境試験器から取り出して３時間後に、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い反り測定をおこなった。半径位置が４０ｍｍから４５ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から試験前後の反り変化量を求め、前述の評価基準に基づき反り変化を評価した。
【０１１４】
＜光ディスクの摩耗試験＞
各サンプルについて、テーバー摩耗試験器ロータリアブレッサー（（株）東洋精機製）にて摩耗輪ＣＳ−１０Ｆを用い加重２５０ｇにて５０回転摩耗した。その後、ＪＩＳ Ｋ７１０５に従い、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）にて４０５ｎｍにおける全光線透過光量と拡散光量を測定し拡散透過率を算出し、下記基準に基づき評価を行った。
○：試験前後の拡散透過率が ２．０以内
×：試験前後の拡散透過率が ２．０を越える
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
【表２】
【０１１７】
表中の記号は以下のとおりである。
・ＵＥ−８０８０：大日本インキ化学工業（株）製 変性ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（式（iii）におけるＡ２がエチレングリコールとアジピン酸からなるポリエステルジカルボン酸であり、Ｂ１が式（iv）（式（iv）中のＥ２が−Ｃ（ＣＨ３）２−、i２が０）で表される基であるエポキシ（メタ）アクリレート）
・Ｖ−５８１０:大日本インキ化学工業（株）製 エポキシアクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレート／トリシクロデカンジメタノールジアクリレート／フェノキシエチルアクリレート＝７／３／３質量比の混合物）
・ＵＡ１：ポリテトラメチレングリコール（Ｍｗ８５０）１モルとトリレンジイソシアネート２モル反応後ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて得たウレタンアクリレート
・ＵＡ−１６０ＴＭ：新中村化学工業（株）製 ウレタンアクリレート（ポリテトラメチレングリコール（Ｍｗ９００）１モルとイソホロンジイソシアネート２モル反応後ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて得たウレタンアクリレート）
・ＵＡ２：カプロラクトン変性したヒドロキシエチルアクリレート２モルとトリレンジイソシアネート１モルを反応させて得たウレタンアクリレート
・Ｐｈ４０１７：コグニス製 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
・ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
・ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレート
・ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
・ＰＨＥ：大阪有機化学工業（株）製 フェノキシエチルアクリレート
・Ｖ−１５０：大阪有機化学工業（株）製 テトラヒドロフルフリールアクリレート
・Ａ−ＣＭＰ−１Ｅ：新中村化学工業製 パラクミルフェノキシエチレングリコールアクリレート
・ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート
・Ｉｒｇ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
・Ｄｏｒｏｃｕｒｅ１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
・ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２００Ｎ：反応性ポリシロキサン、ｄｅｇｕｓｓａ製、
＊式（１）におけるｎが３、ｎ／ｍが１／１０、Ｒ１が−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｘ１−（式中、Ｘ１は平均２０個の−ＯＣ２Ｈ４−と平均６個の−ＯＣ３Ｈ６−がランダムに結合した基を表す。なお、Ｘ１は式（１）中のアクリロイル基と結合する。）、Ｒ２が水素原子である化合物であり、数平均分子量４０００である化合物。
【０１１８】
表１〜２に示すように、実施例の光ディスクは、光透過性に優れ、耐久試験後の反射率変化や反り変化、温度ショック時における反り変化が小さく、耐久試験において良好な結果を示した。また、耐摩耗性試験においても優れた耐摩耗性を示した。一方、シリコーン化合物を含有しない比較例２の光ディスクは耐摩耗性が良好でなく、更にエポキシアクリレートを含有しない比較例１の光ディスクは、耐摩耗性が劣ると共に、反射率の変化が大きいものであった。また、シリコーン化合物を含有せず、単に弾性率を向上させた比較例３及び４の光ディスクは耐久試験時の反り変化が大きく、光透過層へ適用できないものであった。また、ウレタンアクリレートを含有しない比較例５の光ディスクは、耐久試験時の収縮を緩和できず、反りが大きいものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図２】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図３】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１２０】
１ 基板
２ 光反射層
３ 紫外線硬化型組成物の光透過層
４ ハードコート層
５ 光反射層
６ 紫外線硬化型組成物の光透過層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、前記光透過層を通して３７０ｎｍ〜４３０ｎｍの範囲内に発振波長を有するブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報技術や情報網の発展により大容量の情報記録の伝達が頻繁に行われるようになっている。これに伴い、大容量となる映像、音楽、コンピューターデータ等を記録及び再生出来る高密度大容量の光ディスクが要求されており、ＤＶＤよりも更に短波長のブルーレーザーの光学系を用いる新しい光ディスク構造による高密度記録方式が提案されている。
【０００３】
この新しい光ディスクはポリカーボネート等のプラスチックで形成される透明又は不透明の基板上に記録層を形成し、次いで記録層上に約１００μｍの光透過層を積層してなり、該光透過層を通して記録光又は再生光が、あるいはその両方が入射する構造の光ディスクである。この光ディスクの光透過層には生産性の観点から、紫外線硬化型組成物を使用することがもっぱら研究されている。
【０００４】
ブルーレーザーを使用した光ディスクは長期に安定した記録再生特性を保持する必要がある。このため、光透過層には形状安定性に優れるものが望まれ、また最外層として使用する場合には優れた耐磨耗性を有することが求められる。ブルーレーザーにより記録又は再生を行う光ディスクの光透過層に使用する紫外線硬化型組成物としては、例えば、エポキシアクリレートとウレタンアクリレートとを併用し、重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを使用した紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献１参照）。当該紫外線硬化型組成物は、耐久性と高光透過率とを有する硬化被膜を与えるものであるが、高温高湿環境下における反り変化の更なる低減が望まれていた。
【０００５】
初期および耐久時の光ディスクの反りを抑制可能な硬化物層を形成し得る光硬化型組成物として、ポリエーテル骨格のウレタン（メタ）アクリレートを含有する組成物が開示されている（特許文献２参照）。しかし当該組成物の硬化物は耐摩耗性が十分でなく、光ディスクの最外層の光透過層として適用すると傷つきが生じる場合があった。また、耐久試験における反り変化は好適であるが、反射率の変化が生じる場合があり、更なる改善が求められていた。
【０００６】
また、防汚性に優れるハードコート用の紫外線硬化型組成物として、光硬化性化合物と反応する構造を側鎖構造として有する特定構造のシリコーン化合物を含有する紫外線硬化型組成物が開示されている（特許文献３参照）。しかし当該紫外線硬化型組成物は、光ディスクの最外層の光透過層として厚膜を形成した場合には、高温高湿環境下での反りや、外部環境変化による膜の反りが大きく、光透過層への適用は困難であった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−１０９７８５号公報
【特許文献２】特開２００７−４２２４１号公報
