【課題】
可視光線反射率、反射膜のガラスへの密着性、反射膜の硬度、耐高温・高湿性に関し、リアプロジェクションテレビに用いることのできる性能を有する表面鏡を提供する。
【解決手段】
ガラス基板にＣｒ膜、Ａｌ膜、ＳｎＯｘ(ただし０＜ｘ≦２)膜、ＴｉＯｙ（ただし０＜ｙ≦２）膜を、この順にスパッタリング法を用いて積層し、可視光線反射率が９０％以上で、Ａｌ膜が、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄの１種以上を５重量％以下でＡｌに含まれてなる表面鏡。 （もっと読む）

【課題】蒸着率が一定であり，再現性の良い蒸着ソースおよびそれを備えた蒸着装置を提供すること。
【解決手段】開口部を有する加熱容器１３，２３と，加熱容器１３，２３の開口部に結合される，加熱容器１３，２３の開口部の長手方向に沿って複数の孔１７，２７が形成されたカバー１５，２５と，を備え，加熱容器１３，２３の開口部の長手方向に沿って，カバー１５，２５に形成された互いに隣接した孔１７，２７間の距離が変わることを特徴とする蒸着ソースである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板上に略均一な厚さとなるよう再現性良く、蒸着膜を蒸着することのできる蒸着装置を提供することを課題とする。。
【解決手段】 蒸着材料を収容する収容部１０１と、収容部１０１を加熱する加熱手段１０３と、収容部１０１にキャリアガスを導入するためのガス導入口１０１Ａと、キャリアガスにより、気化又は昇華された蒸着材料を放出する放出口１０１Ｂと、放出口１０１Ｂに設置され、収容部１０１内の圧力を調整する圧力調整手段１０４と、収容部１０１を冷却する冷却部１０８とを備えた蒸着源を複数設け、複数の蒸着源を断熱部材１１０を介して供給用管路９２に接続した。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に成膜される多層膜の膜厚を一様な厚さにし、不良品となる光学素子を少なくすることができる光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１には、所定間隔で互いに直交する溝２の列が形成されている。この基板１の溝２が形成されている面に、スパッタリングにより多層膜３を形成する。この多層膜３は、溝２の底部にも僅かに形成されるが、溝２の深さを多層膜３の総膜厚に対して十分大きくしておけば、（ｃ）に示すように、多層膜３は、溝２で分断されたような状態となり、基板１全体を覆うような大きさにはならない。よって、多層膜３の膜応力も小さくなり、基板１を変形させるようなものとはならない。従って、従来技術と異なり、基板１とターゲットとの間隔が、基板１の成膜面内で異なることが無く、基板１に均一な厚さの膜が成膜される。 （もっと読む）

【課題】ＮをドープしたＺｎＯ膜を高速かつ安定して成膜する方法を提供する。
【解決手段】カバー２６内部におけるターゲット２１ａ，２１ｂの上方に基板１を配置し、ポンプによってカバー２６内を真空にした後、アルゴン等の不活性ガス中に酸素及び窒素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。Ｚｎよりなる第１、第２のターゲット２１ａ，２１ｂに、交互にパルスパケット状の電圧を印加する。ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ時におけるＺｎの放電の発光波長と発光強度が、ＰＥＭ３１ａ，３１ｂによって検知される。各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に供給する酸素量及び窒素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 （もっと読む）

【課題】所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得る。
【解決手段】 部材の表面に、蒸着法によって、単に、光触媒膜、親水性膜をこの順で積層した構造の膜を形成しても、実質的に光触媒作用が発現されそれによる効果が発現されるとは言えない部材に関し、部材の表面粗さを各種材料に適した方法によって、また所望する光触媒性能やコスト増等を勘案して、部材の表面粗さを本願所定の範囲内（算術平均表面粗さＲａで０．７８μｍ以下）で微妙に調整することによって、所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】被処理体の凹部の開口にオーバハング部分を生ずることなく、この凹部の側壁に均一に金属膜を形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】真空引き可能になされた処理容器１４内でプラズマにより金属ターゲット５６をイオン化させて金属イオンを発生させ、金属イオンを処理容器内の載置台２０上に載置した被処理体にバイアス電力により引き込んで凹部２が形成されている被処理体に金属膜６、７０を堆積させるようにした成膜方法において、載置台に、金属イオンに対する引き込みによる成膜とプラズマガスによるスパッタエッチングとが同時に生ずるような大きさのバイアス電力を加えて、凹部の側壁に金属膜を堆積させる成膜工程を行う。これにより、凹部の開口にオーバハング部分を生ずることなく、この凹部の側壁に均一に金属膜を形成する。 （もっと読む）

