【課題】 真空蒸着装置内に存在する微量の酸素が除去でき、駆動耐久性に優れ、しかも発光効率及び発光輝度の高い有機電界発光素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】 一対の電極間に、少なくとも一層の発光層を含む有機化合物層を有する有機電界発光素子の製造方法であって、該電極及び／又は該有機化合物層を真空蒸着製膜する直前及び／又は真空蒸着製膜中に、酸素を吸着又は酸素と反応して二酸化炭素を放出する材料を真空蒸着機中で加熱することを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】再生専用光ディスクにおけるレーザーマーキングが容易にできる光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のスパッタリングターゲットを提供を提供する。
【解決手段】(1) Agを主成分とし、Nd，Sn，Gd，Inの少なくとも１種を合計で3.0 原子％超10原子％以下含有すると共にBiを0.03〜10原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット、(2) Agを主成分とし、Nd，Sn，Gd，Inの少なくとも１種を合計で3.0 原子％超10原子％以下含有すると共にSbを0.01〜３原子％含有することを特徴とする光情報記録用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット、(3) 前記Ag合金スパッタリングターゲットにおいてMn，Cu，La，Znの少なくとも１種を20原子％以下含有するもの等。 （もっと読む）

【目的】成膜対象基板の所望する部位に成膜材料を成膜する際に、マスクの位置合わせや、レーザ走査位置の位置合わせを不要とし、容易な成膜処理を実現する。
【構成】成膜対象となる基板にレーザ光を照射して成膜材料をアブレーションさせて成膜対象基板の成膜対象面に溶射する成膜方法にて、成膜材料から成るターゲット基板と、成膜対象となる基板の成膜面との間にあらかじめ形成すべき成膜パターンに対応した間隙寸法差を形成し、その寸法差による成膜条件の違いを利用して、パターニングを行う。 （もっと読む）

【課題】 蒸着によって有機機能層を形成する際の、蒸着材料の利用効率を高め、膜厚の制御を容易とした、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 隔壁３２に囲まれた複数の画素領域３３を備える素子基板３０に、画素領域３３に有機機能層を蒸着によって形成する。このとき、ボート隔壁ＢＨに囲まれて平面視した状態で画素領域３３に対応した形状となる材料配置部２０が複数備えられ、材料配置部２０に有機機能層１８となる所定量の有機材料１９が設けられた蒸着ボート１０を用意する。そして、蒸着ボート１０の材料配置部２０に素子基板３０の画素領域３３が対向するように、蒸着ボート１０と素子基板３０とを重ね合わせる。その後、蒸着ボート１０を加熱することで、有機材料１９を素子基板１０の画素領域３３に蒸着させ、有機機能層を形成する。 （もっと読む）

【課題】 加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置を提供する。
【解決手段】 上面に複数個の孔が形成された支え台、そして支え台の各孔の入口に配置され、孔に対応する開口部と孔内壁に沿って延びる遮断部を備えた汚染防止板を備えることを特徴とする蒸着装置の加熱容器支持台である。これにより、加熱容器支持台の孔の縁部近傍への蒸着物質の付着が防止されて、維持、管理及び使用が容易である。 （もっと読む）

シート状基材を処理するための方法および設備を提供する。前記方法および設備は、シート状基材の両主表面上へのコーティングの蒸着に有用である。また、両主表面上にコーティングを有する基材を提供する。好ましくは、基材の対向する主表面上のコーティングは、構造が異なるが、少なくとも２つの膜領域、いくつかの実施形態においては、少なくとも３つの膜領域の構造配列が共通している。
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【課題】大面積の基板をコーティングするためのプラズマ励起装置を改善する。
【解決手段】プラズマ励起装置１にはＤＣ給電部２が配置され、ＤＣ給電部２は電源端子３に接続される。ＤＣ給電部２に対して、並列に第１のＭＦユニット４と第２のＭＦユニット８が設けられ、コーティングチャンバ７内に複数の電極５，６，９，１０が配属される。 （もっと読む）