【特許文献３】特開２００７−４６０４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、高温高湿環境下における反射率変化や反り変化が少なく、耐摩耗性に優れた光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明においては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートおよび特定のシラン化合物を併用する紫外線硬化型組成物により、光を好適に透過し、磨耗に強く、かつ反りを生じにくい硬化被膜を形成でき、耐摩耗性に優れた光透過層を形成できる。
【００１０】
すなわち本発明においては、エポキシ（メタ）アクリレートと、ウレタン（メタ）アクリレートと、式（１）
【００１１】
【化１】
（式中、Ｘは式（２）
【００１２】
【化２】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１８のアルキレン基、及び、炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結された構造を有する２価の基から選択される１種又は２種以上の基を連結させた２価の基を表し、Ｒ１はＳｉと直結していてもよいし、酸素原子を介して結合していてもよく、Ｒ２は水素原子又はメチル基を表す。）
で表されるｎ個の構造単位、
及び、式（３）
【００１３】
【化３】
で表されるｍ個の構造単位が、ランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。また、式（２）及び式（３）で表される構造単位は、これらの構造単位同士で、又は分子内の他の構造部分と酸素−酸素結合により連結することはない。）
で表されるシリコーン化合物、とを含有することにより、高温高湿環境下における反射率変化や反り変化が少なく、耐摩耗性に優れた光ディスクを実現する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物は、高温高湿環境下においても反射率変化や反り変化が少ない光透過層を形成することができるため、高温高湿環境下においても、特性劣化の少ない光ディスクを実現できる。また、当該組成物の硬化膜は耐摩耗性に優れることから、光透過層を最外層として適用できるため、その表層にハードコート層を設けなくとも傷つきの少ない光ディスクを実現できる。このような組成物の硬化膜を光透過層とする光ディスクは、高温高湿環境下においても特性の低下が生じにくく、傷つきが少ないため、信号特性の劣化が少なく、短波長のブルーレーザーによっても好適に情報の記録・再生が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
［シリコーン化合物］
本発明の紫外線硬化型組成物において使用する、上記式（１）で表されるシリコーン化合物は、側鎖構造として、光硬化性化合物と適度な相溶性を有する部位と、光硬化性化合物と反応する部位とを特定の割合で有する。これを含有する紫外線硬化型組成物を膜状に塗付すると、その塗膜表面近傍では、相分離を生じやすい主鎖のシロキサン結合部位には光硬化性化合物と相分離しようとする力が働き、相溶性を有する側鎖部位は光硬化性化合物と相溶しようとする力が働くことにより、表層近傍にシロキサン構造部位の存在確率が高くなると考えられる。当該塗膜に紫外線を照射すると、光硬化性化合物が硬化する際に、シリコーン化合物の側鎖の反応性基とも反応し、硬化膜の表層にシロキサン構造が高い確率で存在することとなる。この際、一のシリコーン化合物に対して、複数の側鎖部位がアンカーとなるため、シリコーン化合物が硬化膜に強固に固定される。これにより本発明の紫外線硬化型組成物は、優れた防汚性や汚れの払拭性を有する硬化膜を形成でき、また、該硬化膜は長期間経過後や、高温高湿環境下で放置された際にも安定した防汚性を発現することができる。これに対し、本願発明のような構造を有さないシリコーン化合物では、複数のアンカー効果が得られずに固定化が充分でない場合や、相溶性の異なる部位を有さず表層近傍の存在確率を高くできない場合が生じるため、防汚性や汚れの払拭性に劣るものとなる。
【００１６】
前記式（１）中のＸは、前記式（２）で表されるｎ個の構造単位と前記式（３）で表されるｍ個の構造単位とがランダム状又はブロック状に連なった構造の基である。ランダム状とは、式（２）で表される構造単位と式（３）で表される構造単位とが順不同に、不規則な順で結合した構造を意味し、ブロック状とは、式（２）で表される構造単位が連続して結合した部分と式（３）で表される構造単位が連続して結合した部分とが交互に現れる構造を意味している。なお、前記ｎは１〜１５の整数であり、１〜１０の整数であることが好ましい。また、ｎに対するｍの比（ｎ／ｍ）は１／５〜１／２０であり、１／５〜１／１５であることが好ましい。なお、式（２）及び式（３）で表される構造単位は、これらの構造単位同士で、又は分子内の他の構造部分と酸素−酸素結合により連結することはない。
【００１７】
前記式（２）中のＲ１は、下記（I）及び（II）に記載した基の中から選択される２種以上の基が連結した構造の基である。
（I）炭素数１〜１８のアルキレン基
例えば、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ２（ＣＨ２）４ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２（ＣＨ２）１０ＣＨ２−、−ＣＨ２（ＣＨ２）１６ＣＨ２−等がある。
（II）炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結されたポリオキシアルキレン構造を有する２価の基
（II）の基を式で表すと、−（ＯＲ）Ｐ−（式中、Ｒは分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、ｐは１以上の整数である。）となる。例えば、−（ＯＣＨ２ＣＨ２）Ｐ−、−（ＯＣ３Ｈ６）Ｐ−、−（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２）Ｐ−、−（ＯＣＨ２（ＣＨ２）１０ＣＨ２）Ｐ−等がある。また、分子鎖が異なる長さの−ＯＲ−がランダムに連なった構造を有する基、例えば、−ＯＣＨ２ＣＨ２−と−ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−がランダムに結合した基であっても良い。なお、Ｒ１として（ｉｉ）で表される基を用いる場合は、複数のエーテル結合を有するポリエーテル構造（ポリオキシアルキレン構造）の基を用いるのが好ましい。（ｉｉ）に記載した基は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキレンオキシド、テトラヒドロフラン、アルキル置換テトラヒドロフラン等の環状エーテルの重合体またはこれらの２種以上の共重合体から得ることができる。
【００１８】
上記の中でも、Ｒ１としては、炭素数１〜６のアルキレン基、−（ＯＲ）ｔ−（式中、Ｒはエチレン基又はプロピレン基を表し、ｔは２〜２０の整数を表す。）で表される２価の基及びエチレンオキシドとプロピレンオキシドをランダムに開環付加重合した２価の基から選択される１種の基、又はこれらから選択される２種以上の基が連結した基であることが好ましい。特に、それらの中でも、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２（ＯＣＨ２ＣＨ２）Ｐ−（式中、ｐは２以上の整数）、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｙ−（式中、Ｙは−ＯＣ２Ｈ４−と−ＯＣ３Ｈ６−がランダムに結合した基）であることが好ましい。（ｉｉ）に記載した基とＳｉ間の結合は、酸素原子を介していても構わないが、アルキレン基を介して結合した構造であることが好ましい。また、Ｒ１中の（ｉ）の基の一端は、Ｓｉと直結していてもよいし、酸素原子を介して結合していてもよいが、Ｓｉと直結していることが好ましい。また、前記式（２）中のＲ２は水素原子又はメチル基を表すが、水素原子であることが好ましい。
【００１９】
式（１）で表されるシリコーン化合物は市販品として入手可能であり、例えばｄｅｇｕｓｓａ社製のＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２００Ｎを例示できる。
【００２０】
また、式（１）で表されるシリコーン化合物としては、数平均分子量が２０００〜１２０００であることが好ましく、３０００〜８０００であることが更に好ましい。
【００２１】
紫外線硬化型組成物に含有させる式（１）で表されるシリコーン化合物の含有量は、紫外線硬化型組成物に対して、０．０５〜５質量部であり、好ましくは０．１〜２．０質量部である。上記範囲であると、本発明の光情報記録媒体の表面保護層は、表面に汚れが付着しにくく、また、付着した汚れを容易にふき取ることができ、優れた汚れ防止機能を長期にわたって安定に付与することができる。
【００２２】
［エポキシ（メタ）アクリレート］