本発明は、Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）／２}（ＺｎＯ）_ｍ、０＜Ｘ＜２、Ｙ＝２−Ｘ、１≦ｍを満たす酸化亜鉛を主成分とする化合物を含有し、さらにカルコゲン化亜鉛を含む、相対密度９０％以上、バルク抵抗値０．１Ωｃｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、また膜厚を薄く調整でき、さらにスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減させ、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり高密度のスパッタリンダターゲット及びその製造方法並びに、特に保護膜としての使用に最適である光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法を得る。 （もっと読む）

【課題】高価で資源枯渇の懸念のあるＩｎ原料を有しない又は極力減少せしめる透明導電体の開発において、母材透明導電体に対して、適切ドーパント量が一義的に決まってしまう単一ドーピングによる材料開発手法の限界を超えると共に、制御困難なドーパントに頼ることなく、濃度制御容易なドーパントによって、従来方法では実現できなかった低抵抗率等の透明導電体として必要な特性を有する新規透明導電体を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化亜鉛、酸化インジウム及び酸化ガリウムからなる透明導電体であり、酸素を除き、インジウムの元素濃度が０．５〜１．５原子％、ガリウムの元素濃度が０．５〜３．５原子％であり、残余が亜鉛であることを特徴とする低抵抗率透明導電体。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ターゲットの消耗量を減らすことができ、被蒸着物と蒸着膜との密着力を向上させることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着装置は、前記被蒸着物を収容する第１真空チャンバーと；前記第１真空チャンバー内に設けられ前記被蒸着物に蒸着粒子を放出するターゲットと；前記ターゲットを支持し前記ターゲットから前記蒸着粒子を放出させるスパッタソースと；前記第１真空チャンバーと連通するように設けられる第２真空チャンバーと；前記第２真空チャンバーに結合され前記被蒸着物にイオンビームを放出するイオンビームソースと；を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属をドープしたＴｉＯ_２膜を高速にて成膜する方法を提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_ｘ（但し、ｘは０．５以上１．９９以下）よりなる第１のターゲット２１ａと、金属をドープしたＴｉＯ_ｘ（但し、ｘは０．５以上１．９９以下）よりなる第２のターゲット２１ｂに、交互にパルスパケット状の電圧を印加する。ターゲット２１ａのスパッタ時におけるＴｉの放電の発光波長と発光強度が、ＰＥＭ３１ａによって検知される。また、ターゲット２１ｂのスパッタ時におけるＴｉ及びドープ金属の放電の発光波長と発光強度が、コリメータ３０ｂ、フィルタ及び光倍増幅管を介して電気信号となり、ＰＥＭ３１ｂによって検知される。各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に導入する酸素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 （もっと読む）

改善された散乱特性及び高屈折率を有するジルコニウム酸化物系の高い温度耐性被膜は、タンタル、及び／又はタンタル酸化物からなる群からの少なくとも１つの添加物を有するジルコニウム酸化物からなり、それによって、被膜における全金属原子に比較して、Ta原子の比率が、５〜３０％の範囲であることを特徴とする。
（もっと読む）

本発明は、Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）／２}（ＺｎＯ）_ｍ、１＜ｍ、Ｘ≦ｍ、０＜Ｙ≦０．９、Ｘ＋Ｙ＝２を満たす酸化亜鉛を主成分とした化合物を含有し、かつ相対密度が８０％以上であることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。ＺｎＳとＳｉＯ_２を含まないＺｎＯベースのスパッタリングターゲットであり、スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、膜厚を薄く調整でき、またスパッタ特に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり８０％以上、特に９０％以上の高密度を備えたスパッタリングターゲットを得る。 （もっと読む）

【課題】複数のロボット及び成膜室での位置決め機構が不要で安価であるとともに、位置決め時間を要さず、有機ＥＬ素子の生産性を向上させることができる有機ＥＬ素子の製造装置を提供すること。
【解決手段】成膜室内で被処理基板上に被蒸着物をパターニングさせて蒸着させるように、前記被処理基板に相対し且つ前記被蒸着物との間に配置されるマスクと前記マスクを保持するマスク保持部材を有する有機ＥＬ素子を製造する製造装置において、前記マスク保持部材の交換及び前記被処理基板の搬送を行うロボットが前記マスク保持部材と前記被処理基板の両方を掴持でき、且つ、掴持位置を決める。ここで、前記マスク保持部材は、前記被処理基板と同一な形状部位を持つ。 （もっと読む）