【課題】大面積、三次元形状に高密度の薄膜の硬質炭素膜の成膜法及び成膜装置を提供すること。
【解決手段】基板表面に、粒径５００ｎｍ以下の超微粒子を含んだガスクラスターのイオンビームを照射することにより、超微粒子若しくは超微粒子とガスの化合物を形成し、超微粒子がグラファイト、カーボンナノチューブ、Ｃｎ（但し、ｎは６０、７０、７６、８４等より選ばれた整数である。）で表される球状炭素類、ガスがアルゴンから成る硬質炭素膜の成膜方法を用い、ガスクラスターイオンビーム装置において、ガスボンベとガスクラスター発生部の間に、粒径５００ｎｍ以下の超微粒子供給手段を備えるよう構成する。 （もっと読む）

【課題】 充分な耐熱性や耐食性を有した低抵抗なＡｇ合金膜と、そのＡｇ合金膜の基板に対する密着性を高いレベルで確保できる新規な積層配線膜を提供する。
【解決手段】 基板上に形成される積層配線膜であって、０．１〜０．５原子％のＳｉおよび／またはＺｒ、０．１〜０．５原子％のＣｕを含有し、残部実質的にＡｇからなるＡｇ合金膜と該Ａｇ合金膜を覆う被覆膜からなり、該被覆膜はＭｏあるいはＭｏを５０原子％以上含有するＭｏ系膜である積層配線膜である。 （もっと読む）

【課題】 製造コストの高騰を招くことなく、既存の成膜用マスクを用いて、成膜工程の処理当初から高品質の成膜パターンを形成する。
【解決手段】 製造装置１０は、基板上に成膜用マスクを用いて自発光素子の構成要素となる成膜パターンを形成する真空成膜室１１、成膜用マスクを真空成膜室１１に配備する前に加温するマスク加温室１２を備えており、ロボットアーム等の搬送手段を配備した真空作業室１３の周りに真空成膜室１１とマスク加温室１２が配置されている。 （もっと読む）

【課題】表面が平滑で、非晶質であり、かつ、成膜時に基板を加熱しなくても比抵抗が小さい透明導電性薄膜を提供する。
【解決手段】インジウム、タングステン、亜鉛、チタン、酸素からなり、インジウムに対して、原子数比で、タングステンが０．００４〜０．０３４、亜鉛が０．００５〜０．０３２、チタンが０．００８〜０．０３９の割合で含有される酸化物焼結体を用いてスパッタリングターゲットを作製する。作製したスパッタリングターゲットを用いてスパッタリングを実施して、透明導電性薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化に対応するための垂直移動型有機物蒸着装置において、蒸着源から噴射される有機気相物質が真空チャンバ内で飛散して蒸着源を上下方向に移動させる駆動軸に付着することを防止することができる蒸着システム用蒸着源の駆動軸密閉装置及びこれを具備した蒸着システムを提供する。
【解決手段】蒸着システムの真空チャンバに設置された駆動軸に結合する結合部と、連結部を介して前記結合部に連結されて前記真空チャンバで有機気相物質を噴射する蒸着源を支持する支持板を有して前記連結部には貫通口が形成されている支持体；と、前記駆動軸を取り囲んで前記支持体が前記駆動軸にしたがって移動可能になるように一側面が開放されているビーム；と、前記貫通口を貫通する遮断板；とでなる蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システムを提供する。 （もっと読む）

【課題】 マスクにおける撓み発生を防止ないし抑制し、高精度な蒸着等の成膜を容易に行うことができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明のマスク１００は、ベース基板１とマスク本体基板３との間に金属膜２を有してなり、ベース基板１は開口部１０を有し且つ硼珪酸ガラスを構成材料としてなる一方、金属膜２はベース基板１の開口部１０と連通する開口部２０を有し、マスク本体基板３は、開口部１０及び開口部２０の平面視内側に位置する所定パターンの開口部群３１を有し且つ硼珪酸ガラスを構成材料としてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比抵抗が小さく、膜表面が平滑であり、さらに可視光領域の光透過率が高い非晶質透明導電性薄膜を製造することができる酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】インジウム、タングステン、亜鉛、ゲルマニウムから構成し、タングステンをＷ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０２３の割合、亜鉛をＺｎ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０３２の割合、ゲルマニウムをＧｅ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０２１の割合で含有させ、かつ、比抵抗を１ｋΩｃｍ以下とした酸化物焼結体とする。 （もっと読む）