本発明に使用するエポキシ（メタ）アクリレートとしては、分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物とアクリル酸を反応させて得られるものであれば、特に制限がなく、ポリエステル、ポリエーテル、ゴムなどにより変性されていてもよい。残留する全塩素量は２０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。
【００２３】
なかでも、ビスフェノール骨格を有するエポキシ（メタ）アクリレートは耐久性能に優れるため好ましく、式（i）、（iii）、（viii）で表されるエポキシ（メタ）アクリレートを特に好ましく使用できる。なかでも式（iii）で表されるエポキシ（メタ）アクリレートは、上記式（１）で表されるシリコーン化合物との相分離を生じにくく、優れた相溶性を有するため、組成物とした際に良好な透明性を実現でき、好適な光透過性を有する光透過層を実現できるため特に好ましい。
【００２４】
【化４】
【００２５】
［式（i）中、Ａ１は式（ii）
【００２６】
【化５】
【００２７】
（式（ii）中、Ｅ１は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｉ１は０又は１以上の整数を表す。）
で表される基であり、Ｄ１はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。]
【００２８】
このようなビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートとしては、油化シェルエポキシ社製エピコート８０２、１００１、１００４等のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びエピコート４００１Ｐ、４００２Ｐ、４００３Ｐ等のビスフェノールＦ型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応によって得られるエポキシアクリレート等が挙げられ、ＵＮＩＤＩＣ Ｖ−５８１０（大日本インキ化学工業（株））などが挙げられる。
【００２９】
【化６】
【００３０】
［式（iii）中、Ａ２は、エステル基、エーテル基、芳香族炭化水素基、環式脂肪族基で置換されていてもよく、また、分岐鎖を有していてもよい重量平均分子量２５０〜１００００の長鎖アルキルジオール基であり、Ｂ１は式（iv）
【００３１】
【化７】
【００３２】
（式（iv）中、Ｅ２は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｉ２は０〜８の整数を表す。）
で表される基であり、Ｄ２はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。］
【００３３】
また、上記式（iii）中のＡ２は、式（v）〜（vii）で表される基であることが、シリコーン化合物との相溶性の観点から好ましい。
【００３４】
【化８】
【００３５】
（式（v）中、Ｊ１は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ１は、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基又は−（Ｒ２Ｏ）ｐ−Ｒ２−（Ｒ２は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数である。）で表される基であり、ｋ１は１〜２０の整数を表す。）
【００３６】
【化９】
【００３７】
（式（vi）中、Ｊ２は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ２は、数平均分子量が２５０〜１００００の長鎖アルキルジオール残基又はポリエーテルジオール残基を表す。）
【００３８】
【化１０】
【００３９】
（式（vii）中、Ｊ３は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ３、Ｌ４は各々独立して、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｋ２、ｋ３は各々独立して１〜２０の整数を表す。）
【００４０】
このようなエポキシ（メタ）アクリレートとしては、ＤＩＣＬＩＴＥ ＵＥ−８０８０（大日本インキ化学工業（株））等が挙げられる。
【００４１】
【化１１】
【００４２】
［式（viii）中、Ａ３は式（ix）
【００４３】
【化１２】
【００４４】
（式（ix）中、Ｅ３は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｎは０〜８の整数を表す。）
で表される基であり、Ｂ２は、式（x）
【００４５】
【化１３】
【００４６】
（式（x）中、Ｊ５は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基で表される基である。）
で表される基であり、Ｃ１は、式（ｘi）
【００４７】
【化１４】
【００４８】
（Ｌ５、Ｌ６は、各々独立して、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｋ４は各々独立して１〜２０の整数である。）
又は、式（ｘii）
【００４９】
【化１５】
【００５０】
（Ｌ７、Ｌ８は、各々独立して、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、ｋ５は各々独立して１〜２０の整数である。）
で表される基であり、Ｄ３はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。]
【００５１】
このようなエポキシ（メタ）アクリレートとしては、ＣＮＵＶＥ１５１（ＳＡＲＴＯＭＥＲ）、ＥＢＥＣＲＹＬ３７０８（ダイセル・サイテック（株））等が挙げられる。
【００５２】
本発明の紫外線硬化型組成物中のエポキシ（メタ）アクリレートの含有量は、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の４５〜８０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量％であることが好ましく、６０〜７０質量％であることが特に好ましい。エポキシ（メタ）アクリレート含有量を当該範囲とすることで、高温高湿環境下において優れた耐久性に加え、硬化時や高温高湿環境下での反りの低減等の特性制御を好適に行うことができる。
【００５３】
本発明で使用するエポキシ（メタ）アクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）としては、５００〜２００００であることが好ましく、８００〜５０００であることがより好ましい。エポキシ（メタ）アクリレートの構造、分子量を上記の範囲とすることにより、本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。なお、ＧＰＣによる重量平均分子量は、例えば、東ソー（株）社製 ＨＬＣ−８０２０を用い、カラムはＧＭＨｘｌ−ＧＭＨｘｌ−Ｇ２００Ｈｘｌ−Ｇ１０００Ｈｘｌｗを使用し、溶媒はＴＨＦを用い、１．０ｍｌ／ｍｉｎの流量でカラム温度が４０℃、検出器温度が３０℃、分子量は標準ポリスチレン換算で測定を行うことで特定される。
【００５４】
［ウレタン（メタ）アクリレート］
本発明の紫外線硬化型組成物は、ウレタン（メタ）アクリレートを含有する。ウレタン（メタ）アクリレートの有するウレタン結合により凝集性が向上し、凝集破壊が生じにくくなるため、得られる硬化物は好適な密着性を有する。また、酸素移動を抑制できることから、表面硬度の向上にも貢献する。
【００５５】
本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレートとしては、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とから得られるウレタン（メタ）アクリレートを好ましく使用できる。また、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個のイソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートは、上記式（１）で表されるシリコーン化合物との相溶性に特に優れるため好ましく使用できる。
【００５６】
分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、シクロヘキサンジイソシアネート、ビス（イソシアナトシクロヘキシル）メタン、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート類が挙げられる。なかでも、分子内に２個のイソシアネート基を有するジイソシアネート化合物を好ましく使用でき、特にトリレンジイソシアネートは、色相の悪化が無く、かつ光線透過性も低下することがなく、また、シリコーン化合物との相溶性に貢献するため特に好ましい。