【課題】製造と応用の観点から優れたスパッタリングターゲット特性を有する、多相のＣｏ−Ｃｒ−Ｂ−Ｐｔからなる貴金属磁気スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】本製造方法は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｂからなる急冷凝固母合金を生成し、この母合金とＰｔ粉末をボールミルにより機械的に合金化し、ＨＩＰ処理を行って機械的に合金化されたスパッタリングターゲットを緻密にすることにより、スパッタリングターゲットを製造する。母合金には、Ｃｒ，Ｂ，Ｔａ，Ｎｂ，Ｃ，Ｍｏ，Ｗ，Ｚｒ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ｈｆ，Ｏ，Ｓｉ又はＮを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】熱処理（ＨＴ）可能で、熱処理後も耐傷性を有する被膜を提供する。
【解決手段】被膜品は、熱処理（ＨＴ）前に水素化されたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）及び窒化ジルコニウムをそれぞれ含む層を有する。熱処理（ＨＴ）の間、水素化されたダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）は、燃料として働き、酸素とともに燃焼し、二酸化炭素及び／又は水を生成する。前記高温は、この燃焼の間広がり、窒化ジルコニウムを含む層を熱処理温度を上回る温度に熱し、窒化ジルコニウムを含む層を耐傷性と耐久性を有する酸化ジルコニウムを含む新たな熱処理（ＨＴ）後の層に層変態させる。窒化ジルコニウムを含む層及び／又は酸化ジルコニウムを含む層は、フッ素（Ｆ）及び／又は炭素（Ｃ）でドープされていてもよい。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置に適したアニール方法を提供する。
【解決手段】
成膜対象物７１上にマスク１０を配置し、孔１１を通過する有機薄膜材料の蒸気によって有機薄膜層を形成した後、マスク１０と成膜対象物７１との間の相対的な位置関係を変えずに、マスク１０のレーザ光２９を照射する。孔１１を通過したレーザ光２９は孔１１底面に露出する有機薄膜層に照射され、その有機薄膜層のアニールが行われる。アニール後、マスク１０と成膜対象物７１との相対的な位置関係を変えずに、孔１１を通過した有機蒸着材料の蒸気によって、アニール後の有機薄膜層表面に他の有機薄膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ターゲット材料を損傷させることなく成膜速度を上げることができる円筒状ターゲット及び成膜方法を提供する。
【解決手段】実施の形態の円筒状ターゲットによれば、まず、バッキングチューブ１８とターゲット材料２０を接合する接合材を、カーボンシート２２又はインジウム金属とする。次に、ＪＩＳ Ｒ１６１８の規定による２０〜６００℃での平均線膨張率がターゲット材料２０よりも高く、且つ１２×１０^-6／Ｋ以下の材料、例えばチタンによってバッキングチューブ１８を製作する。ターゲット材料２０は、前記平均線膨張率が３．５〜５．５×１０^-6／ＫのＳｉ含浸ＳｉＣで製作されている。 （もっと読む）

【課題】 陰極形成による有機層へのダメージを防止するとともに陰極から有機層への電子注入効率を改善し、素子の発光特性を大幅に改善する。
【解決手段】 有機層と陰極の間に配置された緩衝層が、電子供与性を有するドーパント材が含有された透明導電性有機物で形成されている有機ＥＬ素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】 光学基板上に直接、膜厚が変化する誘電体多層膜を積層させた光波長可変フィルターを製造する。
【解決手段】 光学基板１２を保持する基板ホルダー１１１と、基板ホルダー１１１の中心を軸として回転する自転機構１０８と、基板ホルダー１１１の直下にあり、基板ホルダー１１１の中心部が全開しており、その中心から外側に向かって開口角度が狭くなる開口部を有する遮蔽部材１１２とを設けている成膜製造装置を用いる。光学基板１２を基板ホルダー１１１で保持し、自転機構１０８によって回転させた状態で、蒸着源であるルツボ１０４ａ、１０４ｂから発散して光学基板１２に到達する蒸着物質の量を遮蔽部材１１２の開口部により制限する。 （もっと読む）