【課題】ルツボで気化された蒸着物質による噴射ノズルの詰まりまたはスプラッシュ現象を防止して，基板に形成される有機物層の均一度を高めることができる蒸発源の加熱制御方法，蒸発源の冷却制御方法および蒸発源の制御方法を提供すること。
【解決手段】バッファー領域と成膜領域とを有する蒸着システムで，蒸着物質を収容するルツボ２２と，上記ルツボで気化された上記蒸着物質を案内する誘導路２４と，上記誘導路に案内された上記蒸着物質を噴射する噴射ノズル部２６と，を具備した蒸発源２０の加熱制御方法において，ａ）上記誘導路および噴射ノズル部を加熱する段階と，ｂ）上記ａ段階の後に，上記ルツボを加熱する段階と，を含む。 （もっと読む）

【課題】所定のパターンが形成されたパターン形成部を有するマスクを，そのパターンに損傷を及ぼすことなくマスクフレームに固定する。
【解決手段】本発明は，パターン形成部と，パターン形成部を囲繞する枠部とを有するマスクを固定するマスクフレーム１５において：パターン形成部に対応する開口部１５ａと，枠部に対応する台部１５ｂとが設けられ，台部には，排気用の貫通孔１５ｃが設けられているマスクフレームを提供する。かかる構成によれば，マスクの枠部とマスクフレームの台部とが対向するようにマスクおよびマスクフレームを設置し，真空吸着方式を用いて枠部と台部との間の空気をマスクフレームの台部に設けられた貫通孔を通じて排気することにより，マスクとマスクフレームとが密着される。これにより，所定のパターンが形成されたパターン形成部を有するマスクを，そのパターンに損傷を及ぼすことなくマスクフレームに固定することができる。 （もっと読む）

【課題】素子の製造等においてクラスターイオンを加速するに際し、加速電圧を変えることなくクラスターを構成する原子１個当たりのエネルギーを向上させることが可能となるクラスターのイオン化方法および装置、これらによりイオン化されたクラスターを用いた膜形成方法、エッチング方法、表面改質方法、洗浄方法を提供する。
【解決手段】クラスターのイオン化方法または装置において、クラスターイオンビーム源５を備え、該クラスターイオンビーム源を、クラスターに照射される光の波長を内殻電子による電離が起きるエネルギー持つ波長範囲に制御可能とした波長制御機構（回折格子，アパチャースリット）を有する構成とし、オージェ過程を利用してクラスターを多価にイオン化するように構成する。 （もっと読む）

【課題】自由度の高いパターニング方法に用いるパターニング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るパターニング装置は、圧力を調整可能な真空チャンバーと、材料供給源に接続され、かつ前記真空チャンバーに取り付けられ、前記真空チャンバー内に前記材料供給源からの材料を供給するノズルと、前記真空チャンバー内に設けられた、基体を保持固定するための基体ステージと、を備えている。 （もっと読む）

基板上に、第１の金属成分からなる金属部分と、上記第１の金属成分とは異なる第２の金属成分の化合物からなる金属化合物部分とが互いに混合分散してなる複合薄膜を形成し、次いで上記複合薄膜中の金属成分を除去すること、又は基板上に、第１の金属成分からなる第１の金属部分と、上記第１の金属成分とは異なる第２の金属成分からなる第２の金属部分とが互いに混合分散してなる複合薄膜を形成し、次いで上記複合薄膜中の第１又は第２のいずれかの金属部分のみを除去することを特徴とする多孔質薄膜の形成方法を提供する。
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【課題】 厚さの薄い基板に光学多層膜を形成する場合でも、片面のみの成膜で基板の反りを防止し、光学多層膜の光学特性を長期間安定させ、また、生産コストを低減させることが可能な光学多層膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 真空槽１１内に基板保持部材１４が配設され、該基板保持部材１４に取り付けられた基板２上に、屈折率の異なる低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層する光学多層膜の形成方法において、少なくとも高屈折率層を形成する際に、真空槽１１内にプロセスガスを導入し、真空槽１１内の成膜真空度を０．０６Ｐａ以上０．１５Ｐａ未満になるようにプロセスガスの導入量を制御する工程と、基板２に対向して設けられたプラズマガン２１よりプラズマを発生させる工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）