【００５７】
ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物としては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等があり、さらにこれらの（メタ）アクリレートと２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とを反応させて得られる化合物でも良い。あるいは２個以上のヒドロキシキル基を有する化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる化合物でも良く、例えばグリシジルエーテル化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応物、グリコール化合物のモノ（メタ）アクリレート体等が挙げられる。
【００５８】
２個以上のヒドロキシル基を有する化合物としては、ポリオール類が好ましく用いられ、その具体例としては、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、エオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，３，５−トリメチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−エチル−１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、マンニトール、グリセリン、１，２−ジメチロールシクロヘキサン、１，３−ジメチロールシクロヘキサン、１，４−ジメチロールシクロヘキサン等のアルキレンポリオール類等の多量体としての高分子ポリオールが挙げられる。
【００５９】
なかでも、エーテル結合を有するポリエーテルポリオール、多塩基酸との反応や環状エステルの開環重合により得られるエステル結合を有するポリエステルポリオール、又は、カーボネートとの反応により得られるカーボネート結合を有するポリカーボネートポリオールであることが好ましい。これらポリオール類の少なくとも一部、好ましくはポリオール類全量中の１５モル％以上、更に好ましくはポリオール類全量中の３０モル％以上は、分子量５００〜２５００であるのが好ましい。
【００６０】
ポリエーテルポリオールとしては、例えば、前記ポリオール類の多量体のほかに、テトラヒドロフラン等の環状エーテルの開環重合体としてのポリテトラメチレングリコール等、及び、前記ポリオール類の、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブチレンオキサイド、２，３−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、スチレンオキサイド、エピクロルヒドリン等のアルキレンオキサイドの付加物等が挙げられる。
【００６１】
ポリエステルポリオールとしては、例えば、前記ポリオール類と、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸等の多塩基酸との反応物、及び、カプロラクトン等の環状エステルの開環重合体としてのポリカプロラクトン等が挙げられる。
【００６２】
ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、前記ポリオール類と、エチレンカーボネート、１，２−プロピレンカーボネート、１，２−ブチレンカーボネート等のアルキレンカーボネート、又は、ジフェニルカーボネート、４−メチルジフェニルカーボネート、４−エチルジフェニルカーボネート、４−プロピルジフェニルカーボネート、４，４’−ジメチルジフェニルカーボネート、２−トリル−４−トリルカーボネート、４，４’−ジエチルジフェニルカーボネート、４，４’−ジプロピルジフェニルカーボネート、フェニルトルイルカーボネート、ビスクロロフェニルカーボネート、フェニルクロロフェニルカーボネート、フェニルナフチルカーボネート、ジナフチルカーボネート等のジアリールカーボネート、あるいは、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−プロピルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、ジ−ｎ−ブチルカーボネート、ジイソブチルカーボネート、ジ−ｔ−ブチルカーボネート、ジ−ｎ−アミルカーボネート、ジイソアミルカーボネート等のジアルキルカーボネート等との反応物等が挙げられる。
【００６３】
使用するポリオールは、１種であっても２種以上を併用してもよいが、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール及びポリカーボネートポリオールの２種以上を併用したウレタン（メタ）アクリレートが好ましく、２種を併用することがより好ましい。これらポリオールを併用することで、得られる硬化膜の高温高湿環境下における耐変形性や、表面硬度を好適に調整しやすくなる。２種の併用の例としては、表面硬度を高くする場合には、ポリエステルポリオールとポリカーボネートポリオールとの併用が好ましく、耐湿熱変形性を向上させる場合には、ポリエーテルポリオールとを併用させることが好ましい。これらの中間的な特性とする場合には、ポリエーテルポリオールとポリカーボネートポリオールとを併用することが好ましい。
【００６４】
ポリオール併用時における各ポリオールの含有量としては、使用するポリオールの全量に対して、ポリエーテルポリオールは２０〜９０質量％であることが好ましく３０〜８０質量％であることがより好ましい。ポリエステルポリオールの含有量としては、１０〜７０質量％であることが好ましく、２０〜６０質量％とすることがより好ましい。ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールの含有量を当該範囲とすることで、硬化物の表面硬度や耐湿熱特性が得られやすい。
【００６５】
また、本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレートは、芳香環を有さない構造のものであると透明性が高くなるため好ましい。
【００６６】
本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレートとしては、ポリエーテル骨格のウレタンアクリレートとして、大日本インキ化学工業（株）社製ＦＡＵ−７４２ＴＰ、ＦＡＵ−３０６、ポリエステル骨格のウレタンアクリレートとして、コグニスジャパン（株）社製Ｐｈｏｔｏｍｅｒ−６８９２、ダイセルサイテック（株）社製Ｅｂｅｃｒｙｌ−８４０５等が好ましく例示できる。
【００６７】
本発明の紫外線硬化型組成物中のウレタン（メタ）アクリレートの含有量は、紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の５〜２０質量％であることが好ましく、５〜１５質量％であることが特に好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート含有量を当該範囲とすることで硬化膜に適度な柔軟性を付与することが可能となり、特に湿度ショックを与えたときの反り変化が小さくなる。
【００６８】
本発明で使用するウレタン（メタ）アクリレートのゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定した重量平均分子量（Ｍｗ）としては、１０００〜２００００であることが好ましく、１５００〜１００００であることがより好ましい。これにより、本発明の紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの耐久性及び耐光性がより優れたものとなる。
【００６９】
［単官能、二官能又は多官能アクリレート］
本発明においては、エポキシ（メタ）アクリレートやウレタン（メタ）アクリレート等のオリゴマーと併用して、一分子中に一の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、単官能（メタ）アクリレートと略記する）や、一分子中に二個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、二官能の（メタ）アクリレートと略記する。）、更には一分子中に三以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート（以下、多官能の（メタ）アクリレートと略記する。）等の（メタ）アクリレートモノマーを使用することで、所望の粘度、硬化後の弾性率を有する組成物を得ることができる。
【００７０】
他の紫外線硬化性化合物としては、各種（メタ）アクリレートを使用でき、例えば単官能（メタ）アクリレートとしては、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラシクロドデカニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、イソボルニル（メタ）アクリレート、ノルボルニル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタンアダマンチル（メタ）アクリレート、などを使用できる。
【００７１】
中でも、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレートを用いた場合、膜厚変化量が少なく、反り変化量も少なくなるため、好ましい。
【００７２】
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、脂環式構造を有する（メタ）アクリレートとしては、脂環式の二官能（メタ）アクリレートとして、ノルボルナンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ノルボルナンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジメタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ペンタシクロペンタデカンジエタノールにエチレンオキサイド又はプロピレンオキサイド２モル付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００７３】
なかでもトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、等が好ましく、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００７４】
また、硬化後の弾性率を高く調整したい場合に、三官能以上の（メタ）アクリレートを使用することができる。例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−アクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシプロピル）ヒドロキシプロピルイソシアヌレート、ビス（２−メタクリロイルオキシブチル）ヒドロキシブチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、トリス（２−メタクリロイルオキシブチル）イソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、等を使用できる。
【００７５】
また、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルエーテルモノマー等の紫外線硬化性化合物も必要に応じて使用できる。
【００７６】
本発明における紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物全量中の単官能（メタ）アクリレートの含有量としては、３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが好ましい。二官能（メタ）アクリレートの含有量は３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３５質量％であることが好ましい。また、エポキシ（メタ）アクリレート以外の三官能以上の（メタ）アクリレートの含有量は、２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることが好ましい。
【００７７】
本発明の紫外線硬化型組成物は、上記紫外線硬化性化合物を調整し、粘度を８００〜３０００ｍＰａ・ｓ、好ましくは１０００〜２５００ｍＰａ・ｓとすることで、厚膜の光透過層を好適に形成できる。
【００７８】
本発明の紫外線硬化型組成物は、紫外線を照射した後の硬化膜の弾性率が、１００〜２０００ＭＰａ（２５℃）となるように調整することが好ましい。中でも２００〜１５００ＭＰａとなる組成であることがより好ましい。弾性率がこの範囲となる組成であると、硬化時の歪みが緩和され易く、高温高湿環境下に長時間曝されても反りの変化量が少ない光ディスクを得ることができる。耐磨耗性の向上に際し、硬化膜の弾性率を高くして硬い硬化膜としても反りが大きくなるため、光透過層、特に短波長のブルーレーザーにより信号の記録・再生を行う光ディスクにおける厚膜の光透過層として使用する際には、これら反りが生じない上記弾性率の範囲とすることで、好適に信号を記録・再生できる。
【００７９】
［開始剤、添加剤］
本発明の光透過層用紫外線硬化型組成物中には、エポキシ（メタ）アクリレートおよび上記単官能、二官能又は多官能（メタ）アクリレートの以外に、公知の光重合開始剤、及び熱重合開始剤等を用いる事が出来る。
【００８０】
本発明に使用できる光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤等がある。
【００８１】
本発明に使用する紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、添加剤として、界面活性剤、レベリング剤、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ホスファイト等の酸化防止剤、ヒンダードアミン等の光安定剤を使用することもできる。また、増感剤として、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が使用でき、更に、前記の光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。
【００８２】
［光ディスク］
本発明の光ディスクは、基板上に、少なくとも光反射層と光透過層とが形成され、光透過層を通してレーザー光により記録又は再生を行う光ディスクであって、光透過層が、上記の紫外線硬化型組成物の硬化物からなるものである。本発明の光ディスクは、光透過層として、上記した紫外線硬化型組成物を使用することにより、高温高湿下でも、銀又は銀合金を反射膜として使用した場合に、優れた耐久性を得ることができるため、良好に情報の記録・再生を行うことができる。
【００８３】
本発明の光ディスクにおける光透過層は、レーザー光の発振波長が３７０〜４３０ｎｍであるブルーレーザーを効率良く透過することが好ましく、１００μｍの厚さにおいて４０５ｎｍの光の透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。
【００８４】
本発明の光ディスクにおける光透過層の厚みは７０〜１１０μｍであることが好ましい。光透過層の厚みは、通常、約１００μｍに設定されるが、厚みは光透過率や信号の読み取り及び記録に大きく影響を及ぼすため、十分な管理が必要である。光透過層は、当該厚さの硬化層単層で形成されていても、複数層が積層されていてもよい。
【００８５】
光反射層としては、レーザー光を反射し、記録・再生が可能な光ディスクを形成できるものであればよく、例えば、金、銅、アルミニウムなどの金属又はその合金、シリコンなどの無機化合物を使用できる。なかでも、４００ｎｍ近傍の光の反射率が高いことから銀又は銀を主成分とする合金を使用することが好ましい。光反射層の厚さは、１０〜６０ｎｍ程度の厚さとすることが好ましい。
【００８６】
基板としては、ディスク形状の円形樹脂基板を使用でき、当該樹脂としてはポリカーボネートを好ましく使用できる。光ディスクが再生専用の場合には、基板上に情報記録を担うピットが光反射層と積層される表面に形成される。
【００８７】
また、書込可能な光ディスクの場合には、光反射層と光透過層との間に情報記録層が設けられる。情報記録層としては、情報の記録・再生が可能であればよく、相変化型記録層、光磁気記録層、あるいは有機色素型記録層のいずれであってもよい。
【００８８】
情報記録層が相変化型記録層である場合には、当該情報記録層は通常、誘電体層と相変化膜から構成される。誘電体層は、相変化層に発生する熱を緩衝する機能、ディスクの反射率を調整する機能を求められ、ＺｎＳとＳｉＯ２の混合組成が用いられる。相変化膜は、膜の相変化により非晶状態と結晶状態で反射率差を生じるものであり、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｓｂ−Ｔｅ系、Ａｇ−Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金を用いることができる。
【００８９】
本願発明の光ディスクは、情報記録部位が二つ以上形成されていても良い。例えば、再生専用光ディスクの場合には、ピットを有する基板上に、第一の光反射層、第一の光透過層が積層され、当該第一の光透過層上又は他の層を積層し、当該層上に第二の光反射層、第二の光透過層を形成してもよい。この場合には第一の光透過層やこれに積層する他の層上にピットが形成される。また、記録・再生可能な光ディスクの場合は、基板上に、情報記録層、光反射層及び光透過層が積層された構成を有するものであるが、当該光透過層上に更に、第二の光反射層、第二の情報記録層、第二の光透過層を形成して二層の情報記録層を有する構成、あるいは、同様に層を積層して三層以上の情報記録層を有する構成としてもよい。複数層を積層する場合には、各層の層厚さの和が上記の厚さになるように適宜調整すればよい。
【００９０】
また、本発明の光ディスクにおいては、光透過層が最表面の層であってもよいが、更にその表層に表面コート層を設けてもよいが、光透過層を最表層とすることで工程が簡略化できるため好ましい。
【００９１】
本発明の光ディスクは、１００μｍ厚の光透過層を有する光ディスクを、８０℃８５％ＲＨ２４０時間の高温高湿環境下に曝露した後の反射率変化量が、４．０％以下であることが好ましく、２．０％以下であることが特に好ましい。
【００９２】
本発明の光ディスクは、１００μｍ厚の光透過層を有する光ディスクを、８０℃８５％ＲＨ２４０時間の高温高湿環境下に曝露した後の反り変化量が±１．０°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることが特に好ましい。さらに、２５℃８５％RHから２５℃３０％RHのように湿度のみを急激に変化させた場合の反り変化量のついても、±１．０°以内であることが好ましく、±０．５°以内であることが特に好ましい。
【００９３】
また、光透過層を１０日間蛍光灯暴露した際の反射率変化量化が、４．０％以内であることが好ましく、２．０％以内であることが特に好ましい。
【００９４】
本発明の光ディスクには、再生専用のディスクと、記録・再生可能なディスクがある。再生専用のディスクは、１枚の円形樹脂基板を射出成形する際に、情報記録層であるピットを設け、次いで該情報記録層上に光反射層を形成し、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。また、記録・再生可能なディスクは、１枚の円形樹脂基板上に光反射層を形成し、次いで相変化膜、又は光磁気記録膜等の情報記録層を設け、更に、該光反射層上に紫外線硬化型組成物をスピンコート法等により塗布した後、紫外線照射により硬化させて光透過層を形成することにより製造することができる。
【００９５】
光反射層上に塗布した紫外線硬化型組成物を紫外線照射することにより硬化させる場合、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。
【００９６】
紫外線を照射する場合、積算光量は０．０５〜１Ｊ／ｃｍ２となるようにコントロールするのが好ましい。積算光量は０．０５〜０．８Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．０５〜０．６Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。本発明の光ディスクに使用する紫外線硬化型組成物は、積算光量が少量であっても、十分に硬化し、光ディスク端面や表面のタックが発生せず、更に光ディスクの反りや歪みが発生しない。
【００９７】
［実施態様］
以下、本発明の光ディスクの具体例として、単層型光ディスク及び二層型光ディスクの具体的構成の一例を以下に示す。
【００９８】
本発明の光ディスクのうち、単層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図１に示したように、基板１上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う構成が例示できる。図中の凹凸は、記録トラック（グルーブ）を模式的に表したものである。光透過層３は、本発明の紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、その厚さは１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【００９９】
図２は図１に示した構成の最表層にハードコート層４を設けた構成である。ハードコート層は、高硬度で、耐摩耗性に優れる層であることが好ましい。ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましく、３〜５μｍであることがより好ましい
多層型光ディスクの好ましい実施態様としては、例えば、図３に示したように、基板１上に、光反射層５と、光透過層６とが積層され、さらにその上に、光反射層２と、光透過層３とが積層され、光透過層３側からブルーレーザーを入射して情報の記録又は再生を行う二層型光ディスクの構成が例示できる。光透過層３及び光透過層６は、紫外線硬化型組成物の硬化物からなる層であり、少なくともいずれかの層が本発明の紫外線硬化型組成物からなる層である。層の厚さとしては、光透過層３の厚さと光透過層６の厚さの和が１００±１０μｍの範囲である。基板１の厚さは１．１ｍｍ程度、光反射膜は銀等の薄膜である。
【０１００】
当該構成の二層型光ディスクにおいては、記録トラック（グルーブ）が、光透過層６の表面にも形成されるため、光透過層６は、接着性に優れる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層の上に、記録トラックを好適に形成できる紫外線硬化型組成物の硬化膜からなる層を積層した複層で形成されていてもよい。また当該構成においても最表層にハードコート層が設けられていてもよい。
【０１０１】
図１に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形することによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜する。この上に本発明の紫外線硬化型組成物を塗布し、ディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させ、光透過層３を形成し、図１の光ディスクを作製する。図２の光ディスクの場合には、この上に更にスピンコート等によりハードコート層４を形成する。
【０１０２】
図３に示す光ディスクの製造方法を以下に説明する。
まず、ポリカーボネート樹脂を射出成形にすることによって、記録トラック（グルーブ）と呼ばれるレーザー光をトラッキングするための案内溝を有する基板１を作製する。次に、基板１の記録トラック側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層６を成膜する。
【０１０３】
この上に、本発明の紫外線硬化型組成物又は任意の紫外線硬化型組成物の光透過層５を形成するが、その際に型を用いて表面に記録トラック（グルーブ）を転写する。記録トラック（グルーブ）を転写する工程は次の通りである。基板１に形成された光反射層６上に紫外線硬化型組成物を塗布し、その上に記録トラック（グルーブ）を形成するための型と貼り合わせ、この貼り合わせたディスクの片面または両面から紫外線を照射して、紫外線硬化型組成物を硬化させる。その後、型を剥離して、光透過層５の記録トラック（グルーブ）を有する側の表面に、銀合金などをスパッタまたは蒸着することにより光反射層２を成膜し、この上に、紫外線硬化型組成物を塗付した後、紫外線照射により硬化させ、光透過層３を形成することで、図３の光ディスクを作製できる。また、光反射層に相変化型記録層を用いる場合でも上記と同様の方法により光ディスクを作成することができる。
【実施例】
【０１０４】
次に、合成例及び実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。
【０１０５】
下記表１に示した組成（表中の組成の数値は質量部を表す）により配合した各組成物を６０℃で３時間加熱、溶解して、実施例１〜５及び比較例１〜５の各実施例及び比較例の紫外線硬化型組成物を調製した。得られた組成物について、下記の評価を行い、得られた結果を表１〜２に示す。
【０１０６】
＜粘度の測定方法＞
紫外線硬化型組成物について、２５℃における粘度をＢ型粘度計（（株）東京計器製、ＢＭ型）を用いて測定した。
【０１０７】
＜透明性評価＞
紫外線硬化型組成物について、調整した組成物の透明性を外観目視により観察した。
【０１０８】
＜弾性率の測定方法＞
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に硬化塗膜が１００±１０μｍになるように塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率をティー・エイ・インストルメント（株）社の自動動的粘弾性測定装置で測定し、２５℃における動的弾性率Ｅ’を弾性率とした。
【０１０９】
＜光ディスクの作成条件＞
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの光ディスク基板を準備し、銀を主成分とするビスマスとの合金を２０〜４０ｎｍの膜厚でスパッタした後、該金属反射膜上に、表２の各紫外線硬化型組成物をスピンコーターで膜厚が硬化後に１００±１０μｍになるように塗布し、コールドミラー付きメタルハライドランプ１２０Ｗ／ｃｍを用いて照射量５００ｍＪ／ｃｍ２（アイグラフィックス社製光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を２回照射、硬化して試験用ディスクサンプルを得た。
【０１１０】
＜光ディスクの耐久試験＞
各サンプルについて環境試験器「ＰＲ−２ＰＫ」（エスペック（株））を使用して、８０℃８５％ＲＨ２４０時間の高温高湿環境下での曝露（耐久試験）を行った。
【０１１１】
試験前後のサンプルについて、光透過層の側から、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）で４０５ｎｍにおける正反射率を測定し、下記基準に基づき評価を行った。
○：試験前後の反射率の変化が１．０％以内
×：試験前後の反射率の変化が１．０％を越える
【０１１２】
同様の試験前後のサンプルについて、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い、反りの変化量を測定した。半径位置が４０ｍｍから４５ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から反り変化量を測定し、下記基準に基づき評価を行った。
○：試験前後の反りの変化が±１．０°以内
×：試験前後の反りの変化が±１．０°を越える
【０１１３】
＜光ディスクの湿度ショック試験＞
各サンプルについて環境試験器「ＰＲ−２ＰＫ」（エスペック（株））を使用して、２５℃８５％ＲＨ４８時間経過した後、２５℃３０％ＲＨまで急速に湿度のみを下げた。（湿度ショック試験）。環境試験器から取り出して３時間後に、Ｄｒ．Ｓｃｈｗａｂ社製 Ａｒｇｕｓ Ｂｌｕ を用い反り測定をおこなった。半径位置が４０ｍｍから４５ｍｍ位置でのＲａｄｉａｌ Ｔｉｌｔの平均値から試験前後の反り変化量を求め、前述の評価基準に基づき反り変化を評価した。
【０１１４】
＜光ディスクの摩耗試験＞
各サンプルについて、テーバー摩耗試験器ロータリアブレッサー（（株）東洋精機製）にて摩耗輪ＣＳ−１０Ｆを用い加重２５０ｇにて５０回転摩耗した。その後、ＪＩＳ Ｋ７１０５に従い、分光光度計「ＵＶ−３１００」（島津製作所（株）製）にて４０５ｎｍにおける全光線透過光量と拡散光量を測定し拡散透過率を算出し、下記基準に基づき評価を行った。
○：試験前後の拡散透過率が ２．０以内
×：試験前後の拡散透過率が ２．０を越える
【０１１５】
【表１】
【０１１６】
【表２】
【０１１７】
表中の記号は以下のとおりである。
・ＵＥ−８０８０：大日本インキ化学工業（株）製 変性ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（式（iii）におけるＡ２がエチレングリコールとアジピン酸からなるポリエステルジカルボン酸であり、Ｂ１が式（iv）（式（iv）中のＥ２が−Ｃ（ＣＨ３）２−、i２が０）で表される基であるエポキシ（メタ）アクリレート）
・Ｖ−５８１０:大日本インキ化学工業（株）製 エポキシアクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂のグリシジル基に直接アクリル酸が付加した構造のエポキシアクリレート／トリシクロデカンジメタノールジアクリレート／フェノキシエチルアクリレート＝７／３／３質量比の混合物）
・ＵＡ１：ポリテトラメチレングリコール（Ｍｗ８５０）１モルとトリレンジイソシアネート２モル反応後ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて得たウレタンアクリレート
・ＵＡ−１６０ＴＭ：新中村化学工業（株）製 ウレタンアクリレート（ポリテトラメチレングリコール（Ｍｗ９００）１モルとイソホロンジイソシアネート２モル反応後ヒドロキシエチルアクリレート２モルを反応させて得たウレタンアクリレート）
・ＵＡ２：カプロラクトン変性したヒドロキシエチルアクリレート２モルとトリレンジイソシアネート１モルを反応させて得たウレタンアクリレート
・Ｐｈ４０１７：コグニス製 １，６−ヘキサンジオールジアクリレート
・ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート
・ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
・ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレート
・ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
・ＰＨＥ：大阪有機化学工業（株）製 フェノキシエチルアクリレート
・Ｖ−１５０：大阪有機化学工業（株）製 テトラヒドロフルフリールアクリレート
・Ａ−ＣＭＰ−１Ｅ：新中村化学工業製 パラクミルフェノキシエチレングリコールアクリレート
・ＨＥＡ：２−ヒドロキシエチルアクリレート
・Ｉｒｇ１８４：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
・Ｄｏｒｏｃｕｒｅ１１７３：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
・ＴＥＧＯ Ｒａｄ ２２００Ｎ：反応性ポリシロキサン、ｄｅｇｕｓｓａ製、
＊式（１）におけるｎが３、ｎ／ｍが１／１０、Ｒ１が−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｘ１−（式中、Ｘ１は平均２０個の−ＯＣ２Ｈ４−と平均６個の−ＯＣ３Ｈ６−がランダムに結合した基を表す。なお、Ｘ１は式（１）中のアクリロイル基と結合する。）、Ｒ２が水素原子である化合物であり、数平均分子量４０００である化合物。
【０１１８】
表１〜２に示すように、実施例の光ディスクは、光透過性に優れ、耐久試験後の反射率変化や反り変化、温度ショック時における反り変化が小さく、耐久試験において良好な結果を示した。また、耐摩耗性試験においても優れた耐摩耗性を示した。一方、シリコーン化合物を含有しない比較例２の光ディスクは耐摩耗性が良好でなく、更にエポキシアクリレートを含有しない比較例１の光ディスクは、耐摩耗性が劣ると共に、反射率の変化が大きいものであった。また、シリコーン化合物を含有せず、単に弾性率を向上させた比較例３及び４の光ディスクは耐久試験時の反り変化が大きく、光透過層へ適用できないものであった。また、ウレタンアクリレートを含有しない比較例５の光ディスクは、耐久試験時の収縮を緩和できず、反りが大きいものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１１９】
【図１】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図２】本発明の単層型光ディスクの一例を示す図である。
【図３】本発明の二層型光ディスクの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１２０】
１ 基板
２ 光反射層
３ 紫外線硬化型組成物の光透過層
４ ハードコート層
５ 光反射層
６ 紫外線硬化型組成物の光透過層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも光反射層と、光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
前記光透過層が紫外線硬化型組成物の硬化物からなり、厚さが７０〜１１０μｍ、２５℃における弾性率が１００〜２０００ＭＰａであり、
前記紫外線硬化型組成物が、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アクリレートモノマー及び式（１）
【化１】
（式中、Ｘは式（２）
【化２】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１８のアルキレン基、及び、炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結された構造を有する２価の基から選択される１種又は２種以上の基を連結させた２価の基を表し、Ｒ１はＳｉと直結していてもよいし、酸素原子を介して結合していてもよく、Ｒ２は水素原子又はメチル基を表す。）
で表されるｎ個の構造単位、
及び、式（３）
【化３】
で表されるｍ個の構造単位が、ランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。また、式（２）及び式（３）で表される構造単位は、これらの構造単位同士で、又は分子内の他の構造部分と酸素−酸素結合により連結することはない。）
で表されるシリコーン化合物を含有し、２５℃におけるＢ型粘度が８００〜３０００ｍＰａ・Ｓであることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
前記紫外線硬化型組成物中の式（１）で表されるシリコーン化合物の含有量が、紫外線硬化性組成物に対して０．０５〜５質量部である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
前記式（１）で表されるシリコーン化合物の数平均分子量が２０００〜１２０００である請求項１又は２に記載の光ディスク。
【請求項４】
前記紫外線硬化型組成物が、前記エポキシ（メタ）アクリレートを紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の４５〜８０質量％、前記ウレタン（メタ）アクリレートを紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の５〜２０質量％含有し、前記アクリレートモノマーとして二官能（メタ）アクリレートを紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の３〜４０質量％含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項５】
前記エポキシ（メタ）アクリレートが、下式（iii）で表されるエポキシ（メタ）アクリレートである請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク。
【化４】
［式（iii）中、Ａ２は、下式（v）
【化５】
（式（v）中、Ｊ１は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ１は、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基又は−（Ｒ２Ｏ）ｐ−Ｒ２−（Ｒ２は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数である。）で表される基であり、ｋ１は１〜２０の整数を表す。）
で表わされる基であり、Ｂ１は式（iv）
【化６】
（式（iv）中、Ｅ２は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｉ２は０〜８の整数を表す。）
で表される基であり、Ｄ２はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。］
【請求項６】
前記ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が５００〜２００００である請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項７】
前記ウレタン（メタ）アクリレートが、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とから得られるウレタン（メタ）アクリレート、又は、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個のイソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートである請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項１】
基板上に、少なくとも光反射層と、光透過層とが積層され、前記光透過層側からブルーレーザーを入射して情報の再生を行う光ディスクであって、
前記光透過層が紫外線硬化型組成物の硬化物からなり、厚さが７０〜１１０μｍ、２５℃における弾性率が１００〜２０００ＭＰａであり、
前記紫外線硬化型組成物が、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アクリレートモノマー及び式（１）
【化１】
（式中、Ｘは式（２）
【化２】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜１８のアルキレン基、及び、炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結された構造を有する２価の基から選択される１種又は２種以上の基を連結させた２価の基を表し、Ｒ１はＳｉと直結していてもよいし、酸素原子を介して結合していてもよく、Ｒ２は水素原子又はメチル基を表す。）
で表されるｎ個の構造単位、
及び、式（３）
【化３】
で表されるｍ個の構造単位が、ランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。また、式（２）及び式（３）で表される構造単位は、これらの構造単位同士で、又は分子内の他の構造部分と酸素−酸素結合により連結することはない。）
で表されるシリコーン化合物を含有し、２５℃におけるＢ型粘度が８００〜３０００ｍＰａ・Ｓであることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
前記紫外線硬化型組成物中の式（１）で表されるシリコーン化合物の含有量が、紫外線硬化性組成物に対して０．０５〜５質量部である請求項１に記載の光ディスク。
【請求項３】
前記式（１）で表されるシリコーン化合物の数平均分子量が２０００〜１２０００である請求項１又は２に記載の光ディスク。
【請求項４】
前記紫外線硬化型組成物が、前記エポキシ（メタ）アクリレートを紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の４５〜８０質量％、前記ウレタン（メタ）アクリレートを紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の５〜２０質量％含有し、前記アクリレートモノマーとして二官能（メタ）アクリレートを紫外線硬化型組成物に含まれる紫外線硬化性化合物中の３〜４０質量％含有する請求項１〜３のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項５】
前記エポキシ（メタ）アクリレートが、下式（iii）で表されるエポキシ（メタ）アクリレートである請求項１〜４のいずれかに記載の光ディスク。
【化４】
［式（iii）中、Ａ２は、下式（v）
【化５】
（式（v）中、Ｊ１は、水素原子が炭素数１〜６のアルキル基により置換されていても良い２価の芳香族炭化水素基又は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１０の２価の脂肪族炭化水素基を表し、Ｌ１は、分岐鎖を有していても良い炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基又は−（Ｒ２Ｏ）ｐ−Ｒ２−（Ｒ２は分岐鎖を有していても良い炭素数２〜８のアルキレン基を表し、ｐは１〜１０の整数である。）で表される基であり、ｋ１は１〜２０の整数を表す。）
で表わされる基であり、Ｂ１は式（iv）
【化６】
（式（iv）中、Ｅ２は−ＳＯ２−、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−又は−Ｃ（ＣＨ３）２−を表し、ｉ２は０〜８の整数を表す。）
で表される基であり、Ｄ２はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表す。］
【請求項６】
前記ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が５００〜２００００である請求項１〜５のいずれかに記載の光ディスク。
【請求項７】
前記ウレタン（メタ）アクリレートが、分子内に２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個以上のヒドロキシル基を有する化合物とから得られるウレタン（メタ）アクリレート、又は、ヒドロキシル基と（メタ）アクリロイル基とを有する化合物と、分子内に２個のイソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレートである請求項１〜６のいずれかに記載の光ディスク。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１０−４４８５２（Ｐ２０１０−４４８５２Ａ）
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２２４３７６（Ｐ２００９−２２４３７６）
【出願日】平成２１年９月２９日（２００９．９．２９）
【分割の表示】特願２００９−５０３３４２（Ｐ２００９−５０３３４２）の分割
【原出願日】平成２０年６月２５日（２００８．６．２５）
【出願人】（０００００２８８６）ＤＩＣ株式会社 (2,597)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年２月２５日（２０１０．２．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月２９日（２００９．９．２９）
【分割の表示】特願２００９−５０３３４２（Ｐ２００９−５０３３４２）の分割
【原出願日】平成２０年６月２５日（２００８．６．２５）
【出願人】（０００００２８８６）ＤＩＣ株式会社 (2,597)
【Ｆターム（参考）】